研磨用组合物制造技术

本发明专利技术提供一种能够防止磁盘基片表面的外周部分被过度研磨的研磨用组合物。依照本发明专利技术的第一研磨用组合物包括由上面的通式表示的化合物，字母Ｘ表示聚醚多元醇的残基，字母ｍ表示与一个聚醚多元醇分子中的羟基数相等的数字，字母Ｙ表示二价烃基，字母Ｚ表示具有活性氢原子的单价化合物的残基，字母ｎ表示等于或者大于３的整数。依照本发明专利技术的第二研磨用组合物包括具有衍生自异戊二烯磺酸或其盐的单体单元的聚合物。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种研磨用组合物，其中该研磨用组合物包括研磨剂、研磨促进剂和水，该研磨用组合物的特征在于所述的研磨用组合物进一步包括具有衍生自异戊二烯磺酸或其盐的单体单元的聚合物。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：石桥智明，杉山博保，大脇寿树，
申请(专利权)人：福吉米株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]