气体分离器制造技术

公开了一种用于在真空涂覆设备中的气体运动的装置(1)，该装置将在涂覆室中没有沉积到待涂覆的基底(3)上的气态的涂覆材料抽走。在此，用于抽走涂覆材料的至少一个泵以抽走装置的轴向延长部(112)的形式与该抽走装置联接，其中，抽走装置具有一个或多个抽吸开口(121)并且被划分成至少两个轴向区域，这两个区域的抽走特征能很大程度地彼此分开地进行调整。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】气体分离器
本专利技术的主题是一种针对在用于在基底上进行涂覆的设备中的气体环境的用于气体运动、尤其是气体抽走的装置。
技术介绍
在太阳能和半导体工业中，利用一种元素或具有化合物的薄层对基底进行涂覆通常利用PECVD法(plasmaenhancedchemicalvapourdeposition等离子增强化学汽相沉积)或利用PVD法(physicalvapourdeposition物理气相沉积)来实现。在此，使用了喷涂、热蒸发、激光蒸发和离子束蒸发、等离子涂覆以及其他由现有技术公知的方法。这些方法通常在具有构造为真空室的加工室的连续操作设备(Durchlaufanlage)中执行，待涂覆的基底连续或间断(逐步)地运动穿过该连续操作设备并且在其中进行涂覆。涂覆材料或其他加工材料通常是气态的。因此，未沉淀在基底上的部分会在处理室中不受控制地扩散。因此，值得期待的是，在可能的流动轮廓不干扰涂覆或者加工过程的情况下，将这些气体以可控的方式抽走。通常直接将不同材料的多个层依次施加到基底上。在这种情况下有利的是，没有必要进行耗费的到不同处理室中的引入和排出过程，而是可以在同一处理室中进行依次涂覆。在此，可能出现的问题是，不同的涂覆材料彼此不相容或者说彼此不期望地彼此发生了反应，或者涂覆材料的组成部分在另一材料的层中作为杂质起作用。存在有一系列解决该问题的技术方案。除了较小的中间闸室以外，尤其还采用了能运动的限界装置来防止气态的材料从一个室区域溢流到另一个室区域中。为此，优选在处理区域的边界处抽吸气体流，并且因此实现区域分隔。WO2007/059749描述了一种具有小的中间闸室的系统，基底经由传输系统运动穿过该系统，该系统具有活门(Klappe)，这些活门交替地覆盖中间闸室的输入开口或者输出开口。在闸室区域中实现抽走，以便去除夹带的气体残留。在DD214865A1中描述了如何在两个其中具有等离子体的涂覆区域之间进行分隔，其中，第一涂覆区域具有高反应性的工作气体，而第二涂覆区域具有低反应性的工作气体，分隔以如下方式实现，即，提高低反应性气体的压力。此外，在两个区域之间设置抽走器。以该方式防止了高反应性气体侵入第二区域中。在DE4303462A1中公开了一种针对玻璃基底的涂覆设备，在该涂覆设备中，玻璃基底连续地从上方被涂覆。在此，以如下方式也实现了对涂覆区域的分隔，即，在这些区域之间设置有抽走器。在所描述的解决方案中，一次性地从基底底侧向下抽走，而在其他实施方式中，在涂覆区域之间同时在涂覆材料被从其剥除的标靶的侧向抽走。为此使用了中间壁，该中间壁与涂覆室的其他结构元件一起构成管状的、在横截面中是矩形的空腔。该空腔具有作为气体入口的缝隙，该缝隙指向标靶所处的侧。空腔在其端部上、在涂覆室的侧壁上借助真空泵抽气。根据DD214865A1和DE4303462A1的两个装置的共同点是，从涂覆室中实现将气体的抽走，而不考虑出现的流动状况。因此，由此可以想到的是，在泵开口附近会出现比较远处强得多的气体流。因为泵典型地布置在处理室的侧壁中或基底的上方或者下方，所以不能指望在整个基底上会出现均匀的气体流，其避免会稍微影响正在进行的涂覆过程。DE102010028734A1规定以如下方式在两个涂覆区域之间实现气体分离，即，通过如下开口直接在基底表面上方进行抽走，这些开口被置于平行于基底表面取向的且应形成流动阻力器的板的两侧。因为在该流动阻力器的周围的压力损耗远大于在该流动阻力器后面出现的压力损耗，所以该专利技术人认为在抽走装置整个长度上实现了流动型廓的均匀。在此，可以看到抽走装置的长度是垂直于基底的传输方向并且平行于基底的表面的。抽走通过布置在基底上方的真空泵进行。DE102008026001要求保护一种用于在连续涂覆设备中建立过程环境的方法。尤其规定，在涂覆设备中存在有至少两个涂覆区域，它们可以具有不同的气体环境。以如下方式实现对气体环境的分隔，即，在每个涂覆区域中都存在有气体导入部和气体抽走部。此外，还描述了气体抽走部作为“气体通道(16)，其垂直于基底(1)的传输方向(3)地在基底宽度上延伸并且具有至少一个开口(20)，从而在基底(1)与气体通道(16)之间且在基底宽度上分布地产生气体流(22)”存在。规定了用于气体导入的气体通道处于涂覆源的一侧上，而用于气体抽走的气体通道处于另一侧上。在现有技术中通常将真空泵直接布置在基底上方阻止了多个处理区域上下叠置的构造。此外，通过出现在基底与流动导板之间的间隙进行抽走造成了极不均一的流动，这导致对基底表面的不均匀的涂覆。特别是在等离子过程的情况下，像例如在等离子蚀刻或PECVD过程的情况下，在等离子中产生的分解物或者气体微粒部分地具有如下特性，即，在限定的加工区之外较远的区域中也会引起与基底表面的反应。这会导致表面特性的不利的改变，像例如均一性或者钝化质量或光学特性等的改变。
技术实现思路
因此，本专利技术的任务在于提出一种气体抽走装置，该气体抽走装置可以在涂覆室中实现限定的气体运动，并且不会由于在涂覆室中强烈的流动差别而阻止具有均匀厚度的均一的层的构成，或者该气体运动通过有针对性的流动差别以可控的方式影响层形成。根据本专利技术，该任务利用根据一种用于在真空涂覆设备中的气体运动的装置来解决，其中，该装置具有至少一个涂覆室，该涂覆室具有至少一个涂覆区域，传输装置，该传输装置用于在传输方向上将平面的基底传输到涂覆室中，并且用于在涂覆室中保持基底，针对每个涂覆区域至少一个涂覆装置，该涂覆装置放出气态的涂覆材料，其中，涂覆装置的长度至少相应于基底的宽度，针对每个涂覆区域至少一个抽走装置，其中，该抽走装置基本上平行于涂覆装置延伸并且至少具有涂覆装置的长度，至少与泵联接，泵适合用于在抽走装置内部相对于涂覆室的内部压力生成低压，其中，至少一个泵以抽走装置的轴向延长部的形式与抽走装置联接，抽走装置具有一个或多个抽吸开口，抽走装置具有至少两个轴向的区域，该区域的抽走特征能彼此分开地进行调整。用于基底的涂覆机构大多近似直线地扩展，并且平行于基底表面地且垂直于基底的传输方向地布置。基底优选以连续的速度在涂覆机构下方或者上方进行传输。涂覆材料的沉积在传输运动期间进行。为了使涂覆是均匀的，涂覆装置的长度至少相应于基底的或者说在其中传输基底的基底载体的宽度。因此，在涂覆装置的整个长度上也产生了并没有完全沉淀的且必须被抽走的气态的材料。根据本专利技术的装置具有至少一个涂覆室，该涂覆室具有至少一个涂覆区域。此外，装置还具有传输装置，用以在传输方向上将平面的基底传输到涂覆室中并且用以在该涂覆室中保持基底。在涂覆室中，每个涂覆区域都存在有至少一个涂覆装置。涂覆装置放出气态的涂覆材料。在此，涂覆装置的长度至少相应于基底的宽度。每个涂覆区域都存在有至少一个抽走装置，其中，抽走装置基本上平行于涂覆装置地延伸并且至少具有涂覆装置的长度。至少一个泵与抽走装置联接，该泵在抽走装置内部相对于涂覆室的内部压力生成低压。尤其地，至少一个泵以抽走装置的轴向延长部的形式与该抽走装置联接。抽走装置具有一个或多个抽吸开口，并且被划分成至少两个轴向区域，这些轴向区域的抽走特征(Absaugcharakteristika)能很大程度地彼此分开地本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于在真空涂覆设备中的气体运动的装置，所述装置具有‑至少一个涂覆室，所述涂覆室具有至少一个涂覆区域，‑传输装置，所述传输装置用于在传输方向上将平面的基底传输到所述涂覆室中，并且用于在所述涂覆室中保持所述基底，‑针对每个涂覆区域至少一个涂覆装置，所述涂覆装置放出气态的涂覆材料，其中，所述涂覆装置的长度至少相应于所述基底的宽度，‑针对每个涂覆区域至少一个抽走装置，其中，所述抽走装置○基本上平行于所述涂覆装置延伸并且至少具有所述涂覆装置的长度，○至少与泵联接，所述泵适合用于在所述抽走装置内部相对于所述涂覆室的内部压力生成低压，其特征在于，‑所述至少一个泵以所述抽走装置的轴向延长部的形式与所述抽走装置联接，‑所述抽走装置具有一个或多个抽吸开口，‑所述抽走装置具有至少两个轴向的区域，所述区域的抽走特征能很大程度地彼此分开地进行调整。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2012.07.25 DE 102012213095.01.一种用于在真空涂覆设备中的气体运动的装置，所述装置具有-至少一个涂覆室，所述涂覆室具有至少一个涂覆区域，-传输装置，所述传输装置用于在传输方向上将平面的基底传输到所述涂覆室中，并且用于在所述涂覆室中保持所述基底，-针对每个涂覆区域至少一个涂覆装置，所述涂覆装置放出气态的涂覆材料，其中，所述涂覆装置的长度至少相应于所述基底的宽度，-针对每个涂覆区域至少一个抽走装置，其中，所述抽走装置基本上平行于所述涂覆装置延伸并且至少具有所述涂覆装置的长度，至少与泵联接，所述泵适合用于在所述抽走装置内部相对于所述涂覆室的内部压力生成低压，其特征在于，-所述至少一个泵以所述抽走装置的轴向延长部的形式与所述抽走装置联接，-所述抽走装置具有一个或多个抽吸开口，-所述抽走装置具有至少两个轴向的区域，所述区域的抽走特征能彼此分开地进行调整。2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，在所述抽走装置内部设置有至少一个扩散器机构。3.根据权利要求2所述的装置，其特征在于，所述扩散器机构是迷宫，所述迷宫以如下方式设计，即，使所述迷宫在所述抽走装置的直线方向上具有远小于周向上的压力损耗的压力损耗。4.根据权利要求3所述的装置，其特征在于，所述迷宫以如下方式形成，即，在所述抽走装置内部布置有内管，所述至少一个泵与所述内管联接，并且所述内管沿着其纵向延伸部具有一个或多个吸入开口，所述吸入开口远离所述抽吸开口。5.根据权利要求4所述的装置，其特征在于，所述吸入开口能在其开口宽度上...

【专利技术属性】
技术研发人员：约阿希姆·迈，丹尼尔·德克尔，斯特凡·黑尔比希，奥利弗·勒韦尔，
申请(专利权)人：霍赫劳股份有限公司，
类型：发明
国别省市：德国;DE