本发明专利技术提供一种柔性显示基板及其制备方法、柔性显示装置，属于柔性显示技术领域，可解决现有的柔性显示基板中的显示结构在进行激光剥离时容易受到损坏的问题。本发明专利技术的柔性显示基板包括：柔性基底和显示结构，以及设于所述柔性基底和所述显示结构之间的反光层。本发明专利技术的柔性显示基板的制备方法包括：在基底上形成柔性材料层；在柔性材料层上形成反光层；形成显示结构；通过激光剥离的方式使柔性材料层与基底分离，得到柔性显示基板。本发明专利技术适用于柔性显示装置，尤其是柔性顶发射型有机发光二极管显示装置，以及带有低温多晶硅薄膜晶体管的柔性阵列基板。
【技术实现步骤摘要】
本案是申请号为“201310439383.8”，申请日为“2013年9月24”，名称为“柔性显示基板及其制备方法、柔性显示装置”的专利技术专利申请的分案申请。
本专利技术属于柔性显示
，具体涉及一种柔性显示基板及其制备方法、柔性显示装置。
技术介绍
随着技术的发展，柔性显示装置获得了越来越广泛的应用，柔性显示装置包括有机发光二极管显示装置、电泳显示装置等不同类型。显然，柔性显示装置的显示基板(如柔性有机发光二极管显示装置的柔性阵列基板)的基底必须是柔性基底，而柔性基底主要由聚酰亚胺、聚对苯二甲酸乙二醇酯等有机材料制成。由于柔性基底易发生变形，故在显示基板的制备过程中，柔性基底的定位、搬运、存储等均比较困难。为此，如图1、图2所示，通常要先在玻璃基底1上形成柔性材料层2，之后依次在柔性材料层2上形成缓冲层4和各种显示结构9(以柔性有机发光二极管显示装置为例，包括薄膜晶体管、数据线、栅线、电容、阳极、阴极、有机发光层、像素界定层等，因这些均是已知结构，故图中未标号)，再用紫外激光从玻璃基底1侧照射柔性材料层2，使柔性材料层2与玻璃基底间1的附着力降低并与玻璃基底1分开(即激光剥离)，形成独立的柔性显示基板(此时柔性材料层2即成为柔性基底21)。同时，柔性阵列基板中包括大量的薄膜晶体管，而低温多晶硅(LTPS)薄膜晶体管是薄膜晶体管的一种重要类型，其有源区911由多晶硅构成；该有源区911的制备方法是先形成非晶硅层，之后用紫外激光(准分子激光)从远离玻璃基底1的一侧照射非晶硅层，通过准分子激光退火(ELA)的方式使非晶硅熔融、成核、长大而转变为多晶硅，之后再用多晶硅层形成有源区911。专利技术人发现现有技术中至少存在如下问题：首先，在激光剥离的过程中，可能有部分激光穿过柔性材料层照射到显示结构上，从而对显示结构的性能造成影响；例如，若激光照射到薄膜晶体管(尤其是金属氧化物薄膜晶体管)的有源区上，则会引起阈值电压漂移等不良。其次，对具有低温多晶硅薄膜晶体管的阵列基板，其激光退火过程中可能有激光穿过非晶硅层照射到柔性材料层上，从而对柔性材料层的性能造成破坏，例如造成柔性材料层碳化或与相邻的层(如缓冲层)分离等。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题包括，针对现有的柔性显示基板中的显示结构在进行激光剥离时容易受到损坏的问题，提供一种可避免激光剥离时显示结构受损的柔性显示基板及其制备方法、柔性显示装置。解决本专利技术技术问题所采用的技术方案是一种柔性显示基板，包括柔性基底和显示结构，以及设于所述柔性基底和所述显示结构之间的反光层。其中，“显示结构”是指形成在反光层上方的所有用于进行显示的结构，依照柔性显示基板类型的不同，显示结构可包括：薄膜晶体管、栅线、栅绝缘层、数据线、平坦化层(PLN)、钝化层(PVX)、电容、阳极、阴极、有机发光层、像素界定层(PDL)、彩色滤光膜等。优选的是，所述反光层为金属反光层；所述反光层与显示结构之间还设有缓冲层。进一步优选的是，所述金属反光层由铝制成。进一步优选的是，所述金属反光层的厚度在150nm至300nm之间。优选的是，所述反光层在与对位标记对应的位置设有开口。优选的是，所述柔性基底由有机柔性材料制成。优选的是，所述柔性显示基板为柔性阵列基板；所述显示结构包括低温多晶硅薄膜晶体管。优选的是，所述柔性显示基板为柔性顶发射型有机发光二极管显示装置的阵列基板。解决本专利技术技术问题所采用的技术方案是一种柔性显示装置，其包括上述的柔性显示基板。解决本专利技术技术问题所采用的技术方案是一种柔性显示基板的制备方法，其包括：在基底上形成柔性材料层；在柔性材料层上形成反光层；形成显示结构；通过激光剥离的方式使柔性材料层与基底分离，得到柔性显示基板。优选的是，所述反光层为金属反光层；在所述形成金属反光层和形成显示结构之间的步骤，还包括：在所述金属反光层上形成缓冲层。优选的是，所述金属反光层由铝制成，并通过真空蒸镀工艺形成；所述真空蒸镀工艺的参数为：蒸镀速率大于等于40nm/s，蒸镀气压小于等于1.3×10-4Pa，蒸镀厚度在150nm至300nm之间。优选的是，在所述形成反光层和形成显示结构之间的步骤，还包括：在所述反光层上与对位标记相对应的位置形成开口。优选的是，所制备的柔性显示基板为柔性阵列基板，所述显示结构包括低温多晶硅薄膜晶体管；所述形成显示结构包括：形成非晶硅层；通过激光退火将非晶硅层转变为多晶硅层。本专利技术的柔性显示基板及其制备方法、柔性显示装置中，在柔性基底(柔性材料层)和显示结构间设有反光层，因此，在激光剥离时，反光层可将穿过柔性材料层的激光反射回去，避免其照射到薄膜晶体管等显示结构，进而避免显示结构受到损伤。同时，反光层优选为金属材料，而金属材料往往具有较好的水、氧隔绝性能，从而其可以避免水汽、氧气等与显示结构接触，起到保护(类似于封装)显示结构的作用。另外，对具有低温多晶硅薄膜晶体管的柔性阵列基板，在进行激光退火时，反光层还可将穿过非晶硅层的激光反射回去，从而避免柔性材料层受到损伤。本专利技术适用于柔性显示装置，尤其是柔性顶发射型有机发光二极管显示装置，以及带有低温多晶硅薄膜晶体管的柔性阵列基板。附图说明图1为现有的一种柔性显示基板的剖面结构示意图；图2为现有的一种柔性显示基板在制备过程中进行激光剥离时的剖面结构示意图；图3为本专利技术的实施例1的一种柔性显示基板的剖面结构示意图；图4为铝的吸收光谱与反射光谱的曲线；图5为本专利技术的实施例1的一种柔性显示基板在制备过程中在反光层上开口后的俯视结构示意图；图6为本专利技术的实施例1的一种柔性显示基板在制备过程中进行激光退火时的剖面结构示意图；图7为本专利技术的实施例1的一种柔性显示基板在制备过程中进行激光剥离时的剖面结构示意图；其中附图标记为：1、玻璃基底；2、柔性材料层；21、柔性基底；3、反光层；31、开口；4、缓冲层；8、对位标记；9、显示结构；91、非晶硅层；911、有源区。具体实施方式为使本领域技术人员更好地理解本专利技术的技术方案，下面结合附图和具体实施方式对本专利技术作进一步详细描述。实施例1：如图3至图7所示，本实施例提供一种柔性显示基板，其包括：柔性基底21；设于柔性基底21上的反光层3；设于所述反光层3上方的显示结构9。其中，“显示结构9”是指形成在反光层3上方的所有用于进行显示的结构。依照柔性显示基板类型的不同，显示结构9可包括：薄膜晶体管、栅线、栅绝缘层、数据线、平坦化层(PLN)、钝化层(PVX)、电容、阳极、阴极、有机发光层、像素界定层(PDL)、彩色滤光膜等。本实施例的柔性显示基板中，在柔性基底21和显示结构9间设有反光层3，因此，如图7所示，在激光剥离时，反光层3可将穿过柔性材料层2的激光反射回去，避免其照射到薄膜晶体管等显示结构9，从而避免显示结构9的性能受到影响。同时，金属反光层往往具有较好的水、氧隔绝性能，从而可以避免水汽、氧气等与显示结构9接触，起到保护显示结构9的作用。优选的，本实施例以柔性顶发射型有机发光二极管显示装置的阵列基板作为柔性显示基板的例子，即柔性显示基板中包括驱动电路(开关薄膜晶体管、驱动薄膜晶体管、电容等)、栅线、数据线、阴极、阳极、有机发光层、像素界定层本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种柔性显示基板，包括柔性基底和显示结构，其特征在于，所述柔性显示基板为柔性阵列基板，所述显示结构包括薄膜晶体管、栅线、栅绝缘层、数据线、钝化层、像素界定层、阳极、阴极和有机发光层，其中所述薄膜晶体管为顶栅型的低温多晶硅薄膜晶体管；所述柔性显示基板还包括：设于所述柔性基底和所述显示结构之间的反光层；该反光层用于在对所述柔性基底进行激光剥离时，对穿过所述柔性基底的激光进行反射；所述反光层还用于在制作所述显示结构时，对激光退火过程中穿过非晶硅层的激光进行反射。
【技术特征摘要】
1.一种柔性显示基板，包括柔性基底和显示结构，其特征在于，所述柔性显示基板为柔性阵列基板，所述显示结构包括薄膜晶体管、栅线、栅绝缘层、数据线、钝化层、像素界定层、阳极、阴极和有机发光层，其中所述薄膜晶体管为顶栅型的低温多晶硅薄膜晶体管；所述柔性显示基板还包括：设于所述柔性基底和所述显示结构之间的反光层；该反光层用于在对所述柔性基底进行激光剥离时，对穿过所述柔性基底的激光进行反射；所述反光层还用于在制作所述显示结构时，对激光退火过程中穿过非晶硅层的激光进行反射。2.根据权利要求1所述的柔性显示基板，其特征在于，所述反光层为金属反光层；所述反光层与显示结构之间还设有缓冲层。3.根据权利要求2所述的柔性显示基板，其特征在于，所述金属反光层由铝制成。4.根据权利要求3所述的柔性显示基板，其特征在于，所述金属反光层的厚度在150nm至300nm之间。5.根据权利要求1所述的柔性显示基板，其特征在于，所述反光层在与对位标记对应的位置设有开口。6.根据权利要求1至5中任意一项所述的柔性显示基板，其特征在于，所述柔性基底由有机柔性材料制成。7.根据权利要求1至5中任意一项所述的柔性显示基板，其特征在于，所述柔性显示基板为柔性顶发射型有机发光二极管显示装置的阵列基板。8.一种柔性显示装置，其特征在于，包括：权利要求1至7中任意一项所述的柔性显示基板。9...
【专利技术属性】
技术研发人员：陈立强，高涛，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11
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