显影设备制造技术

本发明专利技术提供了一种显影设备，用于基板的显影制程，所述显影设备包括机台，所述机台上设有显影液室和多个可转动的支撑体，多个所述支撑体贯穿所述显影液室排布，多个所述支撑体上承载有所述基板，多个所述支撑体将所述基板传送至所述显影液室内；所述显影液室的出口处的多个所述支撑体的高度依次增加，使得传送到所述出口处的所述基板呈倾斜状态。本发明专利技术的显影设备，能够保证PR显影制程中玻璃基板前后端的显影液浓度均匀，从而很好地消除基板前后端的CD差异，提升液晶显示器的亮度均匀性。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及液晶显示器制造领域，尤其涉及一种显影设备。
技术介绍
液晶显示器的制造工艺包括阵列工艺，阵列工艺是在玻璃基板上有规则的做成TFT(薄膜晶体管)器件、像素等图案(Pattern)的过程。阵列工艺中又包括对光刻胶(Photoresist，简称PR)进行处理的PR工艺。PR工艺需要在玻璃基板上涂布光刻胶，进行曝光，再在玻璃基板上由前端到后端依次喷涂显影液。显影液与曝光的光刻胶化学反应，从而在玻璃基板上形成相应的光刻胶图案。现有技术中，玻璃基板的前端先于后端开始进行化学反应，前端的显影液浓度随着化学反应的进行而逐渐降低。此时玻璃基板后端较高浓度的显影液将向前端扩散，导致后端尚未充分化学反应显影液的浓度已经开始下降。前后端的显影液浓度出现差异，将导致最终形成的图案的间距——即前后端图案的临界尺寸(Critical Dimension，简称CD)存在差异，使得液晶显示器的亮度显示不均。
技术实现思路
有鉴于此，本专利技术提供了一种显影设备，能够保证PR显影制程中玻璃基板前后端的显影液浓度均匀。一种显影设备，用于基板的显影制程，所述显影设备包括机台，所述机台上设有显影液室和多个可转动的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种显影设备，用于基板的显影制程，其特征在于，所述显影设备包括机台，所述机台上设有显影液室和多个可转动的支撑体，多个所述支撑体贯穿所述显影液室排布，多个所述支撑体上承载有所述基板，多个所述支撑体将所述基板传送至所述显影液室内；所述显影液室的出口处的多个所述支撑体的高度依次增加，使得传送到所述出口处的所述基板呈倾斜状态。

【技术特征摘要】
1.一种显影设备，用于基板的显影制程，其特征在于，所述显影设备包括机台，所述机台上设有显影液室和多个可转动的支撑体，多个所述支撑体贯穿所述显影液室排布，多个所述支撑体上承载有所述基板，多个所述支撑体将所述基板传送至所述显影液室内；所述显影液室的出口处的多个所述支撑体的高度依次增加，使得传送到所述出口处的所述基板呈倾斜状态。2.根据权利要求1所述的显影设备，其特征在于，所述支撑体为滚轮或滚珠。3.根据权利要求1或2所述的显影设备，其特征在于，所述机台上还设有升降机构，所述升降机构与所述出口处的所述支撑体相连。4.根据权利要求1或2所述的显影设备，其特征在于，所述机台上沿所述基板的传送方向还设有导轮，所述导轮朝所述基...

【专利技术属性】
技术研发人员：郭开超，欧阳志华，
申请(专利权)人：武汉华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北;42