【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本技术公开了一种真空镀膜舱的两级抽真空结构，其包括真空镀膜舱本体，所述真空镀膜舱本体的顶部设有第一抽真空管，所述第一抽真空管连接有第一抽真空装置，所述真空镀膜舱本体的侧壁下部设有第二抽真空管，所述第二抽真空管连接有第二抽真空装置。本技术能够有效地避免在抽真空时，灰尘等杂质对待镀膜物品的影响，提高镀膜的质量。【专利说明】一种真空镀膜舱的两级抽真空结构
本技术涉及一种真空镀膜舱的两级抽真空结构。
技术介绍
真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。而真空离子蒸发镀膜在镜片的镀膜中应用较广，镜片在镀膜前，需固定到镀膜腔内顶部的旋转承载架上，然后再对镀膜腔进行抽真空。现有镀膜舱的抽真空系统是只在镀膜舱的顶部连接一个抽真空管，抽真空管再连接一套抽真空装置。由于镜片镀膜对镀膜舱内洁净度要求较高，若采用现有技术进行对镀膜舱进行抽真空，镀膜舱内沉积在底部的灰尘等其他杂质会随气流向上运动，杂质会附着在待镀膜的镜片上，因此，对镜片镀膜的质量影响较大。
技术实现思路
为了解决现有技术中的不足，本技术的目的在于提供一种结构简单，能够保证镀膜洁净度和提高镀膜质量的真空镀膜舱的两级抽真空结构。 为实现上述目的，本技术采用以下技术方案: 一种真空镀膜舱的两级抽真空结构，包括真空镀膜舱本体，所述真空镀膜舱本体的顶部设有第一抽真空管，所述第一抽真空管连接有第一抽真空装置，所述真空镀膜舱本体的侧壁下部设有第二抽真空管，所述第二抽真空管连接有第二抽...
【技术保护点】
一种真空镀膜舱的两级抽真空结构，包括真空镀膜舱本体，所述真空镀膜舱本体的顶部设有第一抽真空管，所述第一抽真空管连接有第一抽真空装置，其特征在于：所述真空镀膜舱本体的侧壁下部设有第二抽真空管，所述第二抽真空管连接有第二抽真空装置。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：吴晓彤，
申请(专利权)人：奥特路漳州光学科技有限公司，
类型：新型
国别省市：福建;35
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