一种电容屏的制备方法技术

本发明专利技术提供了一种电容屏的制备方法，包括以下步骤：S10、先在屏幕衬底的非可视区域印刷装饰层，然后在屏幕衬底的可视区域形成透明电极层，且透明电极层的边缘延伸至装饰层上；S20、在装饰层的表面印刷激光屏蔽层，然后在激光屏蔽层表面印刷导电金属浆料，形成边缘金属层，所述边缘金属层与透明电极层搭接；S30、对边缘金属层表面进行激光蚀刻，形成边缘线路，得到所述电容屏。采用本发明专利技术提供的制备方法制备电容屏，边缘线路通过丝网印刷后激光蚀刻形成，其线宽/线距能达到40/40微米，同时该方法工艺简单、便于实施，得到产品良率高，且成本低廉。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术提供了，包括以下步骤：S10、先在屏幕衬底的非可视区域印刷装饰层，然后在屏幕衬底的可视区域形成透明电极层，且透明电极层的边缘延伸至装饰层上■’S20、在装饰层的表面印刷激光屏蔽层，然后在激光屏蔽层表面印刷导电金属浆料，形成边缘金属层，所述边缘金属层与透明电极层搭接；S30、对边缘金属层表面进行激光蚀刻，形成边缘线路，得到所述电容屏。采用本专利技术提供的制备方法制备电容屏，边缘线路通过丝网印刷后激光蚀刻形成，其线宽/线距能达到40/40微米，同时该方法工艺简单、便于实施，得到产品良率高，且成本低廉。【专利说明】
本专利技术属于触摸屏
，尤其涉及。
技术介绍
目前，市面上常见的各种手机、媒体播放器、导航系统、数位相机等电子产品开始 配套各种类型的触摸屏，依据其原理，可分为电阻式、电容式、红外线式和表面声波式，电容 式触摸屏（以下简称电容屏)最为常见。电容屏的功能层主要由位于可视区域的透明导电电 极以及边缘非可视区域的走线构成，各电极之间断路，而各走线则与电极连接，形成若干通 道。特别是中大尺寸的电容屏，其通道数很多，而产品的外观设计则需要更窄的边框，因此 对边缘走线的线宽和线距要求越来越高。 目前现有技术中，电容屏的边缘走线一般由银浆丝印或金属镀膜层光刻蚀刻而 得，得到的电容屏的结构式如图1所示。其中，银浆丝印法的成本较低，但线宽/线距一般 在120/120微米~80/80微米范围内良率较高，线宽/线距越小，良率越低。而金属镀膜层 光刻蚀刻法，则可以使边缘走线的线宽/线距达到30/30微米及以下，但其需要经过金属镀 膜、光刻胶涂布、曝光显影、烘烤、酸法蚀刻、脱膜等众多繁琐工序，且设备投资大，因此成本 很1?。
技术实现思路
本专利技术解决了现有技术中存在的电容屏制作过程中其边缘走线的线宽/线距较 大、良率低、且工序繁琐、成本高的技术问题。 本专利技术提供了，包括以下步骤： S10、先在屏幕衬底的非可视区域印刷装饰层，然后在屏幕衬底的可视区域形成透明电 极层，且透明电极层的边缘延伸至装饰层上； S20、在装饰层的表面印刷激光屏蔽层，然后在激光屏蔽层表面印刷导电金属浆料，形 成边缘金属层，所述边缘金属层与透明电极层搭接； S30、对边缘金属层表面进行激光蚀刻，形成边缘线路，得到所述电容屏。 采用本专利技术提供的制备方法制备电容屏，边缘线路通过丝网印刷后激光蚀刻形 成，其线宽/线距能达到40/40微米，同时该方法工艺简单、便于实施，得到产品良率高，且 成本低廉。 【专利附图】【附图说明】 图1是采用现有技术提供的制备方法制备得到的电容屏的结构示意图。 图2是采用本专利技术提供的制备方法制备得到的电容屏的结构示意图。 图中，1-屏幕衬底，2--装饰层，3--透明电极层，4--激光屏蔽层，5-- 边缘线路。 【具体实施方式】 专利技术人在透明基材表面形成金属线路(例如银走线）时，发现：为了提高银浆的走 线精度，可以采用激光蚀刻银浆技术，具体步骤为：先大面积丝印块状银浆，再通过激光烧 蚀将块状银浆层切断，从而分割成精细的银走线。采用该激光蚀刻银浆技术，最小可获得 40/40微米的线宽/线距，基本达到金属镀膜黄光蚀刻的水平，且成本不高、良率较高。但发 明人发现：由于不同材料对不同波长的光吸收系数是不相同的，而用于蚀刻银浆的激光为 红外光，因此该激光蚀刻银浆技术仅适用于对红外光不吸收的基材，使得其目前多用于透 明基材上的丝印银浆蚀刻。 而目前的0GS或G1F电容屏结构中，在其屏幕衬底上一般形成有一层装饰层，其主 要作用在于遮盖屏幕衬底非可视区域的走线，并提供外观装饰效果，然后走线形成在该装 饰层上。而目前电容屏的装饰层的传统材料为吸收红外光的材质，在后续采用激光蚀刻银 浆的同时，也会对装饰层造成破坏，导致触摸屏边框透光，使得激光蚀刻银浆技术还无法用 于此类电容屏制作领域。 为解决上述问题，专利技术人尝试改变传统装饰层的材质，例如可选择不吸收红外光 的装饰层材料。但由于电容屏装饰层材料要求苛刻，具体体现为：（1)IT0镀膜层很薄，要求 装饰层厚度控制在10微米以内；（2) ΙΤ0镀膜的温度较高，因此该装饰层必须耐高温，导致 装饰层材料的替换难度很大。专利技术人通过进一步的实验发现，如果在不改变传统装饰层的 基础上，而在装饰层表面覆盖一层保护层，也可防止装饰层被激光破坏。因此，本专利技术提供 了一种新的电容屏的制备方法，包括以下步骤： S10、先在屏幕衬底的非可视区域印刷装饰层，然后在屏幕衬底的可视区域形成透明电 极层，且透明电极层的边缘延伸至装饰层上； S20、在装饰层的表面印刷激光屏蔽层，然后在激光屏蔽层表面印刷导电金属浆料，形 成边缘金属层，所述边缘金属层与透明电极层搭接； S30、对边缘金属层表面进行激光蚀刻，形成边缘线路，得到所述电容屏。 本专利技术中，对于屏幕衬底、装饰层的材质没有特殊要求，采用本领域常规的各种电 容屏用屏幕衬底、装饰层即可。例如，所述屏幕衬底可为玻璃或塑胶，但不局限于此。如前 所述，所述装饰层用于遮盖屏幕衬底的非可视区域的走线，并提供外观装饰效果，其可采用 公知的具有装饰效果的有机涂层，例如可以为装饰油墨或光刻胶。其中，装饰油墨可通过丝 印形成，光刻胶可通过旋涂形成。优选情况下，所述屏幕衬底的厚度为0. 3-1. 5_，优选为 0. 55-1. 1mm。所述装饰层的厚度为1-20微米，优选为2-10微米。所述透明电极层为公知的 透明导电材料，优选为ΙΤ0镀膜层。所述透明电极层的厚度为本领域技术人员所公知，优选 为0.01-20微米。如前所述，当透明电极层采用ΙΤ0镀膜层时，优选为0.01-0. 3微米。所 述装饰层位于屏幕衬底的四周，所述透明电极层位于屏幕衬底的中间。 本专利技术中，所述激光屏蔽层用于保护装饰层，防止其被激光破坏，因此，激光屏蔽 层优选采用各种能完全或部分不吸收和/或反射红外激光的有机涂层。若其完全不吸收/ 反射红外激光，则激光屏蔽层本身不被激光损伤；若其部分不吸收/反射红外激光，则屏蔽 层部分被激光损伤，但仍能保护其下方的装饰层不受激光损伤。作为本专利技术的一种优选实 施方式，所述激光屏蔽层为双层油墨结构，其中底层为白色油墨，表层为透明反光UV油墨 (例如可以采用透明光油)，但不局限于此。 作为本领域技术人员的公知常识，位于激光屏蔽层表面的边缘线路的厚度较大， 其厚度一般3-20微米，优选为6-12微米，具有较强的断差覆盖能力，因此对于激光屏蔽层 的厚度要求不高。优选情况下，所述激光屏蔽层的厚度为3-30微米，优选为6-16微米，但 不局限于此。 本专利技术中，印刷激光屏蔽层可采用与印刷导电金属浆料相同的方法，例如均可以 采用丝网印刷，但不局限于此。作为本专利技术的一种优选实施方式，所述导电金属浆料优选为 导电银浆，印刷后即形成边缘银层，再通过激光蚀刻，即可形成边缘银线路。 根据本专利技术提供的制备方法，由于装饰层表面形成有具有保护作用的激光屏蔽 层，因此在印刷导电金属浆料后即可对表面的边缘金属层进行激光蚀刻，蚀刻过程中，通过 激光屏蔽层的遮盖，装饰层不会被激光破坏。其中，所述激光蚀刻的条件包括：所述激本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种电容屏的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：S10、先在屏幕衬底的非可视区域印刷装饰层，然后在屏幕衬底的可视区域形成透明电极层，且透明电极层的边缘延伸至装饰层上；S20、在装饰层的表面印刷激光屏蔽层，然后在激光屏蔽层表面印刷导电金属浆料，形成边缘金属层，所述边缘金属层与透明电极层搭接；S30、对边缘金属层表面进行激光蚀刻，形成边缘线路，得到所述电容屏。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：赖金洪，
申请(专利权)人：比亚迪股份有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44