透明电极的制造方法、透明电极及具备该透明电极的有机场致发光元件技术

本发明专利技术提供能够抑制因透明导电层的高度不均导致的透明电极的表面平滑性降低的透明电极的制造方法、透明电极及具备该电极的有机EL元件。本发明专利技术的透明电极是具有透明基材(12)、将透明基材(12)的表面的一部分覆盖并由导电材料形成的细线构造部(13)、和按照将细线构造部(13)覆盖的方式形成在透明基材(12)上的透明导电层(21)的透明电极，其中，用2层以上的层形成透明导电层(21)。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及透明电极的制造方法、透明电极及具备该透明电极的有机场致发光元件，特别是涉及使用了涂布或印刷法的透明电极的制造方法。
技术介绍
近年来，作为继液晶显示元件(IXD)之后的下一代显示设备，研究开发了具备二维排列了有机场致发光元件(以下略记为“有机EL元件”)等自发光元件的发光元件型显示面板的发光装置。有机EL元件具备阳极、阴极和形成在这一对电极之间的例如具有有机发光层、空穴注入层等的有机EL层(发光功能层)。有机EL元件中，在有机发光层中通过空穴与电子进行再结合而产生的能量来发光。这种有机EL元件的将光取出一侧的透明电极一般来说使用锡掺杂氧化铟(IndiumTin Oxide ;ΙΤ0)或锌掺杂氧化铟(Indium Zinc Oxide; ΙΖ0)等形成。但是，使用这些材料形成透明电极时，为了获得低电阻，必须形成厚且均匀的膜，有时透明电极的透光率会减少或具备这种透明电极的制品变得昂贵。另外，在透明电极的形成工艺中有时需要进行高温处理。因此，特别是对于膜上的透明电极的低电阻化是有限的(例如参照专利文献1)。就上述透明电极而言，近年来开发了未使用ΙΤ0等的透明电极的技术。作为形成未使用IT 0等的透明电极的方法，例如提出了以下的方法(例如参照专利文献2、3)。首先，制作配置了一样的网格状、梳子型或栅格型等金属及/或合金的细线构造部的导电性面。接着，在该导电性面上例如使用涂布法或印刷法涂饰将导电性高分子材料溶解或分散在适当溶剂中而成的油墨，形成透明导电层。如此，形成未使用ΙΤ0等的透明电极。现有技术文献专利文献专利文献1:日本特开平10-162961号公报专利文献2:日本特开2005-302508号公报专利文献3:日本特开2006-93123号公报
技术实现思路
专利技术要解决的技术问题上述透明导电层的形成方法中，例如使用涂布法或印刷法将含有导电性高分子材料的油墨喷吐或转印至基材上之后，油墨中含有的溶剂蒸发，从而干燥固化，形成涂膜。此时，由于配置在涂膜下部的由金属及/或合金的细线构造部所构成的导电性面的形状的影响，在油墨的干燥过程中，有时导电性高分子材料的流动变得不均匀、从而所形成的透明导电层的高度变得不均匀。因此，上述透明导电层的形成方法具有透明电极的表面平滑性降低的问题。透明电极的表面形状变得不均匀时，例如作为有机EL元件的透明电极进行使用时，施加于有机EL层的电场强度有时变得不均匀。因此，现有技术的透明电极具有发光工作时的发光开始电压或自有机EL层放射的光的波长(即发光时的色度)偏离设计值、无法获得所希望的发光色的问题，同时具有在电场集中的区域、有机EL层(有机EL元件)劣化变得明显、发光的可靠性或寿命降低的问题。本专利技术鉴于上述事实而作出，其目的在于提供能够抑制因透明导电层的高度不均所导致的透明电极的表面平滑性降低的透明电极的制造方法、透明电极、及具备该透明电极的有机EL元件。用于解决技术问题的方法为了达成上述目的，本专利技术的一个方式为一种透明电极，其特征在于，其为具有透明基材、将所述透明基材的表面的一部分覆盖并由导电材料形成的细线构造部、和按照将所述细线构造部覆盖的方式形成在所述透明基材上的透明导电层的透明电极，其中，用2层以上的层形成所述透明导电层。另外，上述透明电极中，可以在除去作为所述细线构造部的形成区域的细线构造部形成区域之外的区域中，使将所述透明导电层的各层分离的界面的至少一部分比所述细线构造部的最上部还低。另外，上述透明电极中，从平行于所述透明基材的方向上看，可以使将所述透明导电层的各层分离的界面的形状在作为所述细线构造部的形成区域的细线构造部形成区域中为凸形状、在除去所述细线构造部形成区域的区域中为凹形状。另外，上述透明电极中，可以使所述透明导电层含有聚噻吩、聚噻吩的衍生物、或者聚噻吩与聚噻吩的衍生物的混合物。另外，上述透明电极中，可以使所述透明导电层含有聚苯胺、聚苯胺的衍生物、或者聚苯胺与聚苯胺的衍生物的混合物。另外，由多层构成的透明导电层从提高生产率的方面出发优选全部使用相同的材料形成，但也可以各层使用不同的材料。另外，通过在形成各层时调整油墨的粘度或粘性值，也可以提高平坦性。另外，本专利技术的另一方式为一种透明电极的制造方法，其特征在于，其为具有透明基材、将所述透明基材的表面的一部分覆盖并由导电材料形成的细线构造部、和按照将所述细线构造部覆盖的方式形成在所述透明基材上的透明导电层的透明电极的制造方法，该制造方法包含下述透明导电层形成工序:在形成有所述细线构造部的所述透明基材上的所述透明电极的形成区域上涂布含有所述透明导电层的材料的溶液之后，在涂布了所述溶液的所述透明电极的形成区域上再涂布至少一次所述溶液，从而形成所述透明导电层。另外，上述透明电极的制造方法中，所述透明导电层形成工序可以在最后一次的所述溶液的涂布之前实施使涂布在所述透明电极的形成区域上的所述溶液干燥、形成成为所述透明导电层一部分的薄膜的薄膜形成工序，从而形成所述透明导电层。另外，上述透明电极的制造方法中，所述透明导电层形成工序可以包含在所述透明电极的形成区域整个面上涂布所述溶液的整面涂布工序、和仅在所述透明电极的形成区域中除去形成有所述细线构造部的细线构造部形成区域之外的区域上涂布所述溶液的部分涂布工序。另外，上述透明电极的制造方法中，所述透明导电层形成工序可以在最初实施所述部分涂布工序。另外，上述透明电极的制造方法中，所述透明导电层形成工序可以在最后实施所述部分涂布工序。另外，上述透明电极的制造方法中，在所述整面涂布工序和所述部分涂布工序中、涂布方法可以分别不同。另外，本专利技术的又一方式是一种透明电极，其是通过所述透明电极的制造方法制造的。另外，本专利技术的再一方式是一种有机场致发光元件，其具备所述透明电极。专利技术效果本专利技术的一个方式由于用2层以上的层形成透明导电层，因此可以缓和透明导电层的形成时细线构造部的形状的影响。因此，可以使透明导电层的高度均匀化、获得表面平滑性高的透明电极。因而，根据本专利技术的一个方式，可获得发光品位及生产率高的有机场致发光元件。【附图说明】图1是表示第1、第2及第3实施方式的形成有细线构造部的透明基材的构造的概略俯视图。图2是表示第1实施方式的透明电极制造方法的要部具体例的工序截面图。图3是表示第2实施方式的透明电极制造方法的要部具体例的工序截面图。图4是表示第3实施方式的透明电极制造方法的要部具体例的工序截面图。【具体实施方式】以下对本专利技术实施方式的透明电极的制造方法、透明电极及具备该透明电极的有机EL元件进行说明。其中，在以下的详细说明中，为了提供本专利技术实施方式的完整理解，对多个特定的细微部分进行了记载。但是，当然应该清楚的是即便没有该特定的细微部分，也可实施1个以上的实施方式。另外，为了使附图变得简洁，周知的构造及装置用略图进行表不ο对第1实施方式的透明电极的构成、透明电极的制造方法及有机EL元件的构成进行说明。<透明电极的构成>本实施方式的透明电极具有透明基材、金属及/或合金的细线构造部、和使用涂布法或印刷法形成的透明导电层。透明电极通常设置在透明基材上，自基材侧依次制作细线构造部、透明导电层，从而构成。本实施方式的透明电极在用于有机EL元件中时，从提高亮本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种透明电极，其特征在于，其为具有透明基材、将所述透明基材的表面的一部分覆盖并由导电材料形成的细线构造部、和按照将所述细线构造部覆盖的方式形成在所述透明基材上的透明导电层的透明电极，其中，用2层以上的层形成所述透明导电层。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：木津贵志，增冈宏一，
申请(专利权)人：凸版印刷株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP