方形烤盘和具有其的煎烤装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种方形烤盘和具有其的煎烤装置，所述方形烤盘的内表面上具有多个凸出部，所述凸出部的高度H1满足：0.5mm≤H1≤1.5mm，所述多个凸出部之间限定出蒸汽通道。根据本实用新型专利技术的方形烤盘，通过设置蒸汽通道，且限定凸出部的高度在0.5mm到1.5mm之间，高温蒸汽可以在蒸汽通道内流动，从而加快了煎烤速度，缩短了煎烤时间，提高了食物的煎烤成熟均匀度，且便于相应烤盘的清洗。

【技术实现步骤摘要】
方形烤盘和具有其的煎烤装置
本技术涉及煎烤机设备领域，尤其是涉及一种方形烤盘和具有其的煎烤装置。
技术介绍
相关技术中指出，具有方形烤盘的煎烤机在煎烤的过程中，烤盘的温度场常常分布不均，致使位于烤盘不同位置处的食物产生成熟度不一致的问题，例如，烤盘中心的位置温度偏高，烤盘边缘的位置温度偏低，使得位于烤盘中心处的食物的熟透程度与位于烤盘边缘处的食物的熟透程度不一致，致使烤盘边缘位置处的食物常出现成熟较慢、成熟不均匀、或者不熟的问题，从而延长了煎烤时间，而且，食物的上表面也常常出现不熟或者成熟不均匀的现象，尤其是在烙制薄饼的过程中，薄饼的上表面容易发白，不易上色，煎烤效果不好。另外，在煎烤的过程中，常常出现水分损失较大的问题，导致煎烤出的食物发干、口感偏硬。综上所述，相关技术中的煎烤机存在食物受热不均、煎烤时间较长、煎烤效果不好等问题。
技术实现思路
本技术旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本技术在于提出一种方形烤盘，所述方形烤盘可以缩短煎烤时间、提高食物成熟度的均匀性。 本技术还提出一种具有上述方形烤盘的煎烤装置。 根据本技术第一方面的方形烤盘，所述方形烤盘的内表面上具有多个凸出部，所述凸出部的高度Hl满足:0.5mm ^ Hl ^ 1.5mm，所述多个凸出部之间限定出蒸汽通道。 根据本技术的方形烤盘，通过设置蒸汽通道，且限定凸出部的高度在0.5mm到1.5mm之间，高温蒸汽可以在蒸汽通道内流动，从而加快了煎烤速度，缩短了煎烤时间，提高了食物的煎烤成熟均匀度，且便于相应烤盘的清洗。 具体地，所述多个凸出部呈多排多列排列。 具体地，所述多个凸出部呈环形阵列排列。 具体地，所述凸出部形成为棱柱或圆柱形状。 具体地，所述凸出部形成为球形。 具体地，所述凸出部之间的距离Dl满足:2mm ^ Dl ^ 5mm。 根据本技术第二方面的煎烤装置，包括:下烤盘；上烤盘，所述上烤盘可转动地连接至所述下烤盘，且所述上烤盘与所述下烤盘之间限定出煎烤腔室，其中所述上烤盘和所述下烤盘的至少一个为根据本技术上述第一方面的方形烤盘。 根据本技术的煎烤装置，通过设置上述第一方面的方形烤盘，从而提高了煎烤装置的整体性能。 具体地，所述上烤盘和所述下烤盘在闭合状态时所述煎烤腔室的高度为10_15mm。 具体地，所述上烤盘的内表面垂直地延伸出环形的锁水圈，所述上烤盘和所述下烤盘在闭合状态时所述锁水圈的下端与所述下烤盘的内表面之间的距离小于等于7_。 具体地，所述上烤盘的宽度SI和长度S2满足:0.6 ( S1/S2 ( 0.8。 本技术的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本技术的实践了解到。 【附图说明】 图1是根据本技术实施例的煎烤装置的打开状态示意图； 图2是图1中所示的煎烤装置的关闭状态示意图； 图3是根据本技术一个实施例的下烤盘的示意图； 图4是沿图3中A-A线的剖面图； 图5是根据本技术一个实施例的下烤盘的示意图； 图6是图5中圈示的C部放大图； 图7是沿图5中D-D线的剖面图； 图8是图7中圈示的E部放大图。 附图标记: 100:煎烤装置；101:煎烤腔室； 1:上烤盘；11:上煎烤壁面；12:上内侧壁；13:锁水圈； 2:下烤盘；21:下煎烤壁面； 22:下内侧壁；221:第一下内侧壁；222:第二下内侧壁； 223:第三下内侧壁；224:第四下内侧壁； 23:下固定槽；25:蒸汽通道；26:凸出部； 3:发热管；31:用于固定第一管段的下固定槽的中心线； 32:用于固定第二管段的下固定槽的中心线； 33:用于固定第三管段的下固定槽的中心线； 34:用于固定第四管段的下固定槽的中心线； 4:铰链结构； 200:食物。 【具体实施方式】 下面详细描述本技术的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，旨在用于解释本技术，而不能理解为对本技术的限制。 下文的公开提供了许多不同的实施例或例子用来实现本技术的不同结构。为了简化本技术的公开，下文中对特定例子的部件和设置进行描述。当然，它们仅仅为示例，并且目的不在于限制本技术。此外，本技术可以在不同例子中重复参考数字和/或字母。这种重复是为了简化和清楚的目的，其本身不指示所讨论各种实施例和/或设置之间的关系。此外，本技术提供了的各种特定的工艺和材料的例子，但是本领域普通技术人员可以意识到其他工艺的可应用于性和/或其他材料的使用。 下面参考图1-图8描述根据本技术第一方面实施例的方形烤盘。 其中，方形烤盘适用于煎烤装置100，如图1所示，根据本技术实施例的煎烤装置100，包括:下烤盘2、上烤盘I以及发热管3。具体地，上烤盘I可转动地连接至下烤盘2，且上烤盘I与下烤盘2之间限定出煎烤腔室101。其中，上烤盘I和下烤盘2中的至少一个为方形烤盘，也就是说，上烤盘I可以为上文和下文所述的方形烤盘，下烤盘2也可以为上文和下文所述的方形烤盘，下面仅以上烤盘I和下烤盘2同时为上文和下文所述的方形烤盘为例进行说明。另外，需要说明的是，在本文的描述中，术语“方形”指的是长方形和正方形的总称。 如图1和图2所示，上烤盘I在打开煎烤腔室101的打开位置和关闭煎烤腔室101的关闭位置之间绕旋转轴线可转动地设在下烤盘2的上面，例如，上烤盘I的一端可通过铰链结构4与下烤盘2的一端构成可转动地连接，其中，上烤盘I与下烤盘2彼此相对的两个表面之间，也就是说，上烤盘I与下烤盘2彼此邻近的两个面之间限定出煎烤腔室101，当上烤盘I位于关闭位置时，上烤盘I与下烤盘2共同限定出封闭的煎烤腔室101，当上烤盘I位于打开位置时，煎烤腔室101敞开。 使用时，将下烤盘2放置在安装平面(例如水平桌面)上，当上烤盘I位于关闭位置时，如图2所示，上烤盘I与下烤盘2之间的夹角优选为0°，此时上烤盘I盖合在下烤盘2的上面，以与下烤盘2共同限定出封闭的煎烤腔室101 ;当上烤盘I位于打开位置时，如图1所示，上烤盘I与下烤盘2之间的夹角可以为钝角，例如上烤盘I和下烤盘2之间的夹角可以为100°，从而可以使煎烤腔室101敞开。另外，需要说明的是，在上烤盘I位于打开位置时，上烤盘I与下烤盘2之间的夹角也可为其它角度，具体角度可以根据实际情况来灵活设定。 这样，煎烤装置100在使用的过程中，当需要煎烤食物200时，首先将上烤盘I枢转至打开位置，使得煎烤腔室101敞开，以将食物200放入煎烤腔室101内，然后可以将上烤盘I枢转至关闭位置，使得煎烤腔室101封闭，以开始煎烤食物200，待食物200煎烤完成后，可以再将上烤盘I枢转至打开位置，将煎烤完成的食物200取出。当然，本技术不限于此，在煎烤的过程中，也可以不将上烤盘I枢转至关闭位置，也就是说，可以在煎烤腔室101敞开的情况下、仅利用下烤盘2对食物200进行煎烤。 在本技术的一个示例中，下烤盘2的上端面上可本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种方形烤盘，其特征在于，所述方形烤盘的内表面上具有多个凸出部，所述凸出部的高度H1满足：0.5mm≤H1≤1.5mm，所述多个凸出部之间限定出蒸汽通道。

【技术特征摘要】
1.一种方形烤盘，其特征在于，所述方形烤盘的内表面上具有多个凸出部，所述凸出部的高度Hl满足:0.5mm ^ Hl ^ 1.5_，所述多个凸出部之间限定出蒸汽通道。2.根据权利要求2所述的方形烤盘，其特征在于，所述多个凸出部呈多排多列排列。3.根据权利要求2所述的方形烤盘，其特征在于，所述多个凸出部呈环形阵列排列。4.根据权利要求1所述的方形烤盘，其特征在于，所述凸出部形成为棱柱或圆柱形状。5.根据权利要求1所述的方形烤盘，其特征在于，所述凸出部形成为球形。6.根据权利要求1-5中任一项所述的方形烤盘，其特征在于，所述凸出部之间的距离Dl 满足:2mm < Dl < 5mm。7.一种煎烤装置，其特征...

【专利技术属性】
技术研发人员：邢凤雷，王志刚，杜明辉，尹志楠，万程，
申请(专利权)人：佛山市顺德区美的电热电器制造有限公司，美的集团股份有限公司，
类型：新型
国别省市：广东;44