【技术实现步骤摘要】
本技术涉及半导体芯片
,尤其是涉及一种二极管。
技术介绍
随着电子信息产业的高速发展,芯片制造业迈入了纳米时代,芯片制造的工艺尺寸从90nm缩小到45nm,再到30nm、13nm快速递进。芯片的几何尺寸也越来越小,由1.0mm×1.0mm到0.8mm×0.8mm、0.5mm×0.5mm、0.3mm×0.3mm,最小0.15mm×0.15mm,相应地,芯片制造中使用的焊盘节距也由120μm逐步缩小到100μm、70μm、60μm、50μm和45μm。划道也由100μm逐渐缩小到70μm、60μm、50μm和45μm。使得焊盘尺寸也由最初的100μm×100μm渐次缩小为70μm×70μm、55μm×55μm、最小为38μm×38μm。焊盘尺寸的变化给键合工艺带来了难题和巨大的挑战。正常的球焊键合工艺中,焊球的直径大于/等于线径的2倍,小于线径的5倍为合格。一般金线焊球的直径可控制在2~2.3(倍)线径,铜线焊球的直径可控制在2.5~3(倍)线径。对于38μm×38μm的焊盘,相邻焊盘间距41μm~43μm,只能使用Φ15μm~Φ16μm的焊线,并且键合焊球的 ...
【技术保护点】
一种二极管,其特征在于,包括:晶片,第一焊盘、第二焊盘、第一引脚、第二引脚和封装体;所述晶片的下表面与所述第一焊盘连接,所述晶片的上表面与所述第二焊盘连接;所述第一引脚与所述第一焊盘相连接,所述第二引脚与所述第二焊盘相连接;所述封装体将所述晶片、所述第一焊盘、所述第二焊盘和所述第一引脚和所述第二引脚封合,且所述第一引脚、所述第一焊盘的下表面和所述第二引脚分别裸露出所述封装体。
【技术特征摘要】
1.一种二极管,其特征在于,包括:晶片,第一焊盘、第二焊盘、第一引脚、第二引脚和封装体;所述晶片的下表面与所述第一焊盘连接,所述晶片的上表面与所述第二焊盘连接;所述第一引脚与所述第一焊盘相连接,所述第二引脚与所述第二焊盘相连接;所述封装体将所述晶片、所述第一焊盘、所述第二焊盘和所述第一引脚和所述第二引脚封合,且所述第一引脚、所述第一焊盘的下表面和所述第二引脚分别裸露出所述封装体。2.根据权利要求1所述的二极管,其特征在于,所述第二引脚包括连接段、倾斜段和直线段;所述连接段的一端与所述第二焊盘连接,另一端与所述倾斜段和所述直线段依次连接,并使所述连接段与所述直线段相平行设置。3.根据权利要求1所述的二极管,其特征在于,所述第一焊盘与所述晶片的下表面之间设置有第一焊料层;所述第二焊盘与所述晶片的上...
【专利技术属性】
技术研发人员:艾亮东,廖瑞忠,陈丽军,胡利娟,温姣姣,
申请(专利权)人:北京思众电子科技有限公司,
类型:新型
国别省市:北京;11
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