遮光结构及其制作方法、显示装置及显示装置显示的方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供了一种遮光结构及其制作方法、显示装置及显示装置显示的方法，该遮光结构包括多个微遮光盒，每一个该微遮光盒包括密闭腔室，该密闭腔室内设置有透明溶剂、相对设置的第一电极和第二电极以及设置在该第一电极与该第二电极之间的扭转体，该扭转体包括遮光部分和透明部分，该遮光部分与该透明部分电性不同。本发明专利技术中的遮光结构包括扭转体，并通过扭转体两侧的电极控制扭转体进行旋转，当彩膜基板中漏光区域需要遮光时，控制扭转体形成遮光带对彩膜基板的漏光区域进行遮挡，当不需要遮光时，控制扭转体旋转以将形成的透明带与漏光区域正对，从而可以在不牺牲面板的透光率的情况下解决像素边缘漏光的问题。

【技术实现步骤摘要】
遮光结构及其制作方法、显示装置及显示装置显示的方法
本专利技术涉及显示领域，尤其涉及一种遮光结构及其制作方法、显示装置及显示装置显示的方法。
技术介绍
液晶面板主要包括彩膜基板、阵列基板以及填充在两基板之间的液晶。液晶面板利用电场进行液晶分子的取向控制，通过液晶折射率各向异性使透射率发生变化，以进行显示。现有技术中，液晶面板中阵列基板上设置有多个平行的栅线和与栅线垂直交叉的数据线，栅线和数据线围成的区域称作一个单位像素区域。彩膜基板主要包括基板、黑矩阵(BM)以及不同颜色的滤色膜层等，其中，黑矩阵设置在基板上，基板上未被黑矩阵覆盖的区域形成子像素开口区域，不同颜色的滤色膜层按一定排列方式设置其上。在阵列基板和彩膜基板对盒时，像素区域与子像素开口区域位置相对，不同颜色的滤色膜层实现彩色显示，黑矩阵用来遮挡栅线、数据线以及像素边缘区域，防止光线泄漏而影响显示。然而，在现有技术中，由于在彩膜基板形成黑矩阵的过程中设计值和实际值存在差异，使得形成的黑矩阵较窄，或者在对盒过程中阵列基板和彩膜基板的对位出现偏移，都会使得黑矩阵边缘产生像素漏光现象，从而影响显示面板的显示效果。
技术实现思路
(一)要解决的技术问题本专利技术要解决的技术问题是提供一种遮光结构及其制作方法、显示装置及显示装置显示的方法，以解决彩膜基板产生的漏光现象。(二)技术方案为解决上述技术问题，本专利技术的技术方案提供了一种遮光结构，包括多个微遮光盒，每一个所述微遮光盒包括密闭腔室，所述密闭腔室内设置有透明溶剂、相对设置的第一电极和第二电极以及设置在所述第一电极与所述第二电极之间的扭转体，所述扭转体包括遮光部分和透明部分，所述遮光部分与所述透明部分电性不同。进一步地，所述扭转体为球体形状，所述扭转体中遮光部分与透明部分的体积相同。进一步地，所述扭转体的直径为0.6L～1L，所述L为所述第一电极与所述第二电极之间的间距。进一步地，所述遮光结构中多个微遮光盒呈阵列排布。为解决上述技术问题，本专利技术还提供了一种遮光结构的制作方法，包括：在第一基板上制作绝缘层膜，并对所述绝缘层膜图形化以形成微遮光盒的隔离结构；在所述第一基板制作透明金属薄膜，并对所述透明金属薄膜图形化以在所述隔离结构的内侧形成相对设置的第一电极和第二电极；在所述第一电极和第二电极之间注入透明溶剂以及扭转体，所述扭转体包括遮光部分和透明部分，所述遮光部分与所述透明部分电性不同；将第二基板与所述第一基板对盒，以形成所述微遮光盒的密闭腔室。进一步地，所述扭转体为球体形状，所述扭转体中遮光部分与透明部分的体积相同。进一步地，所述扭转体的直径为0.6L～1L，所述L为所述第一电极与所述第二电极之间的间距。为解决上述技术问题，本专利技术还提供了一种显示装置，包括彩膜基板以及上述任意一种的遮光结构，所述遮光结构设置在所述彩膜基板上。进一步地，所述彩膜基板包括漏光区域，所述遮光结构中扭转体与所述漏光区域相对设置。进一步地，所述扭转体为球体形状，所述扭转体的直径大于所述漏光区域在对应方向上的宽度。为解决上述技术问题，本专利技术还提供了一种上述显示装置显示的方法，包括：当所述彩膜基板中的漏光区域需要遮光时，通过所述第一电极和第二电极对所述扭转体施加第一电场，以控制所述扭转体的遮光部分与所述漏光区域正对设置；当所述彩膜基板中的漏光区域不需要遮光时，通过所述第一电极和第二电极对所述扭转体施加第二电场，以控制所述扭转体的透明部分与所述漏光区域正对设置。(三)有益效果本专利技术中的遮光结构包括扭转体，并通过扭转体两侧的电极控制扭转体进行旋转，当彩膜基板中漏光区域需要遮光时，控制扭转体形成遮光带对彩膜基板的漏光区域进行遮挡，当不需要遮光时，控制扭转体旋转以将形成的透明带与漏光区域正对，提高显示面板的透过率，从而可以在不牺牲面板的透光率的情况下解决像素边缘漏光的问题。附图说明图1是本专利技术实施方式提供的一种遮光结构的示意图；图2是图1所示遮光结构的俯视图；图3是本专利技术实施方式提供的另一种遮光结构的示意图；图4是图3所示遮光结构的俯视图；图5是本专利技术实施方式提供的一种显示装置的示意图；图6是本专利技术实施方式提供的另一种显示装置的示意图。具体实施方式下面结合附图和实施例，对本专利技术的具体实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本专利技术，但不用来限制本专利技术的范围。图1是本专利技术实施方式提供的一种遮光结构的示意图，该遮光结构包括多个微遮光盒2，其中，每一个所述微遮光盒2包括密闭腔室，所述密闭腔室内设置有透明溶剂24、相对设置的第一电极231和第二电极232以及设置在所述第一电极231与所述第二电极232之间的扭转体，所述扭转体包括遮光部分252和透明部分251，所述遮光部分251与所述透明部分251电性不同。其中，扭转体可以通过在遮光部分带正电荷，在透明部分带负电荷而形成永久双极子，该扭转体可以为球体形状，且该扭转体中遮光部分252与透明部分251的体积相同。具体地，参见图1，在该遮光结构中，第一基板11、第二基板12以及两者间的隔离结构21形成微遮光盒2的密闭腔室，该密闭腔室充满透明溶剂24，且在其内设置有扭转体、相对设置的第一电极231和第二电极232，其中，第一电极231和第二电极232为透明材料。例如，可以使遮光部分252带正电荷，透明部分251带负电荷，当第一电极231加入正电，第二电极232加入负电时，其扭转体的排布如图1所示，其俯视图如图2所示，使得在该微遮光盒内邻近第二电极232侧形成遮光带26，临近第一电极231侧形成透明带27，当第一电极231加入负电，第二电极232加入正电时，第一电极与第二电极之间的电场控制扭转体进行旋转，旋转后的扭转体排布如图3所示，其俯视图如图4所示，使得在该微遮光盒内邻近第二电极232侧形成透明带27，临近第一电极231侧形成遮光带27。其中，参见图3，上述扭转体的直径可以为0.6L～1L，L为第一电极与所述第二电极之间的间距。其中，在该遮光结构中，多个微遮光盒可以呈阵列排布。具体地，当彩膜基板中黑矩阵与相邻像素之间存在漏光时，将该遮光结构贴附在彩膜基板上，并使遮光结构中微遮光盒与彩膜基板的漏光区相对设置，当该彩膜基板中的漏光区域需要遮光时，例如，当显示低灰阶时，可以使遮光盒中扭转体中遮光部分与彩膜基板的漏光区域正对设置，从而使得遮光盒起到遮光作用，当不需要遮光时，例如，当显示高灰阶时，人眼对漏光不敏感，此时通过改变两电极之间的电场控制扭转体进行旋转，使得扭转体中透明部分与漏光区域正对设置，从而起到透光作用，从而在不会影响显示效果的前提下，提高显示面板的透过率。此外，本专利技术实施方式还提供了一种遮光结构的制作方法，包括以下步骤：S1：在第一基板上制作绝缘层膜，并对所述绝缘层膜图形化以形成微遮光盒的隔离结构；例如，该缘薄层膜可以采用SiNx，形成的隔离结构可以如图2所示，该隔离结构为微遮光盒的外围结构，作为其密闭腔室的四个面；S2：在所述第一基板制作透明金属薄膜，并对所述透明金属薄膜图形化以在所述隔离结构的内侧形成相对设置的第一电极和第二电极；具体地，可以在上述第一基板上沉积氧化铟锡(ITO)制作透明金属薄膜，并利用光刻工艺图形化该透明金属薄膜，进而形成的如图2所示的第一电极和第二电极；S3：在所述第一电极本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种遮光结构，其特征在于，包括多个微遮光盒，每一个所述微遮光盒包括密闭腔室，所述密闭腔室内设置有透明溶剂、相对设置的第一电极和第二电极以及设置在所述第一电极与所述第二电极之间的扭转体，所述扭转体包括遮光部分和透明部分，所述遮光部分与所述透明部分电性不同。

【技术特征摘要】
1.一种遮光结构，其特征在于，包括多个微遮光盒，每一个所述微遮光盒包括密闭腔室，所述密闭腔室内设置有透明溶剂、相对设置的第一电极和第二电极以及设置在所述第一电极与所述第二电极之间的扭转体，所述扭转体包括遮光部分和透明部分，所述遮光部分与所述透明部分电性不同；所述扭转体为球体形状，所述扭转体中遮光部分与透明部分的体积相同。2.根据权利要求1所述的遮光结构，其特征在于，所述扭转体的直径为0.6L～1L，所述L为所述第一电极与所述第二电极之间的间距。3.根据权利要求1所述的遮光结构，其特征在于，所述遮光结构中多个微遮光盒呈阵列排布。4.一种遮光结构的制作方法，其特征在于，包括：在第一基板上制作绝缘层膜，并对所述绝缘层膜图形化以形成微遮光盒的隔离结构；在所述第一基板制作透明金属薄膜，并对所述透明金属薄膜图形化以在所述隔离结构的内侧形成相对设置的第一电极和第二电极；在所述第一电极和第二电极之间注入透明溶剂以及扭转体，所述扭转体包括遮光部分和透明部分，所述遮光部分与所述透明部分电性不同；所述扭转体为球体形状，所述扭转体中遮光...

【专利技术属性】
技术研发人员：徐利燕，张春兵，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，北京京东方显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11