总有机碳测定用瓷坩埚制造技术

技术编号:12871590 阅读:83 留言:0更新日期:2016-02-13 22:37
本实用新型专利技术提供了一种总有机碳测定用瓷坩埚,包括:底壁(10)和侧壁(20),侧壁(20)的外侧面上设置有凹槽(30)。本实用新型专利技术的技术方案能有效地解决现有技术中的坩埚在加热腔中取出和放置不便的问题。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及岩样室内成分分析器材的
,具体而言,涉及一种总有机碳测定用瓷坩祸。
技术介绍
目前油气开发过程中,沉积岩总有机碳的测定是储层评价的重要指标。测定过程中,采用稀盐酸取出样品中的无机盐,在高温氧气流中燃烧,使总有机碳转化为二氧化碳,经红外检测器检测并给出总有机碳的含量。而在进行这项实验对储层岩石评价过程中,需要对岩样粉末装入碳硫分析专用瓷坩祸,置于60°C?80°C的电热板上不断缓慢加入过量的盐酸溶液,至少反应2小时以上。然后使用去离子水不断清洗盐酸6小时,再烘干12小时,最终将带岩样的坩祸放入高温氧气流中加热。在现有技术中,坩祸钳夹持坩祸的外壁放至坩祸加热装置中。将坩祸放入筒状加热腔时,由于筒状加热腔的内径稍大于坩祸的外径,使用坩祸钳夹持坩祸的外壁放至坩祸加热装置时,坩祸的放置或取出非常不方便。
技术实现思路
本技术的主要目的在于提供一种总有机碳测定用瓷坩祸,以解决在坩祸外径与加热腔内径差别不大的情况下,现有技术中的坩祸在加热腔中取出和放置不便的问题。为了实现上述目的,本技术提供了一种总有机碳测定用瓷坩祸,包括:底壁和侧壁,其特征在于,所述侧壁的外侧面上设置有凹槽。进一步地,所述凹槽为多个。进一步地,多个凹槽沿侧壁周向布置。进一步地,多个凹槽沿侧壁周向均匀分布。进一步地,凹槽为偶数个。进一步地,凹槽从总有机碳测定用瓷坩祸的坩祸口处向底壁方向延伸。进一步地,凹槽的底部与底壁之间具有距离。进一步地,凹槽的槽深小于侧壁的厚度的一半。进一步地,凹槽的横截面呈矩形。进一步地,底壁的厚度大于侧壁的厚度。应用本技术的技术方案,在坩祸侧壁上设置凹槽。凹槽的设置提供了操作空间,使得工具可以直接与凹槽的槽底进行配合实现总有机碳测定用瓷坩祸的取放。具体地,在取放总有机碳测定用瓷坩祸时通过镊子或者端部细且直的坩祸钳伸入凹槽内夹住总有机碳测定用瓷坩祸即可轻松放入或者取出总有机碳测定用瓷坩祸。上述总有机碳测定用瓷坩祸结构简单,方便操作。【附图说明】构成本申请的一部分的说明书附图用来提供对本技术的进一步理解,本技术的示意性实施例及其说明用于解释本技术,并不构成对本技术的不当限定。在附图中:图1示出了根据本技术的总有机碳测定用瓷坩祸的实施例的纵剖面示意图;以及图2示出了图1的总有机碳测定用瓷坩祸的的俯视示意图。其中,上述附图包括以下附图标记:10、底壁;20、侧壁;30、凹槽。【具体实施方式】需要说明的是,在不冲突的情况下,本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本技术。如图1所示,本实施例的总有机碳测定用瓷坩祸,包括:底壁10和侧壁20,侧壁20的外侧面上设置有凹槽30。应用本实施例的总有机碳测定用瓷坩祸,在坩祸侧壁20上设置凹槽30。凹槽30的设置提供了操作空间,使得工具可以直接与凹槽30的槽底进行配合实现总有机碳测定用瓷坩祸的取放。具体地,在取放总有机碳测定用瓷坩祸时通过镊子或者端部细且直的坩祸钳伸入凹槽30内夹住总有机碳测定用瓷坩祸即可轻松放入或者取出总有机碳测定用瓷坩祸。上述总有机碳测定用瓷坩祸结构简单,方便操作。如图1和图2所示,在本实施例的总有机碳测定用瓷坩祸中,多个凹槽30沿侧壁20周向布置。上述结构可以实现方便夹取的目的。设置多个凹槽30沿侧壁20周向分布可以多方向夹持总有机碳测定用瓷坩祸,从而实现方便夹取的目的。如图1所示,在本实施例的总有机碳测定用瓷坩祸中,多个凹槽30沿侧壁20周向均匀分布。上述结构使得总有机碳测定用瓷坩祸在被工具夹持时受力更加均匀。同时,上述结构也能够保证总有机碳测定用瓷坩祸的结构强度。优选地,凹槽30为偶数个。上述结构可以实现方便夹取的目的。由于夹取动作需要两个施力点,当两施力点的连线穿过轴线时,可以以最小的力实现夹取动作。如图1和图2所示,在本实施例的总有机碳测定用瓷坩祸中,凹槽30为六个。如图1所示,在本实施例的总有机碳测定用瓷坩祸中,凹槽30从总有机碳测定用瓷坩祸口处向底壁10方向延伸。上述结构可以实现方便夹取的目的。由于凹槽30从总有机碳测定用瓷坩祸口处向底壁10方向延伸,夹取时,施力方向与总有机碳测定用瓷坩祸的轴线平行。上述结构可以实现以最小的力夹取总有机碳测定用瓷坩祸。如图1所示,在本实施例的总有机碳测定用瓷坩祸中,凹槽30的底部与底壁10之间具有距离。上述结构使得凹槽30与该坩祸形成凹槽台阶,当操作者使用外夹持坩祸钳伸入凹槽后,通过外夹持坩祸钳碰触到凹槽底部的凹槽台阶即可感知外夹持坩祸钳到达该坩祸的底部位置,可以进行操作。上述结构可以实现总有机碳测定用瓷坩祸可靠、耐用的目的。此外,总有机碳测定用瓷坩祸的底部需要有一定的厚度来保证总有机碳测定用瓷坩祸的强度。故凹槽30的底部应当与底壁10之间具有距离,来保证总有机碳测定用瓷坩祸底部的厚度,最终实现总有机碳测定用瓷坩祸可靠、耐用的目的。如图1所示,在本实施例的总有机碳测定用瓷坩祸中,凹槽30的槽深小于侧壁20的厚度的一半。上述结构可以使总有机碳测定用瓷坩祸结实、耐用。由于坩祸钳长期对总有机碳测定用瓷坩祸侧壁20上的凹槽30施力、摩擦,很可能导致总有机碳测定用瓷坩祸侧壁20的厚度变薄。如图1所示,在本实施例的总有机碳测定用瓷坩祸中,凹槽30的横截面呈矩形。上述结构可以实现方便夹取的目的。由于总有机碳测定用瓷坩祸钳上与总有机碳测定用瓷坩祸接触的面为平面,为了增加总有机碳测定用瓷坩祸钳与总有机碳测定用瓷坩祸之间的摩擦力,故总有机碳测定用瓷坩祸上的凹槽30底部也应为平面。故使用上述结构能够实现方便夹取的目的。此外,矩形槽加工简单,采用矩形槽能够降低加工成本。如图1所示,在本实施例的总有机碳测定用瓷坩祸中,底壁10的厚度大于侧壁20的厚度。上述结构可以实现总有机碳测定用瓷坩祸可靠、耐用的目的。除此之外,保证底壁10的厚度还可以保证被加热物质受热均匀。以上仅为本技术的优选实施例而已,并不用于限制本技术,对于本领域的技术人员来说,本技术可以有各种更改和变化。凡在本技术的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本技术的保护范围之内。【主权项】1.一种总有机碳测定用瓷坩祸,包括:底壁(10)和侧壁(20),其特征在于,所述侧壁(20)的外侧面上设置有凹槽(30)。2.根据权利要求1所述的总有机碳测定用瓷坩祸,其特征在于,所述凹槽(30)为多个。3.根据权利要求2所述的总有机碳测定用瓷坩祸,其特征在于,所述多个凹槽(30)沿所述侧壁(20)周向布置。4.根据权利要求2所述的总有机碳测定用瓷坩祸,其特征在于,所述多个凹槽(30)沿所述侧壁(20)周向均匀分布。5.根据权利要求2所述的总有机碳测定用瓷坩祸,其特征在于,所述凹槽(30)为偶数个。6.根据权利要求1所述的总有机碳测定用瓷坩祸,其特征在于,所述凹槽(30)从总有机碳测定用瓷坩祸的坩祸口处向所述底壁(10)方向延伸。7.根据权利要求6所述的总有机碳测定用瓷坩祸,其特征在于,所述凹槽(30)的底部与所述底壁(10)之间具有距离。8.根据权利要求1所述的总有机碳测定用瓷坩祸,其特征在于,所述凹槽(30)的槽深小于所述侧壁(20)的厚度的一本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种总有机碳测定用瓷坩埚,包括:底壁(10)和侧壁(20),其特征在于,所述侧壁(20)的外侧面上设置有凹槽(30)。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:刘福义韩淑静林中月符超于鹏宋扬李曹雄
申请(专利权)人:中国神华能源股份有限公司神华地质勘查有限责任公司
类型:新型
国别省市:北京;11

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