一种降低金刚线切割的多晶硅反射率的制绒方法技术

本发明专利技术公开了一种降低金刚线切割的多晶硅反射率的制绒方法，其特征在于：包括以下步骤：（a）用碱溶液对硅片表面进行处理；（b）DI水清洗硅片表面；（c）将硅片浸入酸性混合溶液中，使硅片表面形成绒面；（d）碱溶液清洗：将硅片浸入氢氧化钾的碱溶液中，以清除硅片表面的酸；（e）酸洗：将硅片浸入氢氟酸溶液中，以中和残留的碱；（f）DI清洗：用DI溶液清洗硅片表面后烘干。本发明专利技术通过采用碱性溶液对硅片进行处理，使其表面形成金字塔结构，并通过DI水洗及制绒使硅片表面形成具有良好陷光效果的绒面，有效降低硅片的反射率，提高电池片电性能。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术公开了，其特征在于：包括以下步骤：(a)用碱溶液对硅片表面进行处理；（b)DI水清洗桂片表面；（c)将桂片浸入酸性混合溶液中，使桂片表面形成绒面；（d)碱溶液清洗：将硅片浸入氢氧化钾的碱溶液中，以清除硅片表面的酸；（e)酸洗：将硅片浸入氢氟酸溶液中，以中和残留的碱；(f)DI清洗：用DI溶液清洗硅片表面后烘干。本专利技术通过采用碱性溶液对硅片进行处理，使其表面形成金字塔结构，并通过DI水洗及制绒使硅片表面形成具有良好陷光效果的绒面，有效降低硅片的反射率，提高电池片电性能。【专利说明】
本专利技术涉及多晶硅太阳能电池制造领域，尤其是一种降低金刚线切割的多晶硅反 射率的制绒方法。
技术介绍
现有多晶硅锭的切片厂家在规模化生产中广泛使用了砂浆切割的工艺方法，与砂 浆切割的方法相比，用金刚线切割多晶硅锭的切片方法因其具有更利于环保、具有更大的 降低成本空间、具有更大的提升多晶硅电池片的效率空间等优势而得到广大切片厂家的关 注。然而，与砂浆切割的硅片相比，用金刚线切割的多晶硅片若用现在电池生产厂家广泛使 用的酸制绒工艺方法制备绒面，由于金刚线切割硅片表面的损伤层较薄，大约5-10微米， 反应活性不足，制绒后，用金刚线切割的硅片的反射率会比用砂浆切割的硅片的反射率高 出4-6%，反射率的升高会导致电池短路电流的下降，进而影响金刚线切割的多晶硅太阳电 池的转换效率。近期也有厂家尝试用RIE干法制绒、银诱导纳米制绒等方法降低金刚线切 割的多晶硅片的反射率，这些方法虽然可以增加金刚线切割的多晶硅片制绒后硅片表面的 陷光效果，降低其反射率，但同时也在硅片表面形成了过多的复合中心，使最终所得太阳电 池的短路电流上升，但开路电压下降，不利于减小最终电池片制成组件后的封装损失。而且 这些制绒方法需要在传统生产线的基础上增加较多的制绒工艺步骤，增加额外的化学药品 及特种气体的使用种类，同时也增加了外围污水及废气处理的负担。
技术实现思路
专利技术目的：本专利技术的目的是提供一种在不增加环境负担的情况下也能够有效降低 金刚线切割的多晶硅反射率、提高太阳电池转换效率的制绒方法。 技术方案：为实现上述目的，本专利技术提供了一种降低金刚线切割的多晶硅反射率 的制绒方法，包括以下步骤： (a) 用碱溶液对硅片表面进行处理：将金刚线切割的多晶硅片放入氢氧化钠、无水乙醇 或异丙醇组成的碱性混合溶液中，使多晶硅表面形成金字塔结构； (b) DI水清洗硅片表面； (c) 将硅片浸入酸性混合溶液中，使硅片表面形成绒面； (d) 碱溶液清洗：将硅片浸入氢氧化钾的碱溶液中，以清除硅片表面的酸；（e)酸洗：将 硅片浸入氢氟酸溶液中，以中和残留的碱； (f) DI清洗：用DI溶液清洗硅片表面后烘干。 所述步骤（a)中碱性混合溶液，其中氢氧化钠的浓度为0. 5-5%、无水乙醇或异丙 醇的浓度为〇. 1-5%、反应时间为0. 2-30min，反应温度为50-KKTC。 所述步骤（b)中DI水清洗硅片表面的温度为0-70°C，清洗时间为0· l-10min。 步骤（c)所述的酸性混合溶液为氢氟酸及硝酸的混合溶液，其中氢氟酸与硝酸的 体积比为1 :2-6:1，酸性混合溶液的处理温度为0-30°C，处理时间为0. 5-10min。 步骤（d)所述的氢氧化钾的浓度为0. 1-5%，浸入时间为0. 1-lOmin，处理温度为 0-60。。。 步骤（e)中氢氟酸的浓度为0. 5-30%，酸洗温度为0_70°C，酸洗时间为0. 2_15min。 步骤（f)中DI水的清洗温度为0-70°C，清洗时间为0. 2-10min;烘干温度为 50-200°C，烘干时间为 0· 5-20min。 有益效果：本专利技术提供的与现有 技术相比，具有以下优点： 1. 环境污染小：本专利技术所用的制绒方法不需要在传统生产线的基础上增加额外的化 学药品及特种气体的使用种类，也不会增加外围污水及废气处理的负担； 2. 多晶硅反射率低：本专利技术通过先用混合碱溶液体系对金刚线切割的硅片表面进行 处理使硅片表面形成类金字塔的结构以增大硅片的反应活性，再用酸性混合溶液使硅片表 面形成绒面的制绒方法，可使硅片表面形成具有良好陷光效果的绒面，能有效降低金刚线 切割多晶硅片制绒后的反射率； 3. 电池转换率高：本专利技术通过采用混合碱性溶液对硅片表面进行化学腐蚀的方式来 增大其表面的反应活性，不会在硅片表面形成过多的复合中心，使多晶太阳电池的短路电 流会随着反射率的下降而上升，同时电池的开路电压不会下降，从而可有效提高金刚线切 割硅片制成的多晶太阳电池的转换效率。 【具体实施方式】 下面结合具体实施例，进一步阐明本专利技术，本实施例在以本专利技术技术方案为前提 下进行实施，应理解这些实施例仅用于说明本专利技术而不用于限制本专利技术的范围。 ，包括以下步骤： (a) 用碱溶液对硅片表面进行处理：将金刚线切割的多晶硅片放入氢氧化钠、无水乙醇 或异丙醇组成的碱性混合溶液中，使多晶硅表面形成金字塔结构； (b) DI水清洗硅片表面； (c) 将硅片浸入酸性混合溶液中，使硅片表面形成绒面； (d) 碱溶液清洗：将硅片浸入氢氧化钾的碱溶液中，以清除硅片表面的酸；（e)酸洗：将 硅片浸入氢氟酸溶液中，以中和残留的碱； (f) DI清洗：用DI溶液清洗硅片表面后烘干将硅片浸入酸性混合溶液中，使硅片表面 形成绒面； 所述步骤（a)中碱性混合溶液，其中氢氧化钠的浓度为0. 5-5%、无水乙醇或异丙醇的 浓度为〇. 1-5%、反应时间为0. 2-30min，反应温度为50-KKTC。 步骤（b)中DI水清洗硅片表面的温度为0-70°C，清洗时间为0· l-10min。 步骤（c)所述的酸性混合溶液为氢氟酸及硝酸的混合溶液，其中氢氟酸与硝酸的 体积比为1 :2-6:1，酸性混合溶液的处理温度为0-30°C，处理时间为0. 5-10min。 步骤（d)所述的氢氧化钾的浓度为0. 1-5%，浸入时间为0. 1-lOmin，处理温度为 0-60。。。 步骤（e)中氢氟酸的浓度为0. 5-30%，酸洗温度为0-70°C，酸洗时间为0. 2-15min。 步骤（f)中DI水的清洗温度为0-70°C，清洗时间为0. 2-10min;烘干温度为 50-200°C，烘干时间为 0· 5-20min。 实施例I 采用金刚线切割的P型156多晶硅片作为基体材料，将P型156多晶硅片平均分成A、 B两份，取其中A组硅片进行常规的酸制绒，取B组硅片进行如下步骤制绒： (a) 将B组硅片浸入氢氧化钠的浓度为0. 5%、无水乙醇浓度为0. 3%的碱性混合溶液中； 浸入时间为28min，反应温度为85°C，使娃片表面形成金字塔结构； (b) 将步骤（a)中的硅片取出，浸入DI水中清洗，清洗温度为KTC，清洗时间为0. lmin， 以清洗硅片表面残留的碱； (c) 将步骤（b)中的硅片取出浸入氢氟酸及硝酸混合的酸性混合溶液中，其中氢氟酸与 硝酸的体积比为1 :2,所述酸性混合溶液的处理温度为5°C，处理时间为25min，使硅片表面 形成绒面； (d) 将步骤（c)中的硅片浸入氢氧化本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种降低金刚线切割的多晶硅反射率的制绒方法，其特征在于：包括以下步骤：（a）用碱溶液对硅片表面进行处理：将金刚线切割的多晶硅片放入氢氧化钠、无水乙醇或异丙醇组成的碱性混合溶液中，使多晶硅表面形成金字塔结构；（b）DI水清洗硅片表面；（c）将硅片浸入酸性混合溶液中，使硅片表面形成绒面；（d）碱溶液清洗：将硅片浸入氢氧化钾的碱溶液中，以清除硅片表面的酸；（e）酸洗：将硅片浸入氢氟酸溶液中，以中和残留的碱；（f）DI清洗：用DI溶液清洗硅片表面后烘干。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：李静，孙海平，夏正月，
申请(专利权)人：奥特斯维能源太仓有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32