一种QDF直接还原工艺制造技术

技术编号:11472547 阅读:87 留言:0更新日期:2015-05-20 02:16
本发明专利技术涉及一种QDF直接还原工艺,包括以下步骤:将含金属原料与还原剂粉料混匀,装入各还原室,还原过程中,还原室和被还原物料均保持静止状态;燃烧室内燃料和助燃气体燃烧产生的热量均匀加热还原室内的物料,使含金属原料和还原剂进行还原反应;还原室为窄长的一段式反应器。本发明专利技术还原室和被还原物料均为静止状态,对粒状原料的强度要求降低,提高了制粒工序生产效率,本发明专利技术还原时间可以延长,提高还原产品的金属化率。本发明专利技术的还原室无预热区及冷却区,温度均匀、气氛均匀一致,提高还原产品的整体质量。该直接还原工艺具有原料适应范围广、温度场均匀、还原过程易控制、产品金属化率高、产量高等显著优点。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种QDF直接还原工艺,其特征在于,采用燃烧室加热还原室生产高金属化率产品,包括以下工艺步骤:ST1:含金属原料与还原剂粉料混匀,装入各还原室,在还原室中物料处于分散、均匀分布的状态,装料完毕后密封,在整个还原过程中,还原室和被还原物料均保持静止状态;ST2:点燃所述燃烧室内持续供应的燃料和助燃气体,产生的热量均匀加热还原室内的物料,使含金属原料和还原剂在还原室内进行还原反应;所述还原室为窄长的一段式反应器,整个炉膛温度均匀一致,还原性气氛均匀一致;ST3:待还原室物料反应完毕后,从还原室出料。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:夏锋周强秦涔
申请(专利权)人:中冶南方工程技术有限公司
类型:发明
国别省市:湖北;42

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