多组成材料结构的LIFT印刷制造技术

一种用于材料沉积的方法包括：提供透明供体衬底(56、60)，所述透明供体衬底具有相对的第一表面与第二表面以及位于所述第二表面上的多个供体膜(62、64)，所述供体膜分别包含不同的材料。将所述供体衬底靠近受体衬底(41)定位，使所述第二表面面朝所述受体衬底。引导激光辐射的脉冲穿过所述供体衬底的所述第一表面并照射在所述供体膜上，以诱发熔融的小滴从所述供体膜喷至所述受体衬底上，所述熔融的小滴含有所述不同材料的整体混合物。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】201480054603

【技术保护点】
一种用于材料沉积的方法，其特征在于，包括：提供透明供体衬底，所述透明供体衬底具有相对的第一表面与第二表面以及位于所述第二表面上的多个供体膜，所述供体膜分别包含不同的材料；将所述供体衬底靠近受体衬底定位，使所述第二表面面朝所述受体衬底；以及引导激光辐射的脉冲穿过所述供体衬底的所述第一表面并照射在所述供体膜上，以诱发熔融的小滴从所述供体膜喷至所述受体衬底上，所述熔融的小滴含有所述不同材料的整体混合物。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2013.10.14 US 61/890,3461.一种用于材料沉积的方法，其特征在于，包括：
提供透明供体衬底，所述透明供体衬底具有相对的第一表面与第二
表面以及位于所述第二表面上的多个供体膜，所述供体膜分别包含不同
的材料；
将所述供体衬底靠近受体衬底定位，使所述第二表面面朝所述受体
衬底；以及
引导激光辐射的脉冲穿过所述供体衬底的所述第一表面并照射在所
述供体膜上，以诱发熔融的小滴从所述供体膜喷至所述受体衬底上，所
述熔融的小滴含有所述不同材料的整体混合物。
2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述供体膜包括至少第一
膜及第二膜，所述第一膜及所述第二膜分别包括不同的第一组分与第二组
分，由此使所述熔融材料包括所述第一组分与所述第二组分的组合，且其
中引导所述脉冲包括：选择所述位置，以控制所述熔融材料中所述第一组
分及所述第二组分的相对比例。
3.如权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述多个供体膜中的
至少一个具有在所述第二表面上变化的厚度。
4.如权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述多个供体膜包括
在所述第二表面上横向交错的至少第一膜与第二膜。
5.如权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述供体膜中的至少
两个具有不同的结构。
6.一种用于材料沉积的方法，其特征在于，包括：
提供透明供体衬底，所述透明供体衬底具有相对的第一表面与第二表
面以及在所述第二表面上呈不均匀分布的多个供体膜；
将所述供体衬底靠近受体衬底定位，使所述第二表面面朝所述受体衬
底；以及
引导激光辐射的脉冲穿过所述供体衬底的所述第一表面并照射在所

\t述供体膜上根据所述不均匀分布而选择的位置处，以诱发熔融材料的小滴
从所述供体膜喷至所述受体衬底上。
7.如权利要求6所述的方法，其特征在于，所述供体膜包括至少第一
膜及第二膜，所述第一膜及所述第二膜分别包括不同的第一组分与第二组
分，由此使所述熔融材料包括所述第一组分与所述第二组分的组合，且其
中引导所述脉冲包括：选择所述位置，以控制所述熔融材料中所述第一组
分及所述第二组分的相对比例。
8.如权利要求6或7所述的方法，其特征在于，所述多个供体膜中的
至少一个具有在所述第二表面上变化的厚度。
9.如权利要求6或7所述的方法，其特征在于，所述多个供体膜包括
在所述第二表面上横向交错的至少第一膜与第二膜。
10.如权利要求6或7所述的方法，其特征在于，所述供体膜中的至
少两个具有不同的结构。
11.如权利要求6或7所述的方法，其特征在于，所述供体膜中的至
少两个具有不同的材料组成。
12.如权利要求6或7所述的方法，其特征在于，所述供体膜中的至
少两个具有不同的厚度。
13.如权利要求6或7所述的方法，其特征在于，所述供体膜中的至
少两个具有不同的形态结构。
14.如权利要求6或7所述的方法，其特征在于，包括：通过选择所
述多个供体膜在所述供体衬底上的次序，控制在所述供体膜中吸收的激光
能量的量。
15.如权利要求6或7所述的方法，其特征在于，包括：通过选择所
述多个供体膜在所述供体衬底上的次序，控制所述熔融材料在所述受体衬
底上的沉积速率。
16.如权利要求6或7所述的方法，其特征在于，所述供体膜中的至
少一个包括复合基质。
17.如权利要求6或7所述的方法，其特征在于，包括：使所述供体
膜中的至少一个带电，以在所述受体上形成驻极体。
18.如权利要求6或7所述的方法，其特征在于，包括：通过控制所
述小滴的温度而在所述受体衬底上由所述熔融材料形成至少一个非晶层。
19.如权利要求6或7所述的方法，其特征在于，包括：通过控制所
述小滴的温度而在所述受体上形成结晶材料及非晶材料的混合结构。
20.如权利要求6或7所述的方法，其特征在于，所述供体膜包含至
少半导体材料及介电材料，且其中引导所述激光辐射的所述脉冲包括：在
所述受体衬底上形成包含所述半导体材料及所述介电材料的量子点。
21.一种用于材料沉积的方法，其特征在于，包括：
规定将要沉积在受体衬底上的化合物材料的组成；
提供透明供体衬底，所述透明供体衬底具有相对的第一表面与第二表
面以及形成在所述第二表面上的多个供体膜，所述供体膜分别包括所述规
定组成中的不同组分、并分别具有根据所述规定组成而选择的层厚度；
将所述供体衬底靠近受体衬底定位，使所述第二表面面朝所述受体衬
底；以及
引导激光辐射的脉冲穿过所述供体衬底的所述第一表面并照射在所
述供体膜上，以诱发所述规定组成的熔融材料的小滴从所述供体膜喷至所
述受体衬底上。
22.如权利要求21所述的方法，其特征在于，所述供体膜中的至少一
个具有在所述第二表面上变化的厚度。
23.如权利要求21所述的方法，其特征在于，所述多个供体膜包括在
所述第二表面上横向交错的至少第一膜与第二膜。
24.如权利要求21所述的方法，其特征在于，包括：通过选择所述多
个供体膜在所述供体衬底上的次序，控制在所述供体膜中吸收的激光能量
的量。
25.如权利要求21所述的方法，其特征在于，包括：通过选择所述多

\t个供体膜在所述供体衬底上的次序，控制所述熔融材料在所述受体衬底上
的沉积速率。
26.一种用于材料沉积的方法，其特征在于，包括：
提供透明供体衬底，所述透明供体衬底具有相对的第一表面与第二表
面以及位于所述第二表面上的多个供体膜，所述供体膜分别包含不同的金
属元素；
将所述供体衬底靠近受体衬底定位，使所述第二表面面朝所述受体衬
底；以及
引导激光辐射的脉冲穿过所述供体衬底的所述第一表面并照射在所
述供体膜上，其中射束参数被选择成诱发从具有适宜组成及温度的所述供
体膜喷出熔融材料的小滴，以在所述受体衬底上形成非晶合金。
27.如权利要求26所述的方法，其特征在于，包括：通过控制所述小
滴的温度而形成所述非晶合金。
28.如权利要求26所述的方法，其特征在于，包括：通过控制所述小
滴的温度而在所述受体衬底上形成结晶材料及所述非晶合金的混合结构。
29.一种用于材料沉积的方法，其特征在于，包括：
规定将要沉积在受体衬底上的化合物材料的组成；
提供透明供体衬底，所述透明供体衬底具有相对的第一表面与第二表
面以及形成在所述第二表面上的多个供体膜，所述供体膜分别包括所述规
定组成中的不同组分并分别具有根据所述规定组成而选择的层组成；
将所述供体衬底靠近受体衬底定位，使所述第二表面面朝所述受体衬
底；以及
引导激光辐射的脉冲穿过所述供体衬底的所述第一表面并照射在所
述供体膜上，以诱发所述规定组成的熔融材料的小滴从所述供体膜喷至所
述受体衬底上。
30.如权利要求29所述的方法，其特征在于，所述多个供体膜包括至
少一个具有第一基质复合结构的膜，以在所述受体衬底上形成第二基质复

\t合结构。
31.如权利要求29所述的方法，其特征在于，所述多个供体膜包括至
少一个带电膜，以在所述受体衬底上形成驻极体。
32.一种用于材料沉积的装置，其特征在于，包括：
透明供体衬底，具有相对的第一表面与第二表面，并具有位于所述第
二表面上的多个供体膜，所述供体膜分别包含不同的材料；
定位总成，用以将所述供体衬底靠近受体衬底定位，使所述第二表面
面朝所述受体衬底；以及
光学总成，用以引导激光辐射的脉冲穿过所述供体衬底的所述第一表
面并照射在所述供体膜上，以诱发熔融的小滴从所述供体膜喷至所述受体
衬底上，所述熔融的小滴含有所述不同材料的整体混合物。
33.如权利要求32所述的装置，其特征在于，所述供体膜包括至少第
一膜及第二膜，所述第一膜及所述第二膜分别包括不同的第一组分与第二
组分，由此使所述熔融材料包括所述第一组分与所述第二组分的组合，且
所述装置包括控制单元，所述控制单元用以选择所述位置，以控制所述熔
融材料中所述第一组分及所述第二组分的相对比例。
34.如权...

【专利技术属性】
技术研发人员：M·瑞欧，Z·寇特勒，
申请(专利权)人：奥宝科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：以色列;IL