提供一种叠层膜，其包含：(A)透光性导电膜；及(B)保护膜，其中，在进行透光性导电膜(A)的蚀刻处理之后，抗蚀阻剂渣难以附着于保护膜(B)侧的表面。一种叠层膜，其透光性导电膜(A)包含：一层以上的(A-1)透光性支持层；以及一层以上的(A-2)透光性导电层，并且，所述透光性导电膜(A)的至少一层最外层为一层透光性导电层(A-2)，作为所述透光性导电膜(A)最外层的所述透光性导电层(A-2)的至少之一设置于所述叠层膜的一个表面上，保护膜(B)设置于所述叠层膜的另一表面上，且所述保护膜(B)侧的所述表面对水的接触角为70°以上。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术设及一种叠层膜及其膜卷、W及可由其得到的透光性导电膜及利用其的触 摸板。
技术介绍
作为搭载于触摸板的透光性导电膜，多使用在由PET等构成的透光性支持层上叠 层由氧化铜锡（ITO)等构成的透光性导电层而得到的透光性导电膜。该透光性导电膜通常 W透光性导电层为最外层的方式配置。通常，该透光性导电膜在制造后，暂且W膜卷的形式 进行卷绕，然后从制造地运输至下一个目的地，通过在其目的开卷而恢复膜的状态，然后进 行进一步加工或者使用。 该样，在作为膜卷卷绕时，有时W保护透光性导电膜的目的将所谓的保护膜贴合 在与透光性导电膜的透光性导电层相反侧的面上，做成叠层膜（专利文献1)。该叠层膜W 膜卷的形式进行卷绕时，透光性导电层和保护膜的表面处于彼此邻接的状态。 透光性导电膜有时在将透光性导电层作为例如格子状等电极进行成形（所谓的 图案形成）的基础上使用。透光性导电层的图案形成通过在将不希望除去的区域用被称为 抗蚀阻剂的保护膜保护后进行药品处理，仅对未被保护的区域进行透光性导电层的除去即 所谓的蚀刻处理。 该蚀刻处理在将上述叠层膜卷绕而成的膜卷开卷并恢复为膜的状态后进行。具体 而言，W膜的状态依次进行利用抗蚀阻剂的处理及利用蚀刻液的处理。 该叠层膜用于在最终剥离保护膜后，作为透光性导电膜搭载于触摸板等用途。 现有技术文献 [000引专利文献 专利文献1 ;日本特开2001-332132号公报
技术实现思路
专利技术要解决的课题 本专利技术人等发现；通过对上述叠层膜依次进行利用抗蚀阻剂的处理及利用蚀刻液 的处理而进行蚀刻处理后，进一步通过药品处理除去抗蚀阻剂时，存在抗蚀阻剂渣附着于 保护膜侧的表面的问题。该种抗蚀阻剂渣附着于保护膜侧时，在其后的各种工序中，例如产 生不易发现外观缺点等问题，不优选。 本专利技术的课题在于，提供一种叠层膜，其在进行抗蚀阻剂的除去处理后，抗蚀阻剂 渣不易附着于保护膜侧的表面。 用于解决课题的手段 本专利技术人等为了解决上述课题重复进行潜屯、研究，完成了本专利技术。具体而言，本发 明人等发现；通过使用具有对水的接触角在规定范围内的表面的保护膜，可W解决上述课 题，完成了本专利技术。目p，本专利技术为w下公开的专利技术。[001引项1. 一种叠层膜，其包含： (A)透光性导电膜；W及 做保护膜，其中，[001引所述透光性导电膜（A)包含： 一层W上的（A-1)透光性支持层；W及 一层W上的（A-2)透光性导电层，并且， 所述透光性导电膜（A)的至少一层最外层为一层透光性导电层（A-2)， 作为所述透光性导电膜（A)最外层的所述透光性导电层（A-2)的至少之一设置于 所述叠层膜的一个表面上， 保护膜炬）设置于所述叠层膜的另一表面上，且 所述保护膜炬）侧的所述表面对水的接触角为70°W上。 项2.如项1所述的叠层膜，其中， 雾度值为5 %W下。 项3.如项1或2所述的叠层膜，其中，[002引所述透光性导电层（A-2)含有氧化铜锡。 项4. 一种膜卷，其卷绕项1~3中任一项所述的叠层膜而成。 项5. -种透光性导电膜，其可通过包含W下工序的方法得到： 从项1~3中任一项所述的叠层膜剥离保护膜炬）而得到透光性导电膜（A)。 [003引项6. -种触摸板，其含有项5所述的透光性导电膜。[003引专利技术的效果 根据本专利技术，在进行蚀刻处理后，可W降低抗蚀阻剂渣附着于保护膜侧的表面的 量。【附图说明】 图1示出了由在透光性支持层（A-1)的一面配置了透光性导电层（A-2)的透光性 导电膜（A)、及保护膜炬）构成的本专利技术的叠层膜的剖面图。 图2示出了由在透光性支持层（A-1)的两面配置了透光性导电层（A-2)的透光性 导电膜（A)、及保护膜炬）构成的本专利技术的叠层膜的剖面图。 图3示出了由在透光性支持层（A-1)的一面配置了透光性导电层（A-2)及透光性 基底层（A-：3)的透光性导电膜（A)、及在保护层（B-1)的一面配置了粘合层（B-。的保护膜 炬）构成的本专利技术的叠层膜的剖面图。[003引图4示出了由在透光性支持层（A-1)的一面配置了透光性导电层（A-2)、透光性基 底层（A-3)及硬涂层（A-4)、进而在透光性支持层（A-1)的另一面配置了其它硬涂层（A-4) 的透光性导电膜（A)、及在保护层炬-1)的一面配置了粘合层炬-2)的保护膜炬）构成的本 专利技术的叠层膜的剖面图。图5示出了由在透光性支持层（A-1)的一面配置了透光性导电层（A-2)的透光性 导电膜（A)、及在保护层炬-1)的一面配置了粘合层炬-2)的保护膜炬）构成的本专利技术的叠 层膜的剖面图。 图6示出了由在透光性支持层（A-1)的一面配置了透光性导电层（A-2)的透光性 导电膜（A)、及在保护层炬-1)的一面配置了低聚物屏蔽层炬-如的保护膜做构成的本发 明的叠层膜的剖面图。 符号说明 1叠层膜 11透光性导电膜（A) 111透光性支持层（A-1) 112透光性导电层（A-2) 113透光性基底层（A-3) 114 硬涂层（A-4) 12保护膜炬） 121保护层炬-1)122粘合层炬-2) 123低聚物屏蔽层炬-3)【具体实施方式】 1.叠层腸 本专利技术的叠层膜具备叠层有两层W上的膜的结构，该膜包含： (A)透光性导电膜；做保护膜。 本专利技术的叠层膜具备如下结构； 透光性导电膜（A)包含；[005引一层W上的（A-1)透光性支持层；W及 一层W上的（A-2)透光性导电层，并且， 所述透光性导电膜（A)的至少一层最外层为一层透光性导电层（A-2)。即，透光 性导电膜（A)可化含有两层W上的透光性导电层（A-2)，而且，该情况下，透光性导电膜（A) 可W配置成一层透光性导电层（A-2)作为透光性支持层（A-1) -面的最外层，进而，其它透 光性导电层（A-2)可W配置在透光性支持层（A-1)的另一面。为后者时，该其它透光性导 电层（A-2)也可W配置为透光性支持层（A-1)的另一面的最外层。 在本专利技术的叠层膜中，配置在透光性导电膜（A)的最外层的透光性导电层（A-2) 的至少之一配置在叠层膜的一个表面（有时称为"透光性导电层（A-2)侧的表面"。）上， 且保护膜炬）配置在叠层膜的另一表面（有时称为"保护膜炬）侧的表面"。）。本专利技术的 叠层膜的透光性导电层（A-2)及保护膜炬）可W分别配置在表面，其它膜等其它结构可W 介于透光性导电膜（A)和保护膜炬）之间。另外，如上所述，将透光性支持层（A-1)的两面 的最外层分别配置为透光性导电层（A-2)时，任一透光性导电层（A-2)可W配置在叠层膜 的表面。 进而，本专利技术的叠层膜的保护膜做侧的表面对水的接触角为70°W上。由此，本 专利技术的叠层膜在进行透光性导电层（A-2)的蚀刻处理后除去抗蚀阻剂时，抗蚀阻剂渣附着 于保护膜侧表面的量降低。 图1示出了本专利技术的叠层膜的一实施方式。在该实施方式中，首先，透光性导电膜 具备在透光性支持层（A-1)的一面直接（即邻接）配置有透光性导电层（A-2)的结构。此 时，透光性导电层（A-2)为透光性支持层（A-1)的该面的最外层。而且，在叠层膜的一个表 面配置有该透光性导电层（A-2)，且在叠层膜的另一表面配置有保护膜炬）。 图2示出了本专利技术的叠层膜的其它实施方式。在该实施方式中，首先，本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种叠层膜，其包含：(A)透光性导电膜；以及(B)保护膜，其中，所述透光性导电膜(A)包含：一层以上的(A‑1)透光性支持层；以及一层以上的(A‑2)透光性导电层，并且，所述透光性导电膜(A)的至少一层最外层为一层透光性导电层(A‑2)，作为所述透光性导电膜(A)最外层的所述透光性导电层(A‑2)的至少之一设置于所述叠层膜的一个表面上，保护膜(B)设置于所述叠层膜的另一表面上，且所述保护膜(B)侧的所述表面对水的接触角为70°以上。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：武藤胜纪，红林润也，中谷康弘，林秀树，
申请(专利权)人：积水纳米涂层科技有限公司，积水化学工业株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP
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