【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及显示面板加工
，特别涉及。
技术介绍
在显示面板
，随着高分辨率显示技术的发展，显示面板中，单位尺寸内的像素个数在逐渐增加，像素尺寸在不断的减小，为了保持开口率，阵列基板中像素阵列的电极走线与彩膜基板中黑矩阵的线宽也要随之减小。在窄线宽的制备过程中，光的本质为电磁波，且电磁波本身的衍射效应，在传统的曝光显影工艺中，很难实现窄线宽工艺。 为了克服上述光的衍射效应的影响，目前实现窄线宽制备中使用的掩膜板主要有以下几种方式Wing pattern掩模设计,如图I所示,掩膜板的非透光区01的两侧设计为锯齿状凸起011,锯齿状的外边缘宽度为b,齿根部的宽度为c,曝光显影之后,基板04上得到的光刻胶012的宽度介于b和c之间，该类型的掩膜板能够通过锯齿状边缘来降低透过透光区的光在基板04上残留的光刻胶边缘处的衍射效应，能够较好地控制基板上残留的光刻胶两侧的宽度，而且该掩膜板可以通过调节b和c的值实现对得到的黑矩阵等结构线宽大小的调节。采用这种掩膜板制备窄线宽的优点是只需要更改掩模板中非透光区的锯齿设计就能实现窄线宽的效果，但是，使用该掩膜板得到的结...
【技术保护点】
一种掩膜板，其特征在于，包括掩膜板本体，所述掩膜板本体具有非透光区和透光区，所述透光区具有由光刻胶制备而成的透光膜，所述透光膜的吸光率由其中线向两侧非透光区的方向逐渐增大。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：徐向阳，邓立赟，金玟秀，杜雷，王凯，张敏，
申请(专利权)人：合肥京东方光电科技有限公司，京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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