掩膜板和彩膜基板的制作方法技术

本发明专利技术提供一种掩膜板和一种彩膜基板的制作方法，属于显示装置制造技术领域，其可解决现有的相同尺寸、相同分辨率的系列彩膜基板制作过程中，只要彩膜基板上的线宽发生变更，就需要对应制作新的掩膜板从而导致生产成本升高和生产效率下降的问题。本发明专利技术的掩膜板包括第一子掩膜板和第二子掩膜板，第一子掩膜板包括第一透光区和第一透光区周围的遮光区，第二子掩膜板包括第二透光区和第二透光区周围的遮光区，第二子掩膜板与第一子掩膜板相互重叠并错开设置，用于调整第一透光区和第二透光区的透光面积以形成第三透光区。本发明专利技术的彩膜基板的制作方法包括在衬底上通过构图工艺形成黑矩阵和子像素的图形，所述构图工艺中使用的掩膜板为上述掩膜板。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于显示装置制造
，具体涉及一种。
技术介绍
薄膜晶体管液晶显不器(ThinFilm Transistor Liquid Crystal Display,简称TFT-LCD)以体积小、功耗低、无辐射、分辨率高等优点而获广泛应用。薄膜晶体管液晶显示器一般包括液晶面板和背光模组两大部分。液晶面板包括阵列基板和彩膜基板以及设置于阵列基板和彩膜基板之间的液晶层。彩膜基板包括多个像素，每个像素包括红色子像素、绿色子像素和蓝色子像素。各子像素之间设有黑矩阵，用于防止混光。彩膜基板一般以玻璃基板为衬底，制作彩膜基板时，可以先制作黑矩阵，即通过成膜、曝光、显影以及刻蚀等工艺在玻璃基板上形成黑矩阵；然后制作彩膜，即在每个子像素区域制作对应颜色的滤光片从而形成相应颜色的子像素，具体地，在需要形成红色子像素的区域制作红色滤光片，在需要形成绿色子像素的区域制作绿色滤光片，在需要形成蓝色子像素的区域制作蓝色滤光片。制作每一颜色的子像素时均需要通过成膜、曝光、显影和刻蚀等工艺，从而在玻璃基板上形成该颜色的滤光片的图案。其中，曝光工艺是指通过掩膜板(掩膜板上包括透光区和透光区周围的遮本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种掩膜板，其特征在于，包括第一子掩膜板和第二子掩膜板，第一子掩膜板包括第一透光区和第一透光区周围的遮光区，第二子掩膜板包括第二透光区和第二透光区周围的遮光区，其中，所述第二子掩膜板与第一子掩膜板相互重叠并错开设置，用于调整第一透光区和第二透光区的透光面积以形成第三透光区。

【技术特征摘要】
1.一种掩膜板，其特征在于，包括第一子掩膜板和第二子掩膜板，第一子掩膜板包括第一透光区和第一透光区周围的遮光区，第二子掩膜板包括第二透光区和第二透光区周围的遮光区，其中， 所述第二子掩膜板与第一子掩膜板相互重叠并错开设置，用于调整第一透光区和第二透光区的透光面积以形成第三透光区。2.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述掩膜板还包括透明的基底掩膜板，所述第一子掩膜板或第二子掩膜板吸附在所述基底掩膜板上。3.根据权利要求1或2所述的掩膜板，其特征在于，所述第一子掩膜板和第二子掩膜板相互吸附在一起。4.根据权利要求3所述的掩膜板，其特征在于，所述吸附为真空吸附或磁铁吸附。5.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述第一子掩膜板上的第一透光区和第二子掩膜板上的第二透光区均为多个，且所述第一、第二透光区的数量相同，所述第一、第二透光区的形状相同， 每个子掩膜板上的多个透光区为阵列排列...

【专利技术属性】
技术研发人员：查长军，方群，郭杨辰，汪栋，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，北京京东方显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11