石墨舟片卡点更换工装桌制造技术

技术编号:10314466 阅读:165 留言:0更新日期:2014-08-13 16:32
本实用新型专利技术公开了一种石墨舟片卡点更换工装桌,涉及多晶硅的制备工具技术领域。所述工装桌包括桌体和石墨舟片运输模板两部分,沿所述桌体的前后方向设有下沉的冲压机放置凹槽,所述冲压机放置凹槽的下底面设有卡点掉落孔,所述石墨舟片运输模板的上顶面间隔设置有若干个第一凹槽,所述第一凹槽的周围分别设有与石墨舟片卡点相适配的第二凹槽和与石墨舟片固定孔相适配的凸起。使用所述工装桌更换或安装石墨舟片卡点,速度快,准确,提高了工作效率,并且通过使用所述工装桌安装和拆卸卡点可避免石墨舟片的损坏,降低了生产成本。(*该技术在2024年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本技术公开了一种石墨舟片卡点更换工装桌,涉及多晶硅的制备工具
。所述工装桌包括桌体和石墨舟片运输模板两部分,沿所述桌体的前后方向设有下沉的冲压机放置凹槽,所述冲压机放置凹槽的下底面设有卡点掉落孔,所述石墨舟片运输模板的上顶面间隔设置有若干个第一凹槽,所述第一凹槽的周围分别设有与石墨舟片卡点相适配的第二凹槽和与石墨舟片固定孔相适配的凸起。使用所述工装桌更换或安装石墨舟片卡点,速度快,准确,提高了工作效率,并且通过使用所述工装桌安装和拆卸卡点可避免石墨舟片的损坏,降低了生产成本。【专利说明】石墨舟片卡点更换工装桌
本技术涉及多晶硅的制备工具
,尤其涉及一种石墨舟片卡点更换工装桌。
技术介绍
在多晶硅太阳能电池的生产中,更换PECVD (离子体增强型化学气相沉积,在太阳能电池生产过程中主要用于在硅片表面沉积一层起钝化和减反射作用的氮化硅膜)工艺使用的石墨舟片卡点时需使用手动冲压机更换。(石墨舟片=PECVD工艺过程中使用的硅片载具;手动冲压机:从石墨舟片上装、卸卡点的设备;工艺卡点:石墨舟片上用于固定硅片的销钉,卡点的位置对产品质量有很大影响。)一方本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种石墨舟片卡点更换工装桌,其特征在于:所述工装桌包括桌体(1)和石墨舟片运输模板(2)两部分,沿所述桌体(1)的前后方向设有下沉的冲压机放置凹槽(3),所述冲压机放置凹槽(3)的下底面设有卡点掉落孔(4),所述石墨舟片运输模板(2)的上顶面间隔设置有若干个第一凹槽(5),所述第一凹槽(5)的周围分别设有与石墨舟片卡点相适配的第二凹槽(11)和与石墨舟片固定孔相适配的凸起(12)。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:侯新倾句广伟
申请(专利权)人:衡水英利新能源有限公司
类型:新型
国别省市:河北;13

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