一种叠合引线框架修正治具制造技术

本实用新型专利技术公开了一种叠合引线框架修正治具，包括下压件、垫块，在下压件和垫块之间设置有叠合引线框架，叠合引线框架包括依次叠加的铜桥框架、芯片和引线框架，引线框架沿宽度方向设置有两条平行的半蚀刻区域，且引线框架在半蚀刻区域之间的结构向铜桥框架凹陷，垫块的上表面的中部向内凹陷形成凹陷区，凹陷区的宽度大于两条半蚀刻区域的距离，小于引线框架的宽度；使用时，引线框架放置于垫块的上表面，引线框架的两端位于凹陷区外，两条半蚀刻区域均位于凹陷区内，下压件下压铜桥框架，使得引线框架在半蚀刻区域之间的结构向凹陷区凸出。修正后的引线框架在塑封时与下模的上表面之间不再有空隙，避免溢胶导致产品报废。

【技术实现步骤摘要】
一种叠合引线框架修正治具
本技术涉及引线框架的
，尤其涉及一种叠合引线框架的叠合引线框架修正治具。
技术介绍
引线框架中，有一种叠合引线框架，如图1和图2所示，叠合引线框架3′包括依次叠加设置的引线框架31′、芯片32′和铜桥框架33′，引线框架31′和芯片32′、芯片32′和铜桥框架33′之间均通过锡膏焊接在一起，由于叠合引线框架3′在倒装芯片焊接中要求引线框架31′在沿宽度方向的两侧的支持杆区域设置半蚀刻区域311′，在经过半蚀刻后，半蚀刻区域311′的厚度只有未进行半蚀刻前的厚度的30％。在后续回流焊的过程中，锡膏由半流动状态变成固态，体积收缩，对铜桥框架33′和引线框架31′产生拉力，由于铜桥框架33′厚度比较厚，抗变形的力比较大，而引线框架31′更容易变形，且引线框架31′的半蚀刻区域311′的厚度更小，因此，如图3所示，在回流焊后，引线框架31′在半蚀刻区域311′之间的结构会向铜桥框架33′凹陷。在后续进行塑封时，如图4和图5所示，叠合引线框架3′放置在上模41′和下模42′之间，引线框架31′由于中部上翘，会与下模42′的上表面之间产生间隙，在塑封过程中，间隙会产生溢胶(塑封胶体进入间隙)现象而导致产品报废。
技术实现思路
本技术的目的在于提出一种叠合引线框架修正治具，将变形的叠合引线框架进行修正，避免在塑封时溢胶报废。为达此目的，本技术采用以下技术方案：一种叠合引线框架修正治具，包括下压件、垫块，在所述下压件和所述垫块之间设置有叠合引线框架，所述叠合引线框架包括依次叠加的铜桥框架、芯片和引线框架，所述引线框架沿宽度方向设置有两条平行的半蚀刻区域，且所述引线框架在半蚀刻区域之间的结构向所述铜桥框架凹陷，所述下压件可向下靠近或向上远离所述垫块，所述垫块的上表面的中部向内凹陷形成凹陷区，所述凹陷区的宽度大于两条所述半蚀刻区域的距离，小于所述引线框架的宽度；使用时，所述引线框架放置于所述垫块的上表面，所述引线框架的两端位于所述凹陷区外，两条所述半蚀刻区域均位于所述凹陷区内，所述下压件下压所述铜桥框架，使得所述引线框架在半蚀刻区域之间的结构向所述凹陷区凸出。其中，所述凹陷区的深度为0.05mm-0.2mm。其中，所述凹陷区的深度为0.12mm。其中，两条所述半蚀刻区域沿所述凹陷区的中心对称设置。其中，所述下压件的底部凸设有用于下压所述铜桥框架的凸出部，所述凸出部位于两条所述半蚀刻区域之间。其中，所述凸出部沿所述凹陷区的中心对称设置。其中，所述叠合引线框架的边缘设置有定位孔，所述垫块上设置有与所述定位孔相应的定位柱。其中，多个叠合引线框架并排连接形成叠合引线框架组件，所述定位孔位于所述叠合引线框架组件的边缘，所述垫块在每个所述引线框架的相应区域均设置有所述凹陷区。有益效果：本技术提供了一种叠合引线框架修正治具，包括下压件、垫块，在所述下压件和所述垫块之间设置有叠合引线框架，所述叠合引线框架包括依次叠加的铜桥框架、芯片和引线框架，所述引线框架沿宽度方向设置有两条平行的半蚀刻区域，且所述引线框架在半蚀刻区域之间的结构向所述铜桥框架凹陷，所述下压件可向下靠近或向上远离所述垫块，所述垫块的上表面的中部向内凹陷形成凹陷区，所述凹陷区的宽度大于两条所述半蚀刻区域的距离，小于所述引线框架的宽度；使用时，所述引线框架放置于所述垫块的上表面，所述引线框架的两端位于所述凹陷区外，两条所述半蚀刻区域均位于所述凹陷区内，所述下压件下压所述铜桥框架，使得所述引线框架在半蚀刻区域之间的结构向所述凹陷区凸出。将引线框架在半蚀刻区域之间的结构从向铜桥框架凸出修正为向远离铜桥框架方向凸出后，在塑封时，引线框架的半蚀刻区域之间的结构先与下模的上表面接触，半蚀刻区域外部的区域被下模的两侧压着固定，引线框架与下模的上表面之间不再有空隙，避免溢胶导致产品报废。附图说明图1是现有技术的叠合引线框架的俯视图。图2是图1的A-A向剖视图。图3是现有技术的叠合引线框架的变形后的示意图。图4是现有技术的叠合引线框架在模具中的结构示意图。图5是图4的B处的局部放大图。图6是本技术中叠合引线框架与修正治具的结构示意图。图7是图6的C处的局部放大图。图8是本技术的修正后的叠合引线框架在模具中的结构示意图。其中：1-下压件，11-凸出部，2-垫块，21-凹陷区，3-叠合引线框架，31-引线框架，311-半蚀刻区域，32-芯片，33-铜桥框架，41-上模，42-下模，3′-叠合引线框架，31′-引线框架，311′-半蚀刻区域，32′-芯片，33′-铜桥框架，41′-上模，42′-下模，具体实施方式为使本技术解决的技术问题、采用的技术方案和达到的技术效果更加清楚，下面结合附图并通过具体实施方式来进一步说明本技术的技术方案。实施例1本实施例提供了一种叠合引线框架修正治具，如图6和图7所示，包括下压件1、垫块2，在下压件1和垫块2之间设置有叠合引线框架3，叠合引线框架3包括依次叠加的铜桥框架33、芯片32和引线框架31，引线框架33沿宽度方向设置有两条平行的半蚀刻区域311，且引线框架31在半蚀刻区域311之间的结构向铜桥框架33凹陷，下压件1可向下靠近或向上远离垫块2，垫块2的上表面的中部向内凹陷形成凹陷区21，凹陷区21的宽度大于两条半蚀刻区域311的距离，小于引线框架31的宽度；使用时，引线框架31放置于垫块2的上表面，引线框架31的两端位于凹陷区21外，两条半蚀刻区域311均位于凹陷区21内，下压件1下压铜桥框架33，使得引线框架31在半蚀刻区域311之间的结构向凹陷区21凸出。将引线框架31在半蚀刻区域311之间的结构从向铜桥框架33凸出修正为向远离铜桥框架方向33凸出后，在塑封时，如图8所示，引线框架31的半蚀刻区域311之间的结构先与下模42的上表面接触，半蚀刻区域311外部的区域被下模42的两侧压着固定，引线框架31与下模42的上表面之间不再有空隙，避免溢胶导致产品报废。由于叠合引线框架3本身的尺寸比较小，本实施例中，凹陷区21的深度不宜高于0.2mm，避免引线框架31的半蚀刻区域311之间的结构反向凸出(即朝远离铜桥框架33的方向凸出)太多而导致引线框架31损坏，凹陷区21的深度也不宜低于0.05mm，否则无法将引线框架31的半蚀刻区域311之间的结构反向凸出。凹陷区21的深度可以选择在0.12mm比较合适。当然，凹陷区21的深度也可以根据叠合引线框架3本身的尺寸和实际变形量来调整。本实施例中，两条半蚀刻区域311沿凹陷区21的中心对称设置，在修正过程中，可以尽量保证引线框架311保持对称变形，尽量让最低点(外凸最凸出的点)位于两条半蚀刻区域311的中心部位，利于后续塑封时贴紧下模4的上表面。下压件1的底部凸设有用于下压铜桥框架33的凸出部11，凸出部11位于两条半蚀刻区域311之间，凸出部11可以将铜桥框架33的受力点集中在引线框架31的两条半蚀刻区域311之间，利于铜桥框架33从中间对引线框架31施力，将引线框架31的两条半蚀刻区域311之间的结构外凸。同理，凸出部11沿凹陷区21的中心对称设置，可以尽量保证引线框架311保持对称变形，利于后续塑封时贴紧下模4的上表面。在修正过程中，需要对本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种叠合引线框架修正治具，其特征在于，包括下压件(1)、垫块(2)，在所述下压件(1)和所述垫块(2)之间设置有叠合引线框架(3)，所述叠合引线框架(3)包括依次叠加的铜桥框架(33)、芯片(32)和引线框架(31)，所述引线框架(33)沿宽度方向设置有两条平行的半蚀刻区域(311)，且所述引线框架(31)在半蚀刻区域(311)之间的结构向所述铜桥框架(33)凹陷，所述下压件(1)可向下靠近或向上远离所述垫块(2)，所述垫块(2)的上表面的中部向内凹陷形成凹陷区(21)，所述凹陷区(21)的宽度大于两条所述半蚀刻区域(311)的距离，小于所述引线框架(31)的宽度；使用时，所述引线框架(31)放置于所述垫块(2)的上表面，所述引线框架(31)的两端位于所述凹陷区(21)外，两条所述半蚀刻区域(311)均位于所述凹陷区(21)内，所述下压件(1)下压所述铜桥框架(33)，使得所述引线框架(31)在半蚀刻区域(311)之间的结构向所述凹陷区(21)凸出。

【技术特征摘要】
1.一种叠合引线框架修正治具，其特征在于，包括下压件(1)、垫块(2)，在所述下压件(1)和所述垫块(2)之间设置有叠合引线框架(3)，所述叠合引线框架(3)包括依次叠加的铜桥框架(33)、芯片(32)和引线框架(31)，所述引线框架(33)沿宽度方向设置有两条平行的半蚀刻区域(311)，且所述引线框架(31)在半蚀刻区域(311)之间的结构向所述铜桥框架(33)凹陷，所述下压件(1)可向下靠近或向上远离所述垫块(2)，所述垫块(2)的上表面的中部向内凹陷形成凹陷区(21)，所述凹陷区(21)的宽度大于两条所述半蚀刻区域(311)的距离，小于所述引线框架(31)的宽度；使用时，所述引线框架(31)放置于所述垫块(2)的上表面，所述引线框架(31)的两端位于所述凹陷区(21)外，两条所述半蚀刻区域(311)均位于所述凹陷区(21)内，所述下压件(1)下压所述铜桥框架(33)，使得所述引线框架(31)在半蚀刻区域(311)之间的结构向所述凹陷区(21)凸出。2.如权利要求1所述的叠合引线框架修正治具，其特征在于，所述凹陷区(21)的深...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘思勇，
申请(专利权)人：杰群电子科技东莞有限公司，
类型：新型
国别省市：广东,44