经取代的吡唑基吡唑衍生物及其作为除草剂的用途制造技术

本发明专利技术的课题在于提供可有效地防治实用上成为问题的较高叶龄的重要杂草的化合物。本发明专利技术的解决手段是公开可以解决上述课题的式(I)所表示的特定吡唑基吡唑衍生物。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】经取代的吡唑基吡唑衍生物及其作为除草剂的用途
本专利技术涉及经取代的吡唑基吡唑衍生物、及该化合物作为除草剂的利用。
技术介绍
近年来，对于农作物的栽培，使用许多的除草剂而有助于农业劳作的省力化或农作物的生产性提高。在旱田、水稻栽培中已有许多除草剂被实用化。然而，杂草的种类繁多，且各种杂草的发芽和生长时期不同，并且，多年生杂草的发生为长期的。因此以一次除草剂喷洒来防治所有杂草是非常困难的。水稻的早中期单次处理剂在野稗(田犬稗(Echinochloaoryzicola)、犬稗(Echinochloacrus-gallivar.crus-galli)、姫田犬稗(Echinochloacrus-gallivar.formosensis)、姫犬稗(Echinochloacrus-gallivar.praticola)、毛犬稗(Echinochloacrus-gallivar.caudata)的总称)的2～3叶期为止的处理显示为有效的，可以一次处理而防治主要杂草(参考非专利文献1)。但是，对于已实用化的早中期单次处理剂，防治野稗已生长至3.5叶期以上的时期的杂草是非常困难的，对野稗的3叶期时的防本文档来自技高网...

【技术保护点】
下式(I)所示的化合物：

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.01.23 JP 2015-0110401.下式(I)所示的化合物：式中，R1表示氯原子、溴原子，R2表示氰基、硝基，R3表示视情况被1个或更多的卤素原子所取代、或者被视情况被1个或更多的卤素原子所取代的C1～C4烷基所取代的C3～C6环烷基，或者视情况被1个或更多的卤素原子所取代、或者被视情况被1个或更多的卤素原子所取代的C1～C4烷基所取代的C3～C6环烯基，a表示3～5，且b表示0～2，其中，排除R1为氯原子、R2为氰基、R3为环丙基、b为0所示的化合物。2.权利要求1所述的化合物，其中，R1表示氯原子，R3表示视情况被1个或更多的卤...

【专利技术属性】
技术研发人员：松原健，新野诚，
申请(专利权)人：协友株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP