构造成型体的方法技术

技术编号:11450239 阅读:147 留言:0更新日期:2015-05-13 22:45
本发明专利技术涉及借助基于平版印刷术的生成制造法由光聚合性材料构造成型体的方法(10),其中,连续的多个层在构造平台上被曝光硬化而具有预定轮廓,直至通过一系列硬化层来形成具有预定形状的成型体(10),其中每次曝光通过来自曝光元件二维阵列的曝光元件的单独可控激活进行,每个曝光元件对应于一个像素,所述曝光区域的曝光通过共同的光源和被光源照射的、具有单独可控的强度调制器栅格的二维光强度调制器进行,从而使每个被照射的强度调制器形成一个曝光在曝光区域中的一个像素的曝光元件,为每个曝光步骤建立一个二维阵,该阵的每个元素对应于来自曝光元件阵列的一个曝光元件并包含用于这个曝光元件的呈时间相关函数形式的控制命令,该函数单独确定在曝光步骤期间这个曝光元件的辐射强度分布,其中,只要在曝光步骤中待激活的曝光元件的强度分布的所有时间相关函数的共同的强度变化部分作为一般强度变化存在,则通过根据所述一般强度变化控制光源强度来实现所述一般强度变化。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】
一种采用基于平版印刷术的生成制造(快速原型)由光聚合性材料构造成型体的方法,其中在构造平台上限定出液态光聚合性材料层,所述层在曝光步骤中通过曝光单元在具有预定轮廓的曝光区域中被聚合,限定出由光聚合性材料制成的另一层,最后被限定出的该层在另一曝光步骤中在具有针对最后限定出的所述层所预定的轮廓的曝光区域中被聚合,然后重复所述最后两个步骤,直至通过这一系列具有逐层预定的轮廓的硬化层形成具有预定形状的成型体,其中在具有预定轮廓的曝光区域中的每次曝光通过来自曝光元件的二维阵列中的曝光元件的单独可控激活来实现,每个曝光元件对应于一个像素并且被曝光的所述像素共同限定出所述曝光区域,其中所述曝光区域的曝光通过共同的光源和被所述光源照射的、具有单独可控的强度调制器栅格的二维光强度调制器进行,以致每个被照射的强度调制器形成一个曝光在曝光区域中的一个像素的曝光元件,其中为一层的每一曝光步骤建立一个二维阵,该阵的每个元素对应于来自所述曝光元件阵列的一个曝光元件并且包含用于所述曝光元件的呈时间相关函数形式的控制命令,该函数单独确定在曝光步骤期间所述曝光元件的辐射强度分布,其特征在于,只要在曝光步骤中所有待激活的曝光元件的强度分布的所有时间相关函数的共同的强度变化部分作为一般强度变化存在,那么通过根据所述一般强度变化控制光源强度实现所述一般强度变化。...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:J·斯代姆普夫尔J·奥马J·帕特瑟尔G·米特阿斯克格勒J·艾伯特J·劳伯舒曼W·瓦赫特
申请(专利权)人:义获嘉伟瓦登特公司维也纳科技大学
类型:发明
国别省市:列支敦士登;LI

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