一种平面阴极制造技术

本实用新型专利技术涉及一种平面阴极，包含靶材、壳体、设置在壳体内的软铁底板、设置在软铁底板上的磁阵，靶材位于所述磁阵的上方，所述磁阵包含N组并沿软铁底板的横向进行竖直的等距排列；所述磁阵包含：形成在软铁底板上的环形跑道、设置在软铁底板上被环形跑道所包围的第一磁铁、设置在软铁底板上用于包围环形跑道的第二磁铁；所述磁阵还包含：设置在环形跑道内用于隔离并固定第一磁铁和第二磁铁的铝块；其中，被铝块隔离的第一磁铁和第二磁铁的极性相反。同现有技术相比，由于需镀膜衬底在经过靶材上方的过程中需要通过多个磁阵形成的刻蚀跑道，从而使得靶材上溅射出的离子或原子会反复的覆盖在衬底的表面形成薄膜，以此来提高衬底镀膜的速度。（*该技术在2024年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
—种平面阴极
本技术涉及一种平面阴极，特别涉及一种磁控溅射用矩形平面阴极。
技术介绍
资源枯竭和环境污染是人类社会实现可持续发展的主要瓶颈，亟需解决。薄膜技术以其材料消耗量小，在科研和工业生产中应用广泛，尤其是在表面处理改性和防腐等领域应用更加广泛；物理法真空镀膜，具有适合制备材料广泛、技术成熟、制备薄膜材料性能优越、生产过程环保等优势，发展迅速。磁控溅射制备薄膜技术是最广泛应用的薄膜制备技术。磁控溅射设备的心脏，决定制备材料性能和材料利用率的核心部件是磁控溅射阴极。生产上使用的磁控溅射阴极主要有矩形平面阴极和柱状旋转阴极，阴极有效均匀溅射长度一般在300mm至4000mm，生产中将多个阴极并列集成到生产线上，制备厚膜和多层膜条件下，阴极数量达到数十个，生产线长度达到几十，甚至上百米，每个阴极配置一个大功率电压，整个设备投资达到数百甚至数千万元以上。随着环保力度的增大，传统的电镀行业已经不合适发展的需要，真空磁控溅射技术是替代传统电镀的最佳选择，很多中小零件的磁控溅射镀膜市场需求广泛。现有采用小型圆形阴极的台式单机设计不能适合多层膜对膜层纯度的要求，也不适合产业化批量溅射较厚本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种平面阴极，包含靶材、壳体、设置在所述壳体内的软铁底板、设置在所述软铁底板上的磁阵，所述靶材位于所述磁阵的上方，其特征在于：所述磁阵包含N组并沿所述软铁底板的横向进行竖直的等距排列；其中，所述N为大于1的自然数；所述磁阵包含：形成在软铁底板上的第一环形跑道、设置在所述软铁底板上被所述第一环形跑道所包围的第一磁铁、设置在所述软铁底板上用于包围所述第一环形跑道的第二磁铁；所述磁阵还包含：设置在所述第一环形跑道内用于隔离所述第一磁铁和所述第二磁铁的第一铝块；其中，被所述第一铝块隔离的所述第一磁铁和所述第二磁铁的极性相反。

【技术特征摘要】
1.一种平面阴极，包含靶材、壳体、设置在所述壳体内的软铁底板、设置在所述软铁底板上的磁阵，所述靶材位于所述磁阵的上方，其特征在于:所述磁阵包含N组并沿所述软铁底板的横向进行竖直的等距排列；其中，所述N为大于I的自然数； 所述磁阵包含:形成在软铁底板上的第一环形跑道、设置在所述软铁底板上被所述第一环形跑道所包围的第一磁铁、设置在所述软铁底板上用于包围所述第一环形跑道的第二磁铁； 所述磁阵还包含:设置在所述第一环形跑道内用于隔离所述第一磁铁和所述第二磁铁的第一铝块； 其中，被所述第一铝块隔离的所述第一磁铁和所述第二磁铁的极性相反。2.根据权利要求1所述的平面阴极，其特征在于:相邻两个磁阵的第二磁铁的极性相同或相反。3.根据权利要求1所述的平面阴极，其特征在于:所述磁阵还至少包含包围所述第二磁铁的第二环形跑道、包围所述第二环形跑道的第三磁铁和设置在所述第二环形跑道内用于隔离所述第三磁铁和第二磁铁的第二铝块； 其中，被所述第二铝块隔离的所述第二和第三磁铁的极性相反。4.根据权利要求3所述的平面阴极，其特征在于:相...

【专利技术属性】
技术研发人员：褚家宝，谭新，韩子水，李杰，
申请(专利权)人：上海福宜真空设备有限公司，
类型：新型
国别省市：上海;31