材料沉积的改进方法技术

本发明专利技术涉及材料沉积的改进方法。用于带电粒子处理的方法和装置包括形成由至少两种材料构成的保护层。这两种材料可以混合在一起或可以作为分开的层沉积。其已经根据样品的材料性质配制和布置。

【技术实现步骤摘要】
材料沉积的改进方法专利技术的
本专利技术涉及带电粒子束诱导的沉积，更具体地涉及用于FIB和SEM束化学的前体气体组合物。专利技术背景在现有技术中，已知通过典型地在聚焦离子束(FIB)仪器中进行的离子束诱导沉积(IBID)和通常在扫描电子显微镜(SEM)仪器中进行的电子束诱导沉积(EBID)使材料沉积在样品上。根据已知方法，将样品置于带电粒子束装置（通常为FIB系统或SEM系统）的可抽空样品室中。在沉积气体，通常称为前体气体的存在下将带电粒子（或其他）束施加于样品表面。前体气体层吸附至样品表面。层厚度由气体分子在样品表面上的吸附和脱附的平衡控制，所述平衡转而取决于例如气体分压、基材温度和粘附系数。所得层厚度可以根据应用而变化。材料沉积可以根据应用采用各种不同的气体前体进行。例如六羰基钨(W(CO)6)气体可以用于沉积钨，萘气体可以用于沉积碳。TEOS、TMCTS或HMCHS气体与氧化剂例如H2O或O2组合的前体气体可以用于沉积氧化硅(SiOx)。对于沉积铂(Pt)，可以使用（甲基环戊二烯基）三甲基铂气体。获自这些不同前体的材料沉积具有不同的性质。例如，使用（甲基环戊二烯基）三甲基铂本文档来自技高网...

【技术保护点】
用带电粒子束处理工件以暴露用于观察的感兴趣区域的方法，其包括：在工件表面提供至少两种前体气体；将带电粒子束导向基材以在所述感兴趣区域上方从至少两种前体气体诱导保护层的沉积，所述保护层由至少两种具有不同溅射速率的材料构成，通过至少两种不同的前体气体的分解使所述至少两种材料沉积；和将带电粒子束导向基材以铣削所述保护层从而暴露在保护层下方的感兴趣区域。

【技术特征摘要】
2015.11.06 US 62/252308;2016.03.31 US 15/0879681.用带电粒子束处理工件以暴露用于观察的感兴趣区域的方法，其包括：在工件表面提供至少两种前体气体；将带电粒子束导向基材以在所述感兴趣区域上方从至少两种前体气体诱导保护层的沉积，所述保护层由至少两种具有不同溅射速率的材料构成，通过至少两种不同的前体气体的分解使所述至少两种材料沉积；和将带电粒子束导向基材以铣削所述保护层从而暴露在保护层下方的感兴趣区域。2.权利要求1的方法，其中在工件表面提供至少两种前体气体包括同时提供所述至少两种前体气体。3.权利要求1的方法，其中在工件表面提供至少两种前体气体包括顺序地提供所述至少两种前体气体。4.权利要求1的方法，其中在工件表面提供至少两种前体气体和将带电粒子束导向基材以从所述至少两种前体气体诱导保护层的沉积，其包括在工件表面提供第一前体气体；将带电粒子束导向基材以从第一前体气体诱导具有第一溅射速率的第一材料的沉积；在工件表面提供第二前体气体；和将带电粒子束导向基材以从第二前体气体诱导具有第二溅射速率的第二材料的沉积；从而产生具有第一材料层和第二材料层的保护层。5.权利要求4的方法，其中所述第一材料包含氧化硅。6.权利要求4或权利要求5的方法，其中所述第二材料包含钨、碳或铂。7.权利要求4或权利要求5...

【专利技术属性】
技术研发人员：BR小劳思，TG米勒，C吕，NT弗兰科，
申请(专利权)人：FEI公司，
类型：发明
国别省市：美国,US