纳米压印用光固化性组合物、及使用其的微细图案基板的制造方法技术

本发明专利技术提供纳米压印用光固化性组合物，其通过薄薄涂布于基板并进行光照射可以迅速固化形成薄膜，固化收缩小，可将模具的微细的图案精度良好地转印。本发明专利技术的纳米压印用光固化性组合物包含下述成分(A)及成分(B)。成分(A)：下述式(a-1)表示的化合物(式中，R1～R18表示氢原子、卤原子、任选含有氧原子或卤原子的烃基，或任选具有取代基的烷氧基。X表示单键或连接基团)。成分(B)：具有氟代烷基氟磷酸阴离子的光阳离子聚合引发剂。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及。 本申请要求2013年1月15日在日本提出申请的日本特愿2013-004758号的优先权，并将 其内容援引于此。
技术介绍
发光二极管（LED)由于能量转换效率优异、寿命长而多使用于电子设备等中。LED 具有在无机材料基板上叠层有由GaN类半导体形成的发光层而成的结构。但是，由于无机 材料基板与GaN类半导体及与大气之间存在大的折射率差，因此存在着在发光层产生的全 光量中的多数在内部反复进行反射而消失，光提取效率不佳的问题。 作为解决上述问题的方法，已知于无机材料基板的表面形成数μ m左右的微细的 图案，在该图案之上层叠由GaN类半导体形成的发光层的方法。 作为形成微细的图案的方法，以往是通过光刻法在无机材料基板上制作掩模，通 过使用得到的掩模进行蚀刻而形成图案。但是，其产生以下问题：随着无机材料基板的大型 化和纳米图案化的发展，与此相伴的成本与加工时间增加。于是，代替上述光刻法，通过纳 米压印形成掩模的方法受到了关注。 作为用于纳米压印的光固化性组合物，例如，已知使用具有脂环结构的乙烯基醚、 具有脂环结构和芳香环结构的乙烯基醚等自由基聚合性化合物（专利本文档来自技高网...

【技术保护点】
纳米压印用光固化性组合物，其包含下述成分(A)及成分(B)，成分(A)：下述式(a‑1)表示的化合物，式中，R1～R18相同或不同，表示氢原子、卤原子、任选含有氧原子或卤原子的烃基、或任选具有取代基的烷氧基，X表示单键或连接基团，成分(B)：具有氟代烷基氟磷酸阴离子的光阳离子聚合引发剂。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：藤川武，久保隆司，山本拓也，
申请(专利权)人：株式会社大赛璐，
类型：发明
国别省市：日本;JP