一种耐磨镜片镀膜方法技术

本发明专利技术涉及一种耐磨镜片镀膜方法，包括以下步骤：1）对基片进行清洗、干燥；2）分别对基片的内、外两个表面进行镀膜：分别对双面镀第一膜层、分别对双面镀第二膜层、分别对双面镀第三膜层、分别对双面镀第四膜层、分别对双面镀第五膜层和分别对双面镀第六膜层。本发明专利技术的镜片镀有多个膜层，不仅能够有效地提升清晰度、防炫目、防蓝光，而且对于视觉的清晰度和真实性有着很好的贡献，能有效缓解视觉疲劳，若干层二氧化硅层和高硬度层的设置，大大提高了镜片的耐磨性能。

【技术实现步骤摘要】
一种耐磨镜片镀膜方法
本专利技术涉及一种镜片
，尤其是涉及一种耐磨镜片镀膜方法。
技术介绍
随着人们文化、生活水平的不断提高，视力保健工作的开展，眼镜作为矫正视力或保护眼睛而制作的简单光学器件，在人们生活领域中发挥了重要的作用。眼镜通常是由镜片和镜架组成，从镜片的功能上讲，它具有调节进入眼睛之光量，增加视力，保护眼睛安全和临床治疗眼病等作用。目前镜片的种类繁多，如目前常见的TAC偏光镜片，其可100％阻隔有害光线，因此颇受消费者的青睐，特别适于户外运动使用，然而，在运动过程中镜片难免发生刮擦，因此镜片的耐磨程度也是消费者选购的一个考虑因素，目前市售的TAC偏光镜片，其表面的硬度只能达到H，其耐磨性为1.5级，很容易被硬物刮花或摔坏，影响使用者观察事物的效果，既给使用者带来不便，而且还需经常更换，增加使用成本，有待改进。
技术实现思路
本专利技术的目的在于针对现有技术的不足，提供一种具有防雾功能的耐磨镜片镀膜方法。为实现上述目的，本专利技术采用以下技术方案：一种耐磨镜片镀膜方法，所述镜片包括由树脂或玻璃成型的基片，所述基片的内、外两个表面从里到外对称依序设有第一膜层、第二膜层、第三膜层、第四膜层、第五膜层和第六膜层；所述第一膜层和第五膜层均为二氧化硅层，厚度均为60-90nm；所述第二膜层和第四膜层均为五氧化三钛层，厚度均为20-80nm；所述第三膜层为金属层，厚度为25-40nm；所述第六膜层为高硬度层，厚度为20-40nm；所述基片由树脂成型时，所述镀膜方法具体包括以下步骤：1）对基片进行清洗、干燥；2）分别对基片的内、外两个表面进行镀膜；A、分别对双面镀第一膜层：将真空镀膜舱内的真空度调整至小于或等于5.0×10-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第一膜层的膜材，第一膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第一膜层蒸镀的速率为7Å/S，第一膜层最终形成后的厚度为60-90nm；其中，所述第二膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；B、分别对双面镀第二膜层：保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第二膜层的膜材，第二膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤A中第一膜层的表面，同时控制第二膜层蒸镀的速率为2.5Å/S，第二膜层最终形成后的厚度为20-80nm；其中，所述第一膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；C、分别对双面镀第三膜层：保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第三膜层的膜材，第三膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤B中第二膜层的表面，同时控制第三膜层蒸镀的速率为1Å/S，第三膜层最终形成后的厚度为25-40nm；其中，所述第三膜层的膜材为金、银、铂、钕、铜、锌、镍、金合金、银合金、铂合金、钕合金、铜合金、锌合金或镍合金，形成金属层；D、分别对双面镀第四膜层：保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第四膜层的膜材，第四膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤C中第三膜层的表面，同时控制第四膜层蒸镀的速率为2.5Å/S，第四膜层最终形成后的厚度为20-80nm；其中，所述第四膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；E、分别对双面镀第五膜层：将真空镀膜舱内的真空度调整至小于或等于5.0×10-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第五膜层的膜材，第五膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤D中第四膜层的表面，同时控制第五膜层蒸镀的速率为7Å/S，第五膜层最终形成后的厚度为60-90nm；其中，所述第五膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；F、分别对双面镀第六膜层：保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第六膜层的膜材，第六膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤E中第五膜层的表面，同时控制第六膜层蒸镀的速率为7Å/S，第六膜层最终形成后的厚度为20-40nm；其中，所述第六膜层的膜材为为三氧化二铝、氧化锆、二氧化硅晶体或者一氧化硅晶体，形成高硬度层。所述基片由玻璃成型时，所述镀膜方法具体包括以下步骤：1）对基片进行清洗、干燥；2）分别对基片的内、外两个表面进行镀膜；A、分别对双面镀第一膜层：将真空镀膜舱内的真空度调整至小于或等于5.0×10-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第一膜层的膜材，第一膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第一膜层蒸镀的速率为7Å/S，第一膜层最终形成后的厚度为60-90nm；其中，所述第二膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；B、分别对双面镀第二膜层：保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第二膜层的膜材，第二膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤A中第一膜层的表面，同时控制第二膜层蒸镀的速率为2.5Å/S，第二膜层最终形成后的厚度为20-80nm；其中，所述第一膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；C、分别对双面镀第三膜层：保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第三膜层的膜材，第三膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤B中第二膜层的表面，同时控制第三膜层蒸镀的速率为1Å/S，第三膜层最终形成后的厚度为25-40nm；其中，所述第三膜层的膜材为金、银、铂、钕、铜、锌、镍、金合金、银合金、铂合金、钕合金、铜合金、锌合金或镍合金，形成金属层；D、分别对双面镀第四膜层：保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第四膜层的膜材，第四膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤C中第三膜层的表面，同时控制第四膜层蒸镀的速率为2.5Å/S，第四膜层最终形成后的厚度为20-80nm；其中，所述第四膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；E、分别对双面镀第五膜层：将真空镀膜舱内的真空度调整至小于或等于5.0×10-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第五膜层的膜材，第五膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤D中第四膜层的表面，同时控制第五膜层蒸镀的速率为7Å/S，第五膜层最终形成后的厚度为60-90nm；其中，所述第五膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；F、分别对双面镀第六膜层：保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第六膜层的膜材，第六膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤E中第五膜层的表面，同时控制第六膜层蒸镀的速率为7Å/S，第六膜层最终形成后的厚度为20-40nm；其中，所述第六膜层的膜材为为三氧化二铝、氧化锆、二氧化硅晶体或者一氧化硅晶体，形成高硬度层。所述的步骤1）中对基片进行清本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种耐磨镜片镀膜方法，所述镜片包括由树脂或玻璃成型的基片，所述基片的内、外两个表面从里到外对称依序设有第一膜层、第二膜层、第三膜层、第四膜层、第五膜层和第六膜层；所述第一膜层和第五膜层均为二氧化硅层，厚度均为60‑90nm；所述第二膜层和第四膜层均为五氧化三钛层，厚度均为20‑80nm；所述第三膜层为金属层，厚度为25‑40nm；所述第六膜层为高硬度层，厚度为20‑40nm；其特征在于：所述基片由树脂成型时，所述镀膜方法具体包括以下步骤：1）对基片进行清洗、干燥；2）分别对基片的内、外两个表面进行镀膜；A、分别对双面镀第一膜层：将真空镀膜舱内的真空度调整至小于或等于5.0×10

【技术特征摘要】
1.一种耐磨镜片镀膜方法，所述镜片包括由树脂或玻璃成型的基片，所述基片的内、外两个表面从里到外对称依序设有第一膜层、第二膜层、第三膜层、第四膜层、第五膜层和第六膜层；所述第一膜层和第五膜层均为二氧化硅层，厚度均为60-90nm；所述第二膜层和第四膜层均为五氧化三钛层，厚度均为20-80nm；所述第三膜层为金属层，厚度为25-40nm；所述第六膜层为高硬度层，厚度为20-40nm；其特征在于：所述基片由树脂成型时，所述镀膜方法具体包括以下步骤：1）对基片进行清洗、干燥；2）分别对基片的内、外两个表面进行镀膜；A、分别对双面镀第一膜层：将真空镀膜舱内的真空度调整至小于或等于5.0×10-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第一膜层的膜材，第一膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第一膜层蒸镀的速率为7Å/S，第一膜层最终形成后的厚度为60-90nm；其中，所述第二膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；B、分别对双面镀第二膜层：保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第二膜层的膜材，第二膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤A中第一膜层的表面，同时控制第二膜层蒸镀的速率为2.5Å/S，第二膜层最终形成后的厚度为20-80nm；其中，所述第一膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；C、分别对双面镀第三膜层：保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第三膜层的膜材，第三膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤B中第二膜层的表面，同时控制第三膜层蒸镀的速率为1Å/S，第三膜层最终形成后的厚度为25-40nm；其中，所述第三膜层的膜材为金、银、铂、钕、铜、锌、镍、金合金、银合金、铂合金、钕合金、铜合金、锌合金或镍合金，形成金属层；D、分别对双面镀第四膜层：保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第四膜层的膜材，第四膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤C中第三膜层的表面，同时控制第四膜层蒸镀的速率为2.5Å/S，第四膜层最终形成后的厚度为20-80nm；其中，所述第四膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；E、分别对双面镀第五膜层：将真空镀膜舱内的真空度调整至小于或等于5.0×10-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第五膜层的膜材，第五膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤D中第四膜层的表面，同时控制第五膜层蒸镀的速率为7Å/S，第五膜层最终形成后的厚度为60-90nm；其中，所述第五膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；F、分别对双面镀第六膜层：保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第六膜层的膜材，第六膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤E中第五膜层的表面，同时控制第六膜层蒸镀的速率为7Å/S，第六膜层最终形成后的厚度为20-40nm；其中，所述第六膜层的膜材为为三氧化二铝、氧化锆、二氧化硅晶体或者一氧化硅...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴晓彤，
申请(专利权)人：奥特路漳州光学科技有限公司，
类型：发明
国别省市：福建,35