一种柔性衬底基板的制作方法技术

本发明专利技术提供一种柔性衬底基板的制作方法，所述方法包括：在玻璃基板的表面涂布含有感光材料的柔性衬底材料；对所述柔性衬底材料进行真空干燥；使用掩模板对干燥后的所述柔性衬底材料进行曝光，所述掩模板具有多个间隔设置的不透光区域，所述多个不透光区域形成设定图案；对所述曝光后的柔性衬底材料进行显影，去除所述不透光区域以外的柔性衬底材料；对显影后的柔性衬底材料进行固化，以形成与所述设定图案对应的多块柔性衬底材料的薄膜。本发明专利技术的柔性衬底基板的制作方法，避免在制程中玻璃基板翘曲的技术问题，以简化生产过程、节省生产成本。

【技术实现步骤摘要】
一种柔性衬底基板的制作方法
本专利技术涉及液晶显示器
，特别是涉及一种柔性衬底基板的制作方法。
技术介绍
柔性衬底基板的制程，一般是将柔性衬底材料譬如PI(聚酰亚胺)涂布在玻璃基板加热做成柔性衬底，并在其上进行薄膜晶体管的制程，但由于柔性衬底材料与玻璃基板受热膨胀系数不同，在柔性衬底材料受热收缩时，导致玻璃基板四周翘曲。为了解决上述问题，一般有两种方式解决：一种是设计特殊薄膜晶体管制程的设备，添加夹具及负压装置以保证基板完全水平放置于载台上；另一种是对高粘度的涂胶机进行特殊的设计，在PI胶涂胶过程中人为控制涂胶的面积，使PI分成很多小块分别涂布在基板上。但是上述实现方式的生产成本较高、生产工艺复杂。因此，有必要提供一种柔性衬底基板的制作方法，以解决现有技术所存在的问题。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种柔性衬底基板的制作方法，以解决在柔性衬底基板制程中玻璃基板翘曲的技术问题，以简化生产过程、节省生产成本。为解决上述技术问题，本专利技术构造了一种柔性衬底基板的制作方法，包括以下步骤：在玻璃基板的表面涂布含有感光材料的柔性衬底材料；对所述柔性衬底材料进行真空干燥；使用掩模板对干燥后的所述柔性衬底材料进行曝光，所述掩模板具有多个间隔设置的不透光区域，所述多个不透光区域形成设定图案；对所述曝光后的柔性衬底材料进行显影，去除所述不透光区域以外的柔性衬底材料；对显影后的柔性衬底材料进行固化，以形成与所述设定图案对应的多块柔性衬底材料的薄膜。在本专利技术的柔性衬底基板的制作方法中，相邻两个所述不透光区域之间的间隔为0.5-50毫米。在本专利技术的柔性衬底基板的制作方法中，所述不透光区域之间的间隔为10-40毫米。在本专利技术的柔性衬底基板的制作方法中，所述不透光区域的面积为44-27722平方厘米。在本专利技术的柔性衬底基板的制作方法中，所述柔性衬底材料为聚酰亚胺，对显影后的聚酰亚胺进行固化，以形成与所述设定图案对应的多块聚酰亚胺的薄膜，所述聚酰亚胺膜的厚度范围为10-500微米。在本专利技术的柔性衬底基板的制作方法中，所述聚酰亚胺的粘度2000-20000厘泊。在本专利技术的柔性衬底基板的制作方法中，所述玻璃基板的厚度为0.4-2毫米。在本专利技术的柔性衬底基板的制作方法中，使用激光对所述柔性衬底材料进行曝光，所述激光的能量50-100毫焦每平方厘米。在本专利技术的柔性衬底基板的制作方法中，所述曝光的时间40-100秒。在本专利技术的柔性衬底基板的制作方法中，所述固化的时间为10-60分钟。本专利技术的柔性衬底基板的制作方法，通过对干燥后的柔性衬底材料进行曝光显影，以在固化后形成多块柔性衬底材料的薄膜，从而减小柔性衬底材料的薄膜产生的收缩的张力，避免在制程中玻璃基板翘曲的技术问题，以简化生产过程、节省生产成本。【附图说明】图1为现有技术的柔性衬底基板的制作方法流程图；图2为本专利技术第一实施例的柔性衬底基板的制作方法流程图；图3为本专利技术的掩模板横截面的结构示意图。【具体实施方式】以下各实施例的说明是参考附加的图式，用以例示本专利技术可用以实施的特定实施例。本专利技术所提到的方向用语，例如「上」、「下」、「前」、「后」、「左」、「右」、「内」、「外」、「侧面」等，仅是参考附加图式的方向。因此，使用的方向用语是用以说明及理解本专利技术，而非用以限制本专利技术。在图中，结构相似的单元是以相同标号表示。请参照图1，图1为现有技术的柔性衬底基板的制作方法流程图。如图1所示，整个柔性衬底基板是在平坦硬质的底座上制作的，然后在柔性衬底基板上制作有电子元件，现有技术柔性衬底基板的制作流程，包括以下步骤：S101、在玻璃基板的表面涂布柔性衬底材料；首先将所述玻璃基板放置在基板载台上，再清洗所述玻璃基板，之后在洗干净的玻璃基板的表面涂布所述柔性衬底材料。S102、对所述柔性衬底材料进行真空干燥；将步骤S101中涂布的柔性衬底材料放在真空环境下干燥，真空干燥的目的是去除柔性材料中的水分子。干燥过程保持真空，避免了制程过程中引入杂质。S103、对干燥后的柔性衬底材料进行固化。对所述柔性衬底材料进行高温固化后，以在玻璃基板上形成一个整块的柔性衬底材料薄膜。请参照图2，图2为本专利技术第一实施例的柔性衬底基板的制作方法流程图。整个柔性衬底基板是在平坦硬质的底座上制作的，然后在柔性衬底基板上制作有电子元件，本专利技术第一实施例的柔性衬底基板的制作方法流程图，包括以下步骤：S201、在玻璃基板的表面涂布含有感光材料的柔性衬底材料；首先将所述玻璃基板放置在基板载台上，再清洗所述玻璃基板，之后在洗干净的玻璃基板的表面涂布所述柔性衬底材料。所述清洗的方式为超音波清洗。所述柔性衬底材料可以为聚酰亚胺、硅橡胶、聚对二甲苯、硅树脂等。所述感光材料可为感光剂。所述含有感光材料的柔性衬底材料为光刻胶，所述光刻胶的材料为正向光阻材料。可以采用甩胶涂布法或者狭缝涂布法将所述柔性衬底材料涂布在所述玻璃基板上。S202、对所述柔性衬底材料进行真空干燥；对步骤S201中涂布的柔性衬底材料在真空环境下干燥，真空干燥的目的是去除柔性材料中的水分子。干燥过程保持真空，是为了避免制程过程中引入杂质，同时提高所述柔性衬底材料和玻璃基板之间的附着性。所述真空干燥的步骤是在真空机中进行的。S203、使用掩模板对干燥后的所述柔性衬底材料进行曝光，所述掩模板具有多个间隔设置的不透光区域，所述多个不透光区域形成设定图案；所述掩膜板上还包括透光区域，通过曝光，所述透光区域对应的所述柔性衬底材料可以照到光，而所述不透光区域对应的所述柔性衬底材料不能照到光，光线通过所述掩模板上的透光区域照射到涂布了所述正向光阻材料的玻璃基板上，最终将所述掩模板上的不透光区域形成的设定图案转移到所述玻璃基板上；所述不透光区域以阵列方式分布在所述掩模板上。S204、对所述曝光后的柔性衬底材料进行显影，去除所述不透光区域以外的柔性衬底材料；与所述透光区域对应的所述柔性衬底材料的由于受到光照，在执行步骤S204的显影工艺时与显影液发生反应。与所述不透光区域对应的所述柔性衬底材料的由于未受到光照，在执行步骤S204的显影工艺时不与显影液发生反应。经过充分曝光、显影后，与设定图案对应的所述柔性衬底材料保留下来，其余部分的所述柔性衬底材料被显影掉。S205、对显影后的柔性衬底材料进行固化，以形成与所述设定图案对应的多块柔性衬底材料的薄膜。由于在步骤S204中，与设定图案对应的所述柔性衬底材料保留下来，经过高温固化后就形成多块柔性衬底材料的薄膜。由于不透光区域以阵列方式分布，因此步骤S205得到多块柔性衬底材料的薄膜也以阵列方式分布。当所述柔性衬底材料为聚酰亚胺时，对显影后的聚酰亚胺进行固化，以形成与所述设定图案对应的多块聚酰亚胺的薄膜。本专利技术的柔性衬底基板的制作方法，通过对干燥后的柔性衬底材料进行曝光显影，以在固化后形成多块柔性衬底材料的薄膜，从而减小柔性衬底材料的薄膜产生的收缩的张力，避免在制程中玻璃基板翘曲的技术问题，以简化生产过程、节省生产成本。本专利技术第二实施例的柔性衬底基板的制作方法，包括以下步骤：结合图2，整个柔性衬底基板是在平坦硬质的底座上制作的，然后在柔性衬底基板上制作有电子元件，本专利技术第二实施例的柔性衬底基板的制作方法流程图，包括以下步骤：S201、本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种柔性衬底基板的制作方法，其特征在于：在玻璃基板的表面涂布含有感光材料的柔性衬底材料；对所述柔性衬底材料进行真空干燥；使用掩模板对干燥后的所述柔性衬底材料进行曝光，所述掩模板具有多个间隔设置的不透光区域，所述多个不透光区域形成设定图案；对所述曝光后的柔性衬底材料进行显影，去除所述不透光区域以外的柔性衬底材料；对显影后的柔性衬底材料进行固化，以形成与所述设定图案对应的多块柔性衬底材料的薄膜。

【技术特征摘要】
1.一种柔性衬底基板的制作方法，其特征在于：在玻璃基板的表面涂布含有感光材料的柔性衬底材料；其中所述玻璃基板的厚度为0.4-2毫米；对所述柔性衬底材料进行真空干燥；使用掩模板和激光对干燥后的所述柔性衬底材料进行曝光，所述掩模板具有多个间隔设置的不透光区域，所述多个不透光区域形成设定图案；其中所述激光的能量50-100毫焦每平方厘米；对所述曝光后的柔性衬底材料进行显影，去除所述不透光区域以外的柔性衬底材料；对显影后的柔性衬底材料进行固化，以形成与所述设定图案对应的多块柔性衬底材料的薄膜。2.根据权利要求1所述的柔性衬底基板的制作方法，其特征在于：相邻两个所述不透光区域之间的间隔为0.5-50毫米。3.根据权利要求2所述的柔性衬底基板的制作方法，其...

【专利技术属性】
技术研发人员：姚江波，
申请(专利权)人：深圳市华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44