【技术实现步骤摘要】
本技术涉及一种薄膜沉积装置，尤其涉及一种提高脉冲激光沉积薄膜均匀性的装置。
技术介绍
脉冲激光沉积技术是一种利用激光对物体进行轰击，将轰击出来的物质沉淀在衬底上而获得薄膜的一种方法。脉冲激光沉积技术的物理原理涉及高能量脉冲辐射冲击固体靶时，激光与物质之间的相互作用，包括等离子羽辉的形成、已熔化的物质通过等离子羽辉到达基片表面的转移、以及薄膜的生成过程。脉冲激光沉积通常可以分为四个阶段：（1）激光辐射与物质的相互作用；（2）熔化物质；（3）熔化物质在基片的沉积；（4）薄膜在基片表面的成核与生成。脉冲激光沉积技术具有如下优点：（1）获得期望化学计量比的多组分薄膜；（2）沉积速率高；（3）工艺参数任意调节，对靶材的种类没有限制。然而，脉冲激光沉积技术在沉积薄膜时有不足之处，主要问题是制备较大面积薄膜时的均匀性问题，通常制备薄膜面积大于20×20mm2时，薄膜不均匀性较为突出，可清晰看到薄膜表面不均匀性呈现的花纹带。因此，提高脉冲激光沉积薄膜均匀性无论对科学研究还是薄...
【技术保护点】
一种提高脉冲激光沉积薄膜均匀性的装置，其特征在于：包括：真空腔体（1）、样品台（2）、用于对样品台（2）进行加热的加热机构（3）、靶材（4）和激光器（5），所述样品台（2）、加热机构（3）、靶材（4）位于真空腔体（1）内，一带俯仰分光镜（6）和所述激光器（5）位于真空腔体（1）外，所述真空腔体（1）安装有一聚焦镜（7），所述激光器（5）、带俯仰分光镜（6）和聚焦镜（7）形成一光路；第一马达（8）连接到带俯仰分光镜（6）的背部，所述带俯仰分光镜（6）在第一马达（8）驱动下带动带俯仰分光镜（6）连续转动，第二马达（9）连接到靶材（4），所述带俯仰分光镜在第一马达（8）驱动下带动...
【技术特征摘要】
1.一种提高脉冲激光沉积薄膜均匀性的装置，其特征在于：包括：真空腔体（1）、样品台
（2）、用于对样品台（2）进行加热的加热机构（3）、靶材（4）和激光器（5），所述样品台（2）、加
热机构（3）、靶材（4）位于真空腔体（1）内，一带俯仰分光镜（6）和所述激光器（5）位于真空腔
体（1）外，所述真空腔体（1）安装有一聚焦镜（7），所述激光器（5）、带俯仰分光镜（6）和聚焦
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