【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种制备柔性衬底薄膜的磁控溅射装置，包括基片与靶材，其特征在于，所述靶材包括上靶材与下靶材，两个靶材上下相对设置；上靶材的上部与下靶材的下部设有在两个靶材之间形成磁场的磁体，磁场方向与靶材垂直；所述基片垂直设置于两个靶材的外侧。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：彭寿，姚婷婷，金克武，张宽翔，杨勇，蒋继文，曹欣，徐根保，
申请(专利权)人：凯盛光伏材料有限公司，中国建筑材料科学研究总院，蚌埠玻璃工业设计研究院，
类型：新型
国别省市：安徽;34
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