显示装置及彩膜基板制造方法及图纸

本公开是关于一种彩膜基板及显示装置，涉及显示技术领域。该彩膜基板包括基板、黑矩阵和遮光条，黑矩阵设置于基板靠近阵列基板的一面，黑矩阵上设有将黑矩阵截断的环形的凹槽，凹槽与黑矩阵边沿的间距为预定距离；遮光条设置于基板远离阵列基板的一面，遮光条与凹槽相对应，以遮蔽凹槽。

Display device and color film substrate

The present invention relates to a color film substrate and a display device, and relates to the display technology field. The color film substrate comprises a substrate, a black matrix and shading, black matrix is provided on the substrate side near the array substrate, the black matrix is arranged on the groove ring black matrix truncated the spacing groove and the edge of the black matrix for a predetermined distance; the shading strips are arranged on the substrate from the array substrate side, a shading and groove. Corresponding to shield groove.

【技术实现步骤摘要】
显示装置及彩膜基板
本公开涉及显示
，具体而言，涉及一种彩膜基板以及具有该彩膜基板的显示装置。
技术介绍
随着显示技术的发展，人们对显示装置的显示品质的追求越来越高，其中，窄边框甚至于无边框显示屏幕已成为显示屏幕设计的亮点之一。在显示装置的制造过程中，通常是将阵列基板和彩膜基板事先独立制造，再将阵列基板和彩膜基板进行对盒，形成液晶盒。其中，彩膜基板上的黑矩阵与阵列基板上的扫描线(栅线)、数据线、薄膜晶体管(TFT)等部件的位置相对应，以遮挡住扫描线、数据线、薄膜晶体管等部件。为了避免黑矩阵暴露在环境中，使静电通过黑矩阵导入到液晶盒内，造成液晶偏转异常而导致的显示不良。通常会在黑矩阵的周边进行开槽，将黑矩阵的边缘和内部断开，以切断静电的导入路径，防止静电进入液晶盒内。但是，这种黑矩阵的开槽设计容易造成漏光，影响显示效果。需要说明的是，在上述
技术介绍
部分公开的信息仅用于加强对本公开的背景的理解，因此可以包括不构成对本领域普通技术人员已知的现有技术的信息。
技术实现思路
本公开的目的在于提供一种彩膜基板以及具有该彩膜基板的显示装置，进而至少在一定程度上克服由于相关技术的限制和缺陷而导致的一个或者多个问题。根据本公开的一个方面，提供一种彩膜基板，包括：基板；黑矩阵，设置于所述基板靠近阵列基板的一面，所述黑矩阵上设有将所述黑矩阵截断的环形的凹槽，所述凹槽与所述黑矩阵边沿的间距为预定距离；遮光条，设置于所述基板远离所述阵列基板的一面，所述遮光条与所述凹槽相对应，以遮蔽所述凹槽。在本公开的一种示例性实施方式中，所述遮光条的宽度大于或等于所述凹槽的宽度。在本公开的一种示例性实施方式中，所述遮光条的材质与所述黑矩阵的材质相同。在本公开的一种示例性实施方式中，所述黑矩阵和所述遮光条的电阻值均为108Ω～109Ω。在本公开的一种示例性实施方式中，所述预定距离为150um，所述凹槽的宽度为20um。在本公开的一种示例性实施方式中，所述遮光条为一体式的环状结构。在本公开的一种示例性实施方式中，所述彩膜基板还包括：接线端，与所述黑矩阵的边沿和/或所述遮光条导电连接；导电线，与所述接线端导电连接，所述导电线用于导出静电。在本公开的一种示例性实施方式中，所述接线端的材质为导电银胶。在本公开的一种示例性实施方式中，所述接线端的数量为两个。根据本公开的一个方面，提供一种显示装置，包括上述任意一项所述的彩膜基板。本公开的彩膜基板及显示装置，可通过环形的凹槽将黑矩阵截断，使黑矩阵被分割为凹槽围绕的部分和凹槽外侧的部分，避免静电从黑矩阵的边缘向内导入，以防止显示不良；由于遮光条和黑矩阵位于基板的不同表面，且遮光条与凹槽相对应，可通过遮光条对凹槽进行遮蔽，从而防止在凹槽处出现漏光，以保证显示效果；可通过将黑矩阵的边沿和遮光条接地将静电导出，防止静电残留，可以避免在彩膜基板上采用高阻膜和防静电的偏光膜，有利于降低成本。应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性和解释性的，并不能限制本公开。附图说明此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分，示出了符合本公开的实施方式，并与说明书一起用于解释本公开的原理。显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本公开的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1是本专利技术彩膜基板一实施方式的仰视图。图2是图1中A部的放大视图。图3是本专利技术彩膜基板一实施方式的俯视图。图4是本专利技术彩膜基板的局部截面图。图5是是本专利技术显示装置的局部界面图。具体实施方式现在将参考附图更全面地描述示例实施方式。然而，示例实施方式能够以多种形式实施，且不应被理解为限于在此阐述的实施方式；相反，提供这些实施方式使得本专利技术将全面和完整，并将示例实施方式的构思全面地传达给本领域的技术人员。图中相同的附图标记表示相同或类似的结构，因而将省略它们的详细描述。虽然本说明书中使用相对性的用语，例如“上”、“下”来描述图标的一个组件对于另一组件的相对关系，但是这些术语用于本说明书中仅出于方便，例如根据附图中所述的示例的方向。能理解的是，如果将图标的装置翻转使其上下颠倒，则所叙述在“上”的组件将会成为在“下”的组件。当某结构在其它结构“上”时，有可能是指某结构一体形成于其它结构上，或指某结构“直接”设置在其它结构上，或指某结构通过另一结构“间接”设置在其它结构上。用语“一个”、“一”、“该”和“所述”用以表示存在一个或多个要素/组成部分/等；用语“包括”和“具有”用以表示开放式的包括在内的意思并且是指除了列出的要素/组成部分/等之外还可存在另外的要素/组成部分/等。本专利技术示例实施方式提供了一种彩膜基板，可用于显示装置，该显示装置可包括阵列基板和与该阵列基板对盒的彩膜基板；如图1～图5所示，本实施方式的彩膜基板可以包括基板1、黑矩阵2和遮光条3。在本实施方式中，基板1可为玻璃基板，其形状可以是矩形，还可以是圆形、椭圆形等其它形状；其尺寸可视其应用的显示装置的尺寸而定，在此不做特殊限定；基板1靠近阵列基板6的表面可包括显示区和非显示区，显示区用于显示图像，该非显示区可位于显示区的外围。在本实施方式中，如图1、图2和图4所示，黑矩阵2可设置于基板1靠近阵列基板6的一面，且黑矩阵2上可开设环形的凹槽21，该凹槽21可将黑矩阵2截断，以将黑矩阵2分割为两部分，即凹槽21所环绕的部分和凹槽21外侧的部分；其中，凹槽21环绕的部分可位于基板1的显示区，凹槽21外侧的部分可位于非显示区；黑矩阵21被凹槽21环绕的部分，即显示区内的部分可包括多个阵列分布的阵元；黑矩阵21位于凹槽21外侧的部分，即位于非显示区的部分可为环形。在本实施方式中，上述凹槽21可靠近黑矩阵2的边沿设置，且凹槽21与黑矩阵2的边沿的间距可为预定距离，该预定距离可以是凹槽21的中心线至黑矩阵2边沿的距离，或者该预定距离还可以是凹槽21上靠近黑矩阵2边沿的侧边与黑矩阵2边沿间的距离。该预定距离可以是150um或接近150um，例如145um、150um或155um等，当然，该预定距离并不以此为限，其还可以采用其它取值，且不限定于150um或接近150um，具体可视黑矩阵2的整体尺寸而定；凹槽21的宽度可以是20um，当然，凹槽21的宽度也可以是其它数值，在此不对凹槽21的宽度做特殊限定。此外，凹槽21的横截面的形状可以是矩形、半圆形，但不以此为限，其还可以是其它形状。在本实施方式中，形成上述黑矩阵2的工艺可参考现有技术中形成黑矩阵的工艺，其可包括依次进行的涂布、曝光和显影等步骤，举例而言，可先在基板1上涂布用于制造黑矩阵2的黑色的光刻胶；然后，利用掩膜版遮盖涂布光刻胶的基板1并进行曝光；再利用显影液对曝光后的光刻胶进行显影，以得到与黑矩阵2的图案。形成黑矩阵2的工艺还可以包括对基板1的清洗等步骤，在此不再详述。凹槽21可与黑矩阵2同时形成，也可在形成黑矩阵2后，再在黑矩阵2上开设，开设凹槽21的工艺在此不做特殊限定。在本实施方式中，如图3和图4所示，遮光条3可采用与上述黑矩阵2相同的材质，当然，也可以采用其他材质；举例而言，黑矩阵2和遮光条3均可采用高电阻的材料，以增强对静电的阻隔效果，其电阻值均可在108Ω～109Ω的范本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种彩膜基板，其特征在于，包括：基板；黑矩阵，设置于所述基板靠近阵列基板的一面，所述黑矩阵上设有将所述黑矩阵截断的环形的凹槽，所述凹槽与所述黑矩阵边沿的间距为预定距离；遮光条，设置于所述基板远离所述阵列基板的一面，所述遮光条与所述凹槽相对应，以遮蔽所述凹槽。

【技术特征摘要】
1.一种彩膜基板，其特征在于，包括：基板；黑矩阵，设置于所述基板靠近阵列基板的一面，所述黑矩阵上设有将所述黑矩阵截断的环形的凹槽，所述凹槽与所述黑矩阵边沿的间距为预定距离；遮光条，设置于所述基板远离所述阵列基板的一面，所述遮光条与所述凹槽相对应，以遮蔽所述凹槽。2.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述遮光条的宽度大于或等于所述凹槽的宽度。3.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述遮光条的材质与所述黑矩阵的材质相同。4.根据权利要求3所述的彩膜基板，其特征在于，所述黑矩阵和所述遮光条的电阻值均为108Ω～109Ω。5.根据权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员：马少武，王春雷，王建，周康迪，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，北京京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11