提高溅射阴极靶材利用率和镀层均匀性的装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种提高溅射阴极靶材利用率和镀层均匀性的装置，轴向往复运动连接件与凸轮系统运动机构固定连接，径向旋转运动连接件与伺服电机驱动机构固定连接，进水支撑管的左右端分别与轴向往复运动连接件和径向旋转运动连接件固定连接，磁铁组件固定在进水支撑管上，磁铁组件在空间三个自由度允许的范围内做周期性轴向直线往复运动和径向旋转往复运动。本实用新型专利技术使靶材在轴向刻蚀均匀性大大提高，进而削弱靶材管端部过度刻蚀现象，避免靶材管端部径向刻蚀凹槽的产生，延长靶材使用寿命，提高靶材利用率，提高溅射出的靶材粒子在靶管径向特定角度内的空间分布均匀性，得到的沉积薄膜质量有很大提升，镀层的厚度均匀性大幅度改善。（*该技术在2024年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
提高溅射阴极靶材利用率和镀层均匀性的装置
本技术涉及真空磁控溅射镀膜
，尤其涉及一种提高溅射阴极靶材利用率和镀层均匀性的装置。
技术介绍
磁控溅射镀膜技术凭借其高速、低温两大优点在真空镀膜工业中应用日趋广泛，成为工业镀膜生产中最主要的技术之一。磁控溅射镀膜技术，主要用在建筑材料用的Low-E膜、平板显示用的ITO膜、太阳能电池的背板膜等的镀膜生产中。磁控溅射镀膜设备的主要工作原理是利用气体的辉光放电过程产生正离子(通常反应气体为氩气时为氩离子)，这些正离子在电场的加速作用下以很高的能量轰击阴极靶材的表面，使靶材发生溅射，产生的溅射粒子(原子或分子)脱离阴极后往阳极基片上沉积，形成薄膜，从而完成镀膜的工序。旋转阴极是磁控溅射镀膜设备中的核心部件。旋转阴极通常主要由驱动端块、支撑端块、柱状的旋转靶管和磁铁组件组成，磁铁组件位于靶管的中心，靶管围绕固定的磁铁组件进行旋转。在工作过程中，磁铁组件在面向镀膜基片一侧的某一特定位置被固定住，通过产生的磁场束缚真空腔室内电子的运动轨迹，使辉光放电产生的等离子体约束在靠近靶材表面的区域内。当前的工业生产中，遇到了两个亟待解决的问题是本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种提高溅射阴极靶材利用率和镀层均匀性的装置，其特征在于：包括有凸轮系统运动机构、轴向往复运动连接件、进水支撑管、磁铁组件、径向旋转运动连接件和伺服电机驱动机构，所述的轴向往复运动连接件与凸轮系统运动机构固定连接，径向旋转运动连接件与伺服电机驱动机构固定连接，所述的进水支撑管的左右端分别与轴向往复运动连接件和径向旋转运动连接件固定连接，所述的磁铁组件固定在进水支撑管上。

【技术特征摘要】
1.一种提高溅射阴极靶材利用率和镀层均匀性的装置，其特征在于:包括有凸轮系统运动机构、轴向往复运动连接件、进水支撑管、磁铁组件、径向旋转运动连接件和伺服电机驱动机构，所述的轴向往复运动连接件与凸轮系统运动机构固定连接，径向旋转运动连接件与伺服电机驱动机构固定连接，所述的进水支撑管的左右端分别与轴向往复运动连接件和径向旋转运动连接件固定连接，所述的磁铁组件固定在进水支撑管上。2.根据权利要求1所述的提高溅射阴极靶材利用率和镀层均匀性的装置，其特征在于:所述的凸轮系统运动机构包括有靶端支撑管一，在靶端支撑管一内部设有左、右支撑端盖，右支撑端盖的下端向左折弯并通过螺钉与左支撑端盖固定连接，在左、右支撑端盖之间通过轴承固定有圆柱凸轮，圆柱凸轮的左端穿出左支撑端盖，在圆柱凸轮的左端上安装有偏心凸轮齿轮，在靶端支撑管一内壁对应偏心凸轮齿轮的位置处设有圆柱销，圆柱销与偏心凸轮齿轮的齿面啮合，在所述的圆柱凸轮外表面开有周向性的环形凹槽，在左、右支撑端盖之间位于圆柱凸轮下方设有凸轮从动件，凸轮从动件的右端穿出右支撑端盖，在凸轮从动件上设有球状定位销，球状定位销与所述的环形凹槽接触，凸轮...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈长琦，闫清泉，王国栋，陈晨，
申请(专利权)人：合肥工业大学，
类型：新型
国别省市：安徽;34