聚酯薄膜以及使用该聚酯薄膜的透明电极膜制造技术

本发明专利技术提供一种用于触摸屏面板的聚酯薄膜，以及使用该聚酯薄膜的透明电极膜，更具体地，提供一种能够阻滞聚酯薄膜内的低聚物在加热时迁移到表面并且加热后雾度变化率低从而用于光学用途的聚酯薄膜，以及使用该聚酯薄膜的透明电极膜。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种用于触摸屏面板的聚酯薄膜，以及使用该聚酯薄膜的透明电极膜。更具体地，本专利技术涉及一种能够阻滞聚酯薄膜内的低聚物在加热时迁移到表面并且加热后雾度变化率低从而用于光学用途的聚酯薄膜，以及使用该聚酯薄膜的透明电极膜。
技术介绍
光学薄膜随着诸如液晶显示器(LCD)、等离子体显示面板(PDP)等背光单元(BLU)市场的扩大而发展。近来，由于移动电话、平板电脑等的发展而被用于诸如触摸屏面板(TSP)等各种用途。在这种光学薄膜中，要求有优异的透明度和可见度，并且使用具有优异的机械和电学性能的双向拉伸聚酯薄膜作为基膜。然而，由于双向拉伸聚酯薄膜的表面硬度低且耐磨性或耐擦伤性不足，因此当该膜用作各种显示器的光学构件时，由于与物体的摩擦或接触而容易发生表面损伤。为了防止这种损伤，在其表面进行硬质涂布后使用薄膜。特别是，除了涂布至TSP的用于氧化铟锡(ITO)透明电极的光学薄膜以外，必须硬涂布由Ag纳米线、金属网等形成的透明电极用新型光学薄膜。然而，在硬质涂布工艺中，要求使用光学薄膜作为基质，在一个表面或两个表面上进行单独的硬质涂布工艺，并且在硬质涂布工艺以后，需要单独的物理性能，即，不呈彩色性能(a rainbow free property)，因而工艺损耗严重并且成本昂贵。另外，在诸如棱角镀膜工艺(a prism coating process)、扩散涂布工艺、退火工艺等各种加工过程中，所述光学薄膜经常发生与低聚物有关的质量劣化问题，因而需要能够抑制低聚物迁移到表面的功能薄膜。为了防止聚酯薄膜的低聚物迁移，使用在聚合聚酯薄膜时降低低聚物的含量的方法，或者将聚酯薄膜在高温下熟化的方法，或者使用诸如聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)或聚酰亚胺(PI)等高耐热聚合物。或者，使用在聚酯薄膜上形成层压膜以控制低聚物的释放的方法。这些努力旨在控制低聚物的释放，但是还不足以完全阻滞低聚物释放。
技术实现思路
技术问题本专利技术的一个实施方案旨在提供一种透明电极用基膜，该基膜通过形成高硬度的底涂层而能够具有优异的阻滞低聚物迁移到表面的性能。本专利技术的一个实施方案旨在提供一种透明电极用基膜，由于该基膜的2H以上的硬度，能够通过省略硬质涂布工艺而简化制备工艺并降低工艺成本，从而能够显著地并同时地改善加工性能和物理性能。技术方案在一个总的方面，聚酯薄膜包括：由聚酯树脂形成的基底层；以及层压在所述基底层的两个表面上的底涂层，其中，所述底涂层的硬度为2H以上，根据下面的等式1的雾度变化率(△H)为0.1％以下，[等式1]△H(％)＝Hf-Hi在等式1中，Hf是薄膜在150℃下维持60分钟之后的雾度，Hi是薄膜在加热之前的雾度。在另一总的方面，透明电极膜包括在如上所述的聚酯薄膜上形成的透明电极膜。有益效果根据本专利技术的聚酯薄膜能够提供适合用作包括用于触摸面板的透明电极用膜的光学薄膜的加工性能和物理性能。另外，根据本专利技术，在透明导电膜的制备工艺中，可以省略涂布硬质涂层的工艺，因此工艺会简化并且成本会降低。此外，根据本专利技术，由于在工艺过程中可以基本避免由低聚物迁移到表面带来的透明性劣化问题，从而能够提供光学性能更优异的薄膜。此外，根据本专利技术，由于省略形成具有微米单位的厚度的硬质涂层的硬质涂布工艺，能够制备厚度较薄的光学薄膜，因此触摸面板可以变薄，从而，光学薄膜可以应用于各个工业领域。附图说明图1是模拟图，示出了根据本专利技术的底涂层层压在基膜的两个表面上的透明导电薄膜；图2示出了在评价阻滞时的阻滞程度。附图标记1：透明电极层2：底涂层3：基底层具体实施方式下文中，为了更详细地描述本专利技术，将提供本专利技术的实施方案。然而，本专利技术不局限于下面的实施方案。根据本专利技术的一个方面，聚酯薄膜包括：由聚酯树脂形成的基底层和层压在所述基底层的两个表面上的底涂层。如图1所示，根据本专利技术的另一方面，透明电极膜包括在聚酯薄膜上形成的透明电极层1，所述聚酯薄膜包括基底层3和层压在所述基底层的两个表面上的底涂层2。根据本专利技术的另一方面，虽然没有图示，透明电极膜包括在聚酯薄膜上形成的透明电极层1，所述聚酯薄膜包括基底层3和层压在该基底层的两个表面上的底涂层2；以及在与形成透明电极层1的表面相对的表面上顺序形成的粘结层和保护膜。在本专利技术的一个方面中，“底涂层”指在聚酯薄膜的制备工艺中的拉伸工艺中形成的，或者在拉伸工艺以前涂布从而通过拉伸工艺形成的涂层。另外，在本专利技术的一个方面中，“透明电极膜”指包括设置有底涂层的聚酯薄膜和在其一个表面上形成的透明电极的层压体。对于所述聚酯基底层的厚度没有特别限制，但是可以优选为25至250μm。更优选地，厚度可以为50至188μm。当所述基底层的厚度小于25μm时，不能实现适合光学薄膜的机械性能，当所述厚度大于250μm时，薄膜的厚度变得过厚，不适合显示装置的薄化，并且光学性能会劣化。优选地，由聚酯树脂形成的基底层只由聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)树脂形成。此时，使用的聚对苯二甲酸乙二醇酯树脂的固有粘度优选为0.5至1.0dl/g，更优选为0.60至0.80dl/g。当基底层的聚对苯二甲酸乙二醇酯树脂的固有粘度小于0.5dl/g时，耐热性会降低，当固有粘度大于1.0dl/g时，不易加工原料，因此可加工性会降低。所述基底层可以含有选自二氧化硅、高岭土、沸石中的任意一种或至少两种无机粒子，并且基于全部聚酯树脂的重量，其含量可以在10至1000ppm的范围内。本专利技术包括在所述聚酯薄膜的两个表面上的底涂层，其中，所述底涂层除了如现有技术的光学薄膜那样提高与其它基底的粘合力以外，还可以防止由于在聚合PET时必然发生的低聚物的析出而引起的质量下降，并且起到防止在加工工艺的过程中发生诸如表面擦伤等现象的硬质涂层的作用。因此，为了起到如上所述的硬质涂层的作用，需要调节底涂层的表面硬度。用于控制在工艺过程中发生的表面擦伤的硬质涂层形成为具有微米(μm)单位，概括来讲，硬质涂层通过单独的工艺在聚酯薄膜的底涂层上形成，从而实现其性能。此时，由于进行单独的工艺，除了生产成本增加以外，成本会由于产率的降低等而增加，由此形成昂贵的产品群。然而，根据本专利技术，开发提高底涂层的硬度的产品，从而开发在不进行形成单独的硬质涂层的工艺的情况下，能够充当硬质涂层的聚酯薄膜。所述聚酯薄膜可以用作透明电极用基底。更详细地，底涂层的硬度优选地为2H以上，并且根据下面的等式1的雾度变化率(△H)为0.1％以下，[等式1]△H(％)＝Hf-Hi在等式1中，Hf是薄膜在150℃下维持60分钟之后的雾度(％)，Hi是薄膜在加热之前的雾度。在所述底涂层的硬度为2H以上的范围内，可以在不形成单独的硬质涂层的情况下控制在后加工工艺的过程中发生的擦伤。所述雾度变化率是与低聚物的迁移有关的物理性能，当在150℃下维持60分钟之后膜的雾度为0.1％以下时，判断为低聚物的迁移几乎被阻滞。根据本专利技术，为了提供满足上述物理性能的聚酯薄膜，可以调节底涂层使其干燥涂布厚度为20至150nm。此时，干燥涂布厚度指在形成底涂层后底涂层完全干燥的状态下底涂层的厚度。当所述干燥涂布厚度小于20nm时，低聚物阻滞性能会不能充分实现，因此即使表面硬度为2H以上，在基膜硬度为HB、F水平时也会发生诸如擦伤等损伤。另外，当干燥本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种聚酯薄膜，包括：由聚酯树脂形成的基底层；以及层压在所述基底层的两个表面上的底涂层，其中，在所述底涂层中，硬度为2H以上，并且根据下面的等式1的雾度变化率(△H)为0.1％以下，[等式1]△H(％)＝Hf‑Hi在等式1中，Hf是所述薄膜在150℃下维持60分钟之后的雾度，Hi是所述薄膜在加热之前的雾度。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.03.31 KR 10-2014-00378961.一种聚酯薄膜，包括：由聚酯树脂形成的基底层；以及层压在所述基底层的两个表面上的底涂层，其中，在所述底涂层中，硬度为2H以上，并且根据下面的等式1的雾度变化率(△H)为0.1％以下，[等式1]△H(％)＝Hf-Hi在等式1中，Hf是所述薄膜在150℃下维持60分钟之后的雾度，Hi是所述薄膜在加热之前的雾度。2.根据权利要求1所述的聚酯薄膜，其中，所述底涂层的干燥涂布厚度为20至150nm。3.根据权利要求1所述的聚酯薄膜，其中，所述底涂层通过连线涂布法形成。4.根据权利要求1所述的聚酯薄膜，其中，所述底涂层通过涂...

【专利技术属性】
技术研发人员：郑斗焕，朴载奉，崔城兰，
申请(专利权)人：可隆工业株式会社，
类型：发明
国别省市：韩国;KR