用于有机电子器件的基板制造技术

本发明专利技术涉及用于有机电子器件的基板、有机电子装置、所述基板或装置的制造方法、显示器用光源、及照明装置。本发明专利技术的用于有机电子器件的基板可例如通过阻断如水分或氧气等外来物质的渗入，由此形成具有耐久性提高且光提取效率等性能优异的有机电子装置。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于有机电子器件的基板
本专利技术涉及用于有机电子器件的基板、有机电子装置、所述基板或装置的制造方法、光源、及照明装置。
技术介绍
有机电子器件(OED；OrganicElectronicDevice)，例如是一种如专利文献1(日本公开专利公报第1996-176293号)所述的包括至少一个能够传导电流的有机材料层的器件。有机电子器件的种类包括有机发光器件(OLED)、有机太阳能电池、有机光导体(OPC)、或有机晶体管等。有机发光器件，作为具代表性的有机电子器件，通常依次包括基板、第一电极层、有机层、及第二电极层。在一种已知的底部发光型器件(bottomemittingdevice)的结构中，所述第一电极层可形成为透明电极层，且第二电极层可形成为反射电极层。此外，在一种已知的顶部发光型器件(topemittingdevice)的结构中，所述第一电极层可形成为反射电极层，且第二电极层可形成为透明电极层。由电极层注入的电子(electron)和空穴(hole)在位于有机层的发光层中重新结合(recombination)以产生光。该光在底部发光型器件中可向基板侧发射，而在顶部发光型器件中可向第二电极层侧发射。在有机发光器件的结构中，通常用作透明电极层的铟锡氧化物(ITO；IndiumTinOxide)、有机层、以及通常为玻璃的基板的折射率分别为约2.0、1.8和1.5。由于这些折射率之间的关系，例如，底部发光型器件的发光层中产生的光在有机层与第一电极层之间的界面处或者在基板中的全内反射(totalinternalreflection)现象而被捕集(trap)，因此，仅发射出非常少量的光。另外，近来，随着对柔性(flexible)有机电子器件的关注逐渐提高，在上述有机发光器件的结构中使用聚合物类基板来代替玻璃基板的技术需要也逐渐增多。但是，当使用这种聚合物类基板时，由于其在高温及湿润的环境下比玻璃类基板更加脆弱，因此，具有难以适用于有机电子器件的缺点。
技术实现思路
专利技术要解决的课题本专利技术提供用于有机电子器件的基板、有机电子装置、所述基板或装置的制造方法、光源及照明装置。解决课题的方法本专利技术的一个实施方案提供一种用于有机电子器件的基板，其包括第一聚合物基底层、光学功能层、高折射层、及阻挡层。用于有机电子器件的基板可具有例如所述第一聚合物基底层、光学功能层、及高折射层依次层叠的结构，所述阻挡层可形成在所述第一聚合物基底层或高折射层的一面或两面。如图1所示，例示性的用于有机电子器件的基板1具有如下结构，在第一聚合物基底层101上依次形成有光学功能层102和高折射层103，第一阻挡层104形成在所述第一聚合物基底层101和光学功能层102之间，第二阻挡层105形成在高折射层103的未形成有光学功能层的一面。在另一实施方案中，用于有机电子器件的基板1可具有如下结构，阻挡层形成在高折射层103与光学功能层102之间，或形成在第一聚合物基底层101的下部。第一聚合物基底层可使用合适的聚合物基底层而无特别限制。例如，基板适用于底部发光型器件时，可使用透明聚合物基底层，例如使用对可见光区域内的光的透过率为50％以上的聚合物基底层。根据需要，所述聚合物基底层可为具有驱动用薄膜电晶体(TFT)的薄膜电晶体基板。当基板用于顶部发光(topemission)型器件时，聚合物基底层并不是必须为透明基底层。根据需要，可在聚合物基底层的表面等形成有由铝等形成的反射层。作为第一聚合物基底层，例如可使用相对于波长为633nm的光的折射率为约1.5以上、约1.6以上、约1.65以上或约1.7以上的聚合物基底层。在一个实施方案中，对第一聚合物基底层的厚度没有特别的限定，例如，可使用厚度为10μm至100μm的聚合物基底层。在一个实施方案中，第一聚合物基底层可使用满足下述公式1的聚合物基底层。[公式1]15μm≤n×d≤200μm在公式1中，n为第一聚合物基底层相对于波长为633nm的光的折射率，d为第一聚合物基底层的厚度。对于满足上述公式1的聚合物基底层而言，相对于波长为633nm的光的折射率与第一聚合物基底层的厚度的乘积可以是15μm至200μm、30μm至100μm、或45μm至60μm。在第一聚合物基底层满足上述数值范围的情况下，可缓解当第一聚合物基底层作为基板适用于有机电子装置时由应力导致的后述第一电极层如ITO电极层发生破裂的现象等，因此，可实现耐久性及光提取性能更加优异的有机电子装置。作为第一聚合物基底层，例如可以是包含聚酰胺酸、聚酰亚胺，聚萘二甲酸乙二醇酯，聚醚醚酮、聚碳酸脂、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚醚硫化物、聚砜或丙烯酸树脂等的基底层，但并不限定于此。在一个合适的实施方案中，从工艺温度或光提取性能的方面考虑，第一聚合物基底层可使用包含聚酰亚胺的基底层。在一个实施方案中，对于包含所述聚酰亚胺的基底层，例如可包含相对于波长为633nm的光的折射率为约1.5以上、约1.6以上、约1.65以上或约1.7以上的聚酰亚胺。这种高折射的聚酰亚胺例如可通过使用引入了除氟以外的卤素原子、硫原子或磷原子等的单体来制备。在一个实施方案中，作为包含在所述基底层中的聚酰亚胺，可使用相对于633nm波长的光的折射率为约1.5以上、约1.6以上、约1.65以上或约1.7以上的聚酰胺酸经过酰亚胺化后的物质。在一个实施方案中，作为所述聚酰胺酸，可使用具有能够与颗粒键合的位点(如羧基)以能够提高颗粒的分散稳定性的聚酰胺酸。作为聚酰胺酸，例如，可使用包含如下化学式1所示的重复单元的化合物。[化学式1]在化学式1中，n为例如1以上的正数。所述重复单元可任选地被至少一个取代基取代。作为取代基，可以使用包含除氟以外的卤素原子；苯基；苄基；萘基；或含卤素原子、硫原子或磷原子的官能团，例如噻吩基。聚酰胺酸可为仅由所述化学式1重复单元形成的均聚物，或者是包含除化学式1重复单元以外的其他单元的嵌段或无规共聚物。在所述共聚物中，例如其他重复单元的种类或比例可以在不阻碍期望的折射率、耐热性或透光率等的范围内适当地选择。作为化学式1的重复单元的具体实例，可以是化学式2的重复单元。[化学式2]在化学式2中，n为例如1以上的正数。由凝胶渗透色谱(GPC，GelPermeationChromatograph)测得的基于标准聚苯乙烯换算的所述聚酰胺酸的重均分子量可约为10,000至100,000、或10,000至50,000。具有化学式1的重复单元的聚酰胺酸还在可见光区域的透光率为80％以上、85％以上或90％以上，并具有优异的耐热性。在第一聚合物基底层的一面或两面可具有阻挡层。在本说明书中，术语“阻挡层”是指具有能够防止大气中的氧气、水分、氮氧化物、硫氧化物、或臭氧渗入的功能的层。阻挡层只要具有上述功能，就可根据所需的用途做适当的选择而没有特别的限制。阻挡层的材料可以是具有如下功能的材料：能够防止如水分和氧气等促进器件劣化的物质渗入到器件内。阻挡层的具体实例包括：如In、Sn、Pb、Au、Cu、Ag、Al、Ti及Ni等的金属；如TiO、TiO2、Ti3O3、Al2O3、MgO、SiO、SiO2、GeO、NiO、CaO、BaO、Fe2O3、Y2O3、ZrO2、Nb2O3、及CeO2等的金属氧本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于有机电子器件的基板，其包括：第一聚合物基底层；光学功能层，其形成在所述第一聚合物基底层上；高折射层，其形成在所述光学功能层上；及阻挡层，其形成在所述第一聚合物基底层、或高折射层的一面或两面，并且其相对于波长为633nm的光的折射率为1.45以上。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2012.11.30 KR 10-2012-0138342;2013.12.02 KR 10-2011.一种用于有机电子器件的基板，其包括：第一聚合物基底层，所述第一聚合物基底层相对于波长为633nm的光具有1.6以上的折射率；具有10％至50％的雾度的光学功能层，其形成在所述第一聚合物基底层上；形成在所述光学功能层上的高折射层，所述高折射层具有平整层和第二聚合物基底层堆叠的结构，所述平整层形成在所述光学功能层上并且相对于波长为633nm的光具有1.7以上的折射率，所述第二聚合物基底层形成在所述平整层上并且相对于波长为633nm的光具有1.6以上的折射率；以及阻挡层，其形成在所述第一聚合物基底层的一面或两面上或高折射层的一面或两面上，并且其相对于波长为633nm的光的折射率为1.45以上。2.根据权利要求1所述的用于有机电子器件的基板，其中：所述第一聚合物基底层满足下述公式1，[公式1]15μm≤n×d≤200μm，在公式1中，n为所述第一聚合物基底层相对于波长为633nm的光的折射率，d为所述第一聚合物基底层的厚度。3.根据权利要求1所述的用于有机电子器件的基板，其中：所述第一聚合物基底层包含聚酰胺酸、聚酰亚胺、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚醚醚酮、聚碳酸脂、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚醚硫化物、聚砜、丙烯酸树脂、聚苯乙烯或环氧树脂。4.根据权利要求1所述的用于有机电子器件的基板，其中：所述阻挡层包含选自TiO、TiO2、Ti3O3、Al2O3、MgO、SiO、SiO2、GeO、NiO、CaO、BaO、Fe2O3、Y2O3、ZrO2、Nb2O3及CeO2中的一种以上。5.根据权利要求1所述的用于有机电子器件的基板，其中：所述光学功能层为光散射层。6.根据权利要求5所述的用于有机电子器件的基板，其中：所述光散射层包含基体材料及与所述基体材料的折射率不同的散射颗粒。7.根据权利要求5所述的用于有机电子...

【专利技术属性】
技术研发人员：金持凞，李政炯，崔俊礼，
申请(专利权)人：株式会社LG化学，
类型：发明
国别省市：韩国;KR