【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种二硫化铼单晶的生长方法。
技术介绍
过渡金属硫化物MS2(M可为W、Mo、Re等过渡金属材料)在二维材料单晶中占有了重要的比例,作为二维原子晶体材料家族的重要成员,二硫化铼(ReS2)具有不同于传统二维材料的结构和性质:低晶格对称性导致了二硫化铼独特的二维面内各向异性光学和电学性质,从而可以在场效应晶体管、光电探测器和新概念器件等方面具有极大应用价值,因此二硫化铼也成为了当今二维材料研究方向的热门材料。然而,受该材料结构和性质特殊性所困,该材料块材的制备仍然面临诸多问题。首先是制备该材料所需的铼源,其价态繁多,导致生长不可控;而单质铼的熔点高达3180℃,沸点更高达5900℃,从而导致其生长效率特别低;特别是ReS2低的晶格对称性和弱的层间偶合作用使该材料块材的生长行为比传统二维材料的生长更加复杂,材料的获取相对其他二维材料块材更为不易,这也阻碍其在光学和电学方面的更深入的研究。
技术实现思路
为了获得在实验中所需要使用的高纯度二硫化铼单晶材料,本专利技术提供了一种二硫化铼单晶的生长方法。本专利技术解决其技术问题所采用的技术方案是:取一定比例的三氧化铼与过量的硫粉混合放入石英管中并抽真空,在400℃下保温一至两天后,将得到的粉末研细后放在酒精灯上灼烧,去除多余的硫,得到纯度较高的二硫化铼多晶。将得到的去硫后的二硫化铼多晶与输运剂溴混合后,封入石英管并抽真空后放入多温区炉,利用化学气相输运法生长出二硫化铼单晶。本专利技术的有益效果是:可以获得高纯度、高品质的二硫化铼单晶晶体。具体实施方式:实施例:1.称取三氧化铼0.936g、纯硫粉0.28g ...
【技术保护点】
一种二硫化铼单晶的生长方法,其特征在于取一定比例的三氧化铼与过量的硫粉制得二硫化铼多晶后,将得到的粉末研细后放在酒精灯上灼烧去硫,并将得到的去硫后二硫化铼多晶与输运剂溴混合后,利用化学气相输运法生长出二硫化铼单晶。
【技术特征摘要】
1.一种二硫化铼单晶的生长方法,其特征在于取一定比例的三氧化铼与过量的硫粉制得二硫化铼多晶后,将得到的粉末研细后放在酒精灯上灼烧去硫,并将得到的去硫后二硫化铼多晶与输运剂溴混合后,利用化学气相输运法生长出二硫化铼单晶。2.根据权利要求1所述的一种二硫化铼单晶的生长方法,...
【专利技术属性】
技术研发人员:邱俊,
申请(专利权)人:南京安京太赫光电技术有限公司,
类型:发明
国别省市:江苏;32
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