光学玻璃熔体测试用坩埚装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种可避免玻璃熔液溢出坩埚以及可避免电气装置毁伤的光学玻璃熔体测试用坩埚装置。该光学玻璃熔体测试用坩埚装置，包括坩埚，还包括竖直设置于坩埚内底面上的绝缘筒；所述绝缘筒的高度高于坩埚的高度，绝缘筒的内壁上设有至少一条溢流槽，所述溢流槽的流出口位于绝缘筒上端的开口处。通过在坩埚中设置具有溢流槽的绝缘筒，在高温下，流动上涌的高温玻璃熔液会流入溢流槽，过量的高温玻璃熔液由溢流槽的流出口流出并流入坩埚中，避免了高温玻璃熔液从坩埚中溢出，便于坩埚的清洗；同时，因为过量的高温玻璃熔液是从溢流槽的流出口流出的，也避免了设置在绝缘筒上其他位置处的电气装置被污染、腐蚀。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
光学玻璃熔体测试用坩埚装置，包括坩埚(10)，其特征在于：还包括竖直设置于坩埚(10)内底面上的绝缘筒(20)；所述绝缘筒(20)的高度高于坩埚(10)的高度，绝缘筒(20)的内壁上设有至少一条溢流槽(22)，所述溢流槽(22)的流出口位于绝缘筒(20)上端的开口处。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：周佺佺，李林，
申请(专利权)人：成都光明光电股份有限公司，
类型：新型
国别省市：四川;51