一种高清中性色低辐射镀膜玻璃及制备方法技术

本发明专利技术提供了一种高清中性色低辐射镀膜玻璃及制备方法，属于玻璃生产技术领域。它解决了现有低辐射玻璃清透性差等技术问题。一种高清中性色低辐射镀膜玻璃及其制备方法，其特征在于，所述低辐射玻璃包括玻璃基片层和位于玻璃基片层一侧的镀膜层，所述镀膜层自所述玻璃基片层向外依次复合有十个膜层，其中第一层为ZnSnO/ZnO或两者的混合层，第二层为Ag层，第三层Cu层，第四层为NiCr层,第五层为Fe2O3层,第六层为ZnSnO/ZnO或两者的混合层,第七层为Ag层,第八层为NiCr层，第九层为Fe2O3层，第十层为SiNx层。本发明专利技术具有清透性好等优点。

【技术实现步骤摘要】
一种高清中性色低辐射镀膜玻璃及制备方法
本专利技术属于玻璃生产
，涉及一种高清中性色低辐射镀膜玻璃及制备方法。
技术介绍
现有技术中的Low-E玻璃生产工艺是在优质浮法基片上镀制以Ag为功能层，包含介质层和其它金属层的多层膜系。若按照功能层银的层数来进行划分，Low-E玻璃可以分为单银Low-E玻璃、双银Low-E玻璃、三银Low-E玻璃。目前，单银、双银都是建筑玻璃领域比较成熟的节能方案,三银节能玻璃节能效果优于双银和单银，但三银玻璃膜层结构复杂，工艺控制难度大，因而成本较高。近年来市场上真正能够量产三银的厂家不多，且可供选择的三银品种也不如双银、单银丰富。随着市场逐渐成熟，同质化竞争日趋明显，客户对幕墙的外观颜色的要求也越来越高，但是对于市场上大多数的Low-e双银而言，其普遍存在侧面小角度变色的情况，且膜面(色调重)、透过色(发黄/发绿)视觉效果较差，整体感官浑浊不够清透，另一方面客户对颜色的偏好朝中性色方向发展，市面上少量的中性色高清膜系产品受到客户的追捧，各企业均开展有对双银颜色的改良研发工作。现有的技术存在如下缺点：1)目前虽有双银中性色产品，但总体仍不够清透，存在透过色发黄/发绿的问题。2)目前的双银产品多数存在小角度变色的现象，且膜面色调重，影响装饰效果。3)双银产品总体生产成本仍然较高，民用市场推广缺乏动力。
技术实现思路
本专利技术的目的是针对现有的技术存在的上述问题，提供一种高清中性色低辐射镀膜玻璃及制备方法，本专利技术所要解决的技术问题是如何提高玻璃的清透性能。本专利技术的目的可通过下列技术方案来实现：一种高清中性色低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述低辐射玻璃包括玻璃基片层和位于玻璃基片层一侧的镀膜层，所述镀膜层自所述玻璃基片层向外依次复合有十个膜层，其中第一层为ZnSnO/ZnO或两者的混合层，第二层为Ag层，第三层Cu层，第四层为NiCr层,第五层为Fe2O3层,第六层为ZnSnO/ZnO或两者的混合层,第七层为Ag层,第八层为NiCr层，第九层为Fe2O3层，第十层为SiNx层。其中第一层为第一电介质组合层，第二层为低辐射功能层，第三层为第一阻挡保护层，第四层为透过色改善层，第六层为第二电介质组合层，第七层为低辐射功能层，第八层为第二阻挡保护层，第九层为透过色改善层，第十层为第三电介质层。通过添加、优化膜层材料，在第八层和第十层之间设置Fe2O3层，有效调节380-550nm波段透过率，改善low-e双银透过色及膜面颜色，使其更加清透。一种高清中性色低辐射镀膜玻璃的制备方法，其特征在于，本加工方法包括如下步骤：1)、磁控溅射镀膜层；A、磁控溅射第一层：靶材数量：交流旋转靶4～6个；靶材配置为锌锡(ZnSn)/锌铝(ZnAl)，或者是锌锡(ZnSn)和锌铝(ZnAl)的混合物；工艺气体比例：氩气和氧气，氩气和氧气的比例为1:2，溅射气压为3～5×10-3mbar；镀膜厚度为：45～55nm；B、磁控溅射第二层：靶材数量：交流旋转靶或直流旋转靶1个；靶材料为Ag；工艺气体比例：纯氩气，溅射气压为2～3×10-3mbar；镀膜厚度为：2.0～3.5nm；C、磁控溅射第三层：靶材数量：交流旋转靶1个；靶材料为Cu；工艺气体比例：纯氩气，溅射气压为2～3×10-3mbar；镀膜厚度为：0.5～2nm；D、磁控溅射第四层：靶材数量：交流旋转靶1个；靶材料为NiCr；工艺气体比例：纯氩气，溅射气压为2～3×10-3mbar；镀膜厚度为：1.5～2.5nm；E、磁控溅射第五层：靶材数量：交流旋转靶1个；靶材料为Fe2O3；工艺气体比例：氩气和氧气，氩气和氧气的比例为1:2，溅射气压为3～5×10-3mbar；镀膜厚度为：1.0～2.0nm；不锈钢旋转靶溅射的Fe2O3层不仅能够改善透过性能，而且其价格低廉，能够大幅度的降低玻璃的制备成本。F、磁控溅射第六层：靶材数量：交流旋转靶6～8个；靶材料为锌锡(ZnSn)/锌铝(ZnAl)，或者是锌锡(ZnSn)、锌铝(ZnAl)靶混合使用；工艺气体比例：氩气和氧气，氩气和氧气的比例为1:2，溅射气压为3～5×10-3mbar；镀膜厚度为：65～75nm；G、磁控溅射第七层：靶材数量：交流旋转靶或直流旋转靶1个；靶材料为Ag；工艺气体比例：纯氩气，溅射气压为2～3×10-3mbar；镀膜厚度为：15～20nm；H、磁控溅射第八层：靶材数量：交流旋转靶1个；靶材料为NiCr；工艺气体比例：纯氩气，溅射气压为2～3×10-3mbar；镀膜厚度为：1.4～3.1nm；I、磁控溅射第九层：靶材数量：交流旋转靶1个；靶材料为Fe2O3；工艺气体比例：氩气和氧气，氩气和氧气的比例为1:2，溅射气压为3～5×10-3mbar；镀膜厚度为：0.5～2.0nm；不锈钢旋转靶溅射的Fe2O3层不仅能够改善透过性能，而且其价格低廉，能够大幅度的降低玻璃的制备成本。J、磁控溅射第十层：靶材数量：交流旋转靶1个；靶材料为SiNx；工艺气体比例：氩气和氧气，氩气和氧气的比例为1:1.14；溅射气压为3～5×10-3mbar；镀膜厚度为：45～50nm；2)、镀膜层厚度控制在180～205nm之间。本专利技术获得的有益效果为：1、制得的玻璃6mm单片透过率为40-55％，玻面外观颜色清新靓丽，色彩纯一；透过色a*∈[-1.5，0]，b*∈[-1.0，0]；膜面颜色a*∈[-5.0,0]，b*∈[-2.0，2.0]，玻面多角度(10°—75°)色差△a*＜2.5。2、引入成本较低的不锈钢靶材，降低生产成本。附图说明图1是本专利技术中高清中性色低辐射镀膜玻璃的结构示意图。图中，a、玻璃基片层；1、第一层；2、第二次；3、第三层；4、第四层；5、第五层；6、第六层；7、第七层；8、第八层；9、第九层；10、第十层。具体实施方式以下是本专利技术的具体实施例并结合附图，对本专利技术的技术方案作进一步的描述，但本专利技术并不限于这些实施例。如图1所示，高清中性色低辐射镀膜玻璃包括玻璃基片层a和位于玻璃基片层a一侧的镀膜层，所述镀膜层自玻璃基片层a向外依次复合有十个膜层，其中第一层1为ZnSnO/ZnO或两者的混合层，第二层2为Ag层，第三层3Cu层，第四层4为NiCr层,第五层5为Fe2O3层,第六层6为ZnSnO/ZnO或两者的混合层,第七层7为Ag层,第八层8为NiCr层，第九层9为Fe2O3层，第十层10为SiNx层。其中第一层1为第一电介质组合层，第二层2为低辐射功能层，第三层3为第一阻挡保护层，第四层4为透过色改善层，第六层6为第二电介质组合层，第七层7为低辐射功能层，第八层8为第二阻挡保护层，第九层9为透过色改善层，第十层10为第三电介质层。通过添加、优化膜层材料，在第八层8和第十层10之间设置Fe2O3层，有效调节380-550nm波段透过率，改善low-e双银透过色及膜面颜色，使其更加清透。一种高清中性色低辐射镀膜玻璃的制备方法，其特征在于，本加工方法包括如下步骤：1)、磁控溅射镀膜层；A、磁控溅射第一层1：靶材数量：交流旋转靶4～6个；靶材配置为锌锡(ZnSn)/锌铝(ZnAl)，或者是锌锡(ZnSn)和锌铝(ZnAl)的混合物；工艺气体比例：氩气和氧气，氩气和氧气的比例为1:2，溅射气压为3本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种高清中性色低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述低辐射玻璃包括玻璃基片层(a)和位于玻璃基片层(a)一侧的镀膜层，所述镀膜层自所述玻璃基片层(a)向外依次复合有十个膜层，其中第一层(1)为ZnSnO/ZnO或两者的混合层，第二层(2)为Ag层，第三层(3)Cu层，第四层(4)为NiCr层,第五层(5)为Fe2O3层,第六层(6)为ZnSnO/ZnO或两者的混合层,第七层(7)为Ag层,第八层(8)为NiCr层，第九层(9)为Fe2O3层，第十层(10)为SiNx层。

【技术特征摘要】
1.一种高清中性色低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述低辐射玻璃包括玻璃基片层(a)和位于玻璃基片层(a)一侧的镀膜层，所述镀膜层自所述玻璃基片层(a)向外依次复合有十个膜层，其中第一层(1)为ZnSnO/ZnO或两者的混合层，第二层(2)为Ag层，第三层(3)Cu层，第四层(4)为NiCr层,第五层(5)为Fe2O3层,第六层(6)为ZnSnO/ZnO或两者的混合层,第七层(7)为Ag层,第八层(8)为NiCr层，第九层(9)为Fe2O3层，第十层(10)为SiNx层。2.一种高清中性色低辐射镀膜玻璃的制备方法，其特征在于，本制备方法包括如下步骤：1)、磁控溅射镀膜层；A、磁控溅射第一层(1)：靶材数量：交流旋转靶4～6个；靶材配置为锌锡(ZnSn)/锌铝(ZnAl)，或者是锌锡(ZnSn)和锌铝(ZnAl)的混合物；工艺气体比例：氩气和氧气，氩气和氧气的比例为1:2，溅射气压为3～5×10-3mbar；镀膜厚度为45～55nm；B、磁控溅射第二层(2)：靶材数量：交流旋转靶或直流旋转靶1个；靶材料为Ag；工艺气体比例：纯氩气，溅射气压为2～3×10-3mbar；镀膜厚度为2.0～3.5nm；C、磁控溅射第三层(3)：靶材数量：交流旋转靶1个；靶材料为Cu；工艺气体比例：纯氩气，溅射气压为2～3×10-3mbar；镀膜厚度为0.5～2nm；D、磁控溅射第四层(4)：靶材数量：交流旋转靶1个；靶材料为NiCr；工艺气体比例：纯氩气，溅射气压为2...

【专利技术属性】
技术研发人员：宋宇，黄家鸿，熊建，夏彬，
申请(专利权)人：咸宁南玻节能玻璃有限公司，中国南玻集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北,42