研磨用组合物以及使用其的基板的制造方法技术

本发明专利技术的研磨用组合物含有磨粒、表面吸附剂和水，在研磨由结晶性的金属化合物形成的研磨对象物的用途中使用。研磨用组合物与在研磨用组合物中不包含表面吸附剂的情况相比，研磨后的研磨对象物的表面缺陷减少。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及在研磨由结晶性的金属化合物形成的研磨对象物的用途中使用的研磨用组合物以及使用其的基板的制造方法。
技术介绍
作为光学器件用基板材料和功率器件用基板材料，例如已知有：氧化铝(例如蓝宝石)、氧化硅、氧化镓和氧化锆等氧化物，氮化铝、氮化硅和氮化镓等氮化物，以及碳化硅等碳化物。由这些材料形成的基板或膜通常对氧化、络合、蚀刻之类的化学作用是稳定的，因此基于研磨的加工并不容易。因此，通常为基于使用了硬质材料的磨削、切削的加工。然而，基于磨削、切削的加工中无法得到具有高平滑性的表面。迄今，出于得到更高平滑的表面的目的，已知使用包含较高浓度的胶态二氧化硅的研磨用组合物来研磨蓝宝石基板(例如参见专利文献1)。然而，使用高浓度的胶态二氧化硅存在会导致研磨成本上升这样的问题。另外，为了谋求成本降低而减少胶态二氧化硅的用量时，存在导致表面缺陷、例如橘皮的产生这样的问题。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2008-44078号公报r>
技术实现思路
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【技术保护点】
一种研磨用组合物，其特征在于，其在研磨由结晶性的金属化合物形成的研磨对象物的用途中使用，所述研磨用组合物含有磨粒和水，所述研磨用组合物还含有表面吸附剂，所述研磨用组合物与在所述研磨用组合物中不包含表面吸附剂的情况相比，研磨对象物的表面缺陷减少。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2012.06.19 JP 2012-1379791.一种研磨用组合物，其特征在于，其在研磨由结晶性的金属化合物形
成的研磨对象物的用途中使用，所述研磨用组合物含有磨粒和水，
所述研磨用组合物还含有表面吸附剂，所述研磨用组合物与在所述研磨
用组合物中不包含表面吸附剂的情况相比，研磨对象物的表面缺陷减少。
2.根据权利要求1所述的研磨用组合物，其特征在于，所述表面吸附剂
为选自乙烯基系聚合物、聚环氧烷、以及聚环氧烷与烷基或亚烷基的共聚物
中的至少一种。
3.根据权利要求1或权利要求2所述的研磨用组合物，其特征在于，所述
磨粒和所述表面吸附剂是以满足以下条件的方式选择的：
制备以与所述研磨用组合物中的磨粒和表面吸附剂的各含量相同的量
含有所述磨粒和所述表面吸附剂的第一悬浮液时，所述悬浮液中的表面吸附
剂的15质量％以上吸附于所述悬浮液中的磨粒。
4.根据权利要求1～3中任一项所述的研磨用组合物，其特征在于，所述
表面吸...

【专利技术属性】
技术研发人员：谷口惠，森永均，芹川雅之，
申请(专利权)人：福吉米株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP