本发明专利技术提供厚膜涂布性以及高差追从性优异的压敏粘合性组合物、压敏粘合剂以及压敏粘合片。为了解决上述课题，提供一种压敏粘合性组合物，包含：重均分子量为10万～90万、具有反应性基团的(甲基)丙烯酸酯聚合物(A)；交联剂(B)；含有作为环状分子的环状低聚糖的聚轮烷化合物(C)。压敏粘合性组合物中的交联剂(B)的含量，相对于(甲基)丙烯酸酯聚合物(A)100质量份，为0.01质量份～2质量份，压敏粘合性组合物中的聚轮烷化合物(C)的含量，相对于(甲基)丙烯酸酯聚合物(A)100质量份，为0.1质量份～30质量份。
【技术实现步骤摘要】
压敏粘合性组合物、压敏粘合剂以及压敏粘合片
本专利技术涉及压敏粘合性组合物、压敏粘合剂(使压敏粘合性组合物交联而成的材料)以及压敏粘合片，特别涉及适合作为光学构件用的压敏粘合性组合物、压敏粘合剂以及压敏粘合片。
技术介绍
近年在各种电子设备中，多使用兼具显示装置与输入设备的触摸屏。触摸屏的种类主要有电阻膜式、电容式、光学式以及超声波式。电阻膜式触摸屏有模拟数据电阻膜式以及矩阵电阻膜式，电容式触摸屏有表面型以及投影型。最近受到注目的智能手机、平板电脑终端等移动式电子设备的触摸屏，多使用投影型电容式的触摸屏。作为所述移动电子设备的投影型电容式触摸屏，例如，有研究提出了从下方依次层合液晶显示装置(LCD)、压敏粘合剂层、透明导电膜(锡掺杂氧化铟:ΙΤ0)、玻璃基板、透明导电膜(ITO)、及强化玻璃等保护层的触摸屏。就所述的触摸屏而言，具有在压敏粘合剂层接触的面上存在着起因于印刷等高差的情况，此时，具有为将该高差填埋而形成压敏粘合剂层的必要。为此，在将压敏粘合剂层形成厚膜的同时，有必要使该压敏粘合剂层追从高差。即，对于用于所述压敏粘合剂层的压敏粘合剂，要求厚膜涂布性以及高差(凹凸)追从性。专利文献I以及专利文献2所记述的专利技术中，在压敏粘合剂中配合作为低分子量成分的低聚物，使所得到的压敏粘合剂层变得适度柔软，由此，提高压敏粘合剂层的凹凸追从性。现有技术文献专利文献专利文献1:日本特开2011-158458号公报专利文献2:日本特开2011-162593号公报
技术实现思路
专利技术要解决的课题但是，添加低分子量成分所得到的压敏粘合剂，内聚力不充分，具有在高温下放置时粘合力下降或发泡，耐热性降低的问题。另外，具有随时间推移低分子量成分从压敏粘合剂层渗出，粘合耐久性降低或被粘物被污染等各种问题的可能性。本专利技术是鉴于这样的现状而做出的，目的在于提供厚膜涂布性以及高差追从性优异的压敏粘合性组合物、压敏粘合剂以及压敏粘合片。用于解决课题的手段为了达成上述目的，第一，本专利技术提供压敏粘合性组合物，其含有:重均分子量为10万~90万、具有反应性基团的(甲基)丙烯酸酯聚合物(A);交联剂(B);和具有环状低聚糖作为环状分子的聚轮烷化合物(C);其特征在于，所述压敏粘合性组合物中的所述交联剂(B)的含量相对于100质量份所述(甲基)丙烯酸酯聚合物(A)，为0.01质量份~2质量份，所述压敏粘合性组合物中的所述聚轮烷化合物(C)的含量相对于100质量份所述(甲基)丙烯酸酯聚合物(A)，为0.1质量份~30质量份(专利技术I)。上述专利技术(专利技术I)中所述的压敏粘合性组合物通过主成分(甲基)丙烯酸酯聚合物(A)的重均分子量较小，厚膜涂布性优异，此外，通过含有规定量的聚轮烷化合物(C)，得到的压敏粘合剂凹凸追从性优异。优选地，在上述专利技术(专利技术I)中，所述(甲基)丙烯酸酯聚合物㈧含有I质量％~50质量％的具有羟基的单体作为构成该聚合物的单体单元，所述交联剂(B)为异氰酸酯系交联剂(专利技术2);或者，所述(甲基)丙烯酸酯聚合物(A)含有I质量％~30质量％的具有羧基的单体作为构成该聚合物的单体单元，所述交联剂(B)为异氰酸酯系交联剂、环氧系交联剂以及金属螯合物系交联剂所构成的组中选择的至少一种(专利技术3)。在上述专利技术(专利技术I~专利技术3)中，所述聚轮烷化合物(C)的环状分子优选具有羟基作为反应性基团(专利技术4)。第二，本专利技术提供将所述压敏粘合性组合物(专利技术I~专利技术4)交联而成的压敏粘合剂(专利技术5)。在上述专利技术(专利技术5)中，凝胶分率优选为20%~90% (专利技术6)。在上述专利技术(专利技术5，专利技术6)中，雾度值优选为5%以下(专利技术7)。优选地， 在上述专利技术(专利技术5，专利技术6)中，利用两片具有包括锡掺杂氧化铟的透明导电膜的厚度为125 μ m的塑料膜，以使所述透明导电膜面侧与所述压敏粘合剂相接的方式将厚度为10(^111的所述压敏粘合剂夹持，在851:、85%1^的条件下保存120小时，之后，恢复到23°C、50%RH的常温常湿时的所述压敏粘合剂的雾度值为5%以下(专利技术8)。第三，本专利技术提供压敏粘合片，其为具有基材与压敏粘合剂层的压敏粘合片，特征在于:所述压敏粘合剂层包括所述压敏粘合剂(专利技术5~专利技术8)(专利技术9)。在上述专利技术(专利技术9)中，所述基材优选为光学构件(专利技术10)。第四，本专利技术提供压敏粘合片，其特征在于:其具有两片剥离片和以与所述两片剥离片的剥离面相接的方式夹持所述剥离片的压敏粘合剂层，所述压敏粘合剂层包括所述压敏粘合剂(专利技术5~专利技术8)(专利技术11)。专利技术的效果本专利技术涉及的压敏粘合性组合物通过使主成分(甲基)丙烯酸酯聚合的重均分子量较小，厚膜涂布性优异，而且，含有规定量的聚轮烷化合物，由此，得到的压敏粘合剂高差追从性优异。【附图说明】图1为本专利技术的第I实施方式所涉及的压敏粘合片的剖面图。图2为本专利技术的第2实施方式所涉及的压敏粘合片的剖面图。图3为说明压敏粘合剂层的高差追从性试验的平面图。图4为说明压敏粘合剂层的高差追从性试验的概略剖面图。附图标记说明1A, IB…压敏粘合片11…压敏粘合剂层12，12a，12b …剥离片13…基材实施专利技术的方式以下，关于本专利技术的实施方式进行说明。〔压敏粘合性组合物〕本实施方式所涉及的压敏粘合性组合物(以下称为“压敏粘合性组合物P”)，含有重均分子量为10万~90万的具有反应性基团的(甲基)丙烯酸酯聚合物(A)、交联剂(B)、和具有环状低聚糖作为环状分子的聚轮烷化合物(C)。另外，本说明书中，所谓(甲基)丙烯酸酯，指丙烯酸酯以及甲基丙烯酸酯两者。其他的类似用语也同样。另外，“聚合物”也包括“共聚物”的概念。(1)(甲基)丙烯酸酯聚合物(A)(甲基)丙烯酸酯聚合物(A)所具 有的反应性基团，为能与交联剂(B)反应的官能团，例如可以列举羟基、羧基、氨基等，其中优选为羟基以及羧基。即，(甲基)丙烯酸酯聚合物(A)，优选含有具有羟基的单体(含羟基单体)和/或具有羧基的单体(含羧基单体)作为构成该聚合物的单体单元。(甲基)丙烯酸酯聚合物(A)利用所述反应性基团，被交联剂(B)交联。另外，作为所述反应性基团，含有乙烯基、(甲基)丙烯酰基等自由基聚合性不饱和双键的官能团除外。这是因为，如果为将含有自由基聚合性不饱和双键的官能团作为反应性基团的(甲基)丙烯酸酯聚合物的交联反应，则难以控制在能够发挥本专利技术效果的适当的交联密度。羟基与异氰酸酯基的反应性高，因此，作为后述的交联剂(B)，优选使用异氰酸酯系交联剂。另外，羧基与异氰酸酯基、环氧基以及金属螯合物发生反应，因此，作为后述的交联剂(B)，优选使用由异氰酸酯系交联剂、环氧系交联剂以及金属螯合物系交联剂所构成的组中选择的至少一种。作为含羟基单体，例如可以列举(甲基)丙烯酸2-羟基乙基酯、(甲基)丙烯酸2-羟基丙基酯、(甲基)丙烯酸3-羟基丙基酯、(甲基)丙烯酸2-羟基丁基酯、(甲基)丙烯酸3-羟基丁基酯、(甲基)丙烯酸4-羟基丁基酯等(甲基)丙烯酸羟基烷基酯等，其中，从所得到的(甲基)丙烯酸酯聚合物㈧中的羟基与交联剂⑶的反应性以及与其他单体的共聚合性的观点考虑，优选(甲基)丙烯酸2-羟基乙基酯。这些可以单独使用，也可以组合两种以上使用。优选地，(甲基)丙烯酸酯聚合物(A)含有I质量％~5本文档来自技高网...
【技术保护点】
压敏粘合性组合物，其含有：重均分子量为10万～90万、具有反应性基团的(甲基)丙烯酸酯聚合物(A)；交联剂(B)；和具有环状低聚糖作为环状分子的聚轮烷化合物(C)；其特征在于，所述压敏粘合性组合物中的所述交联剂(B)的含量相对于100质量份所述(甲基)丙烯酸酯聚合物(A)，为0.01质量份～2质量份，所述压敏粘合性组合物中的所述聚轮烷化合物(C)的含量相对于100质量份所述(甲基)丙烯酸酯聚合物(A)，为0.1质量份～30质量份。
【技术特征摘要】
2013.02.25 JP 2013-0343311.压敏粘合性组合物，其含有: 重均分子量为10万~90万、具有反应性基团的(甲基)丙烯酸酯聚合物㈧； 交联剂(B);和 具有环状低聚糖作为环状分子的聚轮烷化合物(C)； 其特征在于，所述压敏粘合性组合物中的所述交联剂(B)的含量相对于100质量份所述(甲基)丙烯酸酯聚合物(A)，为0.01质量份~2质量份， 所述压敏粘合性组合物中的所述聚轮烷化合物(C)的含量相对于100质量份所述(甲基)丙烯酸酯聚合物(A)，为0.1质量份~30质量份。2.根据权利要求1所述的压敏粘合性组合物，其特征在于，所述(甲基)丙烯酸酯聚合物(A)含有I质量％~50质量％的具有羟基的单体作为构成该聚合物的单体单元，所述交联剂(B)为异氰酸酯系交联剂。3.根据权利要求1所述的压敏粘合性组合物，其特征在于，所述(甲基)丙烯酸酯聚合物(A)含有I质量％~30质量％的具有羧基的单体作为构成该聚合物的单体单元，所述交联剂(B)为由异氰酸酯系交联剂、环氧系交联剂以及金属螯合物系交联剂所构成的组中选择的至少一种。4.根据权利要求1所述的压...
【专利技术属性】
技术研发人员：荒井隆行，小泽祐树，所司悟，
申请(专利权)人：琳得科株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP
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