【技术实现步骤摘要】
:本专利技术涉及一种加热盘和腔体的中心定位结构,尤其是加热盘与腔体定位装置,主要应用于半导体设备
技术介绍
:半导体设备中,设备安装时腔体需要与加热盘保持同心。这样设备在做工艺的时候才能实现晶元表面膜的沉积的均匀性,保证工艺的稳定性。如果腔体与加热盘安装时不同心,做工艺时的不稳定性。这样一来,不易于工艺沉积的结果。
技术实现思路
:针对上述现有技术的不足,本专利技术提供了加热盘与腔体定位装置。为实现上述目的,本专利技术采用的技术方案是:加热盘与腔体定位装置,包括上支撑,下支撑,定位销轴,上滑块和下滑块。三角形的上支撑通过定位销轴与下支撑连接。上滑块固定在上支撑上,下滑块固定在下支撑上。上支撑的末端设有与腔体内表面接触的上接触块。下支撑的末端设有与加热盘外表面接触的下接触块。优选的,所述的上滑块通过上螺栓固定在上支撑上。优选的,所述的下滑块通过下螺栓固定在下支撑上。本专利技术结构紧凑合理,由于采用上下两个定位工装分别实施定位中心,实现腔体与加热盘同心的目的,满足设备安装后加热盘与腔体保持同心的新型结构。通过定位销轴来定位两个工装的中心,进而能满足腔体与加热盘同心的目的,以满足使用要求,保证工艺的稳定性。附图说明:图1是本专利技术的结构示意图。具体实施方式:下面将结合本专利技术实施例中的附图,对本专利技术实施例中的技术方案进行清晰、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本专利技术保护的范围。如图1所示:加热盘与腔体定位装 ...
【技术保护点】
加热盘与腔体定位装置,其特征在于:包括上支撑,下支撑,定位销轴,上滑块和下滑块;三角形的上支撑通过定位销轴与下支撑连接,上滑块固定在上支撑上,下滑块固定在下支撑上,上支撑的末端设有与腔体内表面接触的上接触块,下支撑的末端设有与加热盘外表面接触的下接触块。
【技术特征摘要】
1.加热盘与腔体定位装置,其特征在于:包括上支撑,下支撑,定位销轴,上滑块和下滑块;三角形的上支撑通过定位销轴与下支撑连接,上滑块固定在上支撑上,下滑块固定在下支撑上,上支撑的末端设有与腔体内表面接触的上接触块,下支撑的末...
【专利技术属性】
技术研发人员:马壮,刘忆军,
申请(专利权)人:沈阳拓荆科技有限公司,
类型:发明
国别省市:辽宁;21
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