【技术实现步骤摘要】
本技术涉及电沉积生产设备
,具体为一种电铸槽装置。
技术介绍
电铸时,铸层厚度分布的均匀性是核心指标之一,而铸层厚度分布特性主要取决于阴极处的流场分布与电场分布状况。研究表明,采用往复式移动桨来实施搅拌(如美国专利US3652442的“Electroplatingcellincludingmeanstoagitatetheelectrolyteinlaminarflow”和US4102756的“Nickel-iron(80:20)alloythinfilmelectroplatingmethodandelectrochemicaltreatmentandplatingapparatus”)能获得比较均匀的流场分布,进而改善电沉积层的厚度分布。然而,这种搅拌模式对电沉积槽内电解液原始流动状态与外部液流的干扰非常敏感。其中,外部液流影响最大的是电沉积槽的进液与出液行为。因此,在保证电解液持续循环流动的前提下尽可能减少进出液行为所带来的负面作用,是往复式移动搅拌获得理想效果的关键因素之一。尽管已报道了一些方法与装置,以减少进出液行为的影响,但仍不够理想。为此,本技术提出一种新的解决方案。
技术实现思路
为了解决上述问题,本技术提供了一种电铸槽装置,具体技术方案如下。一种电铸槽装置,它包括主槽、固定于主槽两侧的辅槽和调节槽、阴极和阳极;所述的主槽包括左槽壁和右槽壁;所述的主槽的左槽壁设置有阴极区溢流口;所述的主槽的右槽壁设置有阳极区溢流口;所述的阴极区溢流口至主槽槽底的高度h1与阴极的高度相等。优选地,所述的阴极的形状与截面积都对应地与左槽壁的形状与截面积相同。优 ...
【技术保护点】
一种电铸槽装置,它包括主槽(5)、固定于主槽(5)两侧壁的辅槽(1)和调节槽(9)、阴极(4)和阳极(6),其特征在于:所述的主槽(5)包括左槽壁(2)和右槽壁(7);所述的主槽(5)的左槽壁(2)设置有阴极区溢流口(3);所述的主槽(5)的右槽壁(7)设置有阳极区溢流口(8);所述的阴极区溢流口(3)至主槽(5)槽底的高度h1与阴极(4)的高度相等。
【技术特征摘要】
1.一种电铸槽装置,它包括主槽(5)、固定于主槽(5)两侧壁的辅槽(1)和调节槽(9)、阴极(4)和阳极(6),其特征在于:所述的主槽(5)包括左槽壁(2)和右槽壁(7);所述的主槽(5)的左槽壁(2)设置有阴极区溢流口(3);所述的主槽(5)的右槽壁(7)设置有阳极区溢流口(8);所述的阴极区溢流口(3)至主槽(5)槽底的高度h1与阴极(4)的高度相等。2.根据权利要求1所述的一种电铸槽装置,其特征在于:所述的阴极(...
【专利技术属性】
技术研发人员:张艳华,明平美,陈东海,李欣潮,陈月涛,刘筱笛,秦歌,张俊中,宋旭东,杨文娟,
申请(专利权)人:河南理工大学,
类型:新型
国别省市:河南;41
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