光固化性组合物及使用该组合物的膜的制造方法技术

提供一种具有高填充性并能够在通过利用光压印法生产膜时降低脱模力的光固化性组合物，和使用该光固化性组合物的膜的制造方法。光固化性组合物为包括至少下列组分(A)至组分(C)的光固化性组合物：(A)可聚合化合物；(B)光聚合引发剂；和(C)由下列通式(1)表示的表面活性剂：Rf1-Rc-X    (1)。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】
一种光固化性组合物，其特征在于，其包括至少下列组分(A)至组分(C)：(A)可聚合化合物；(B)光聚合引发剂；和(C)由下列通式(1)表示的表面活性剂：Rf1‑Rc‑X   (1)通式(1)中，Rf1表示仅由氟原子和碳原子组成并具有两个以上的三氟甲基的取代基，Rc表示聚环氧乙烷基团、聚环氧丙烷基团或亚烷基，和X表示羟基、羧基、磺基、氨基、烷氧基，或仅由氟原子和碳原子组成并具有两个以上的三氟甲基的取代基，条件是当X表示烷氧基或仅由氟原子和碳原子组成并具有两个以上的三氟甲基的取代基时，Rf1和X可彼此相同或不同。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：伊藤俊树，三原知恵子，川崎阳司，
申请(专利权)人：佳能株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP