一种装置可包括等离子体沉积单元、移动系统以及网孔系统。等离子体沉积单元可被配置为产生等离子体。移动系统可被配置为移动等离子体沉积单元下方的基板。网孔系统可位于等离子体沉积单元与基板之间，其中，网孔可包括用于沉积到基板上的一些材料，并且其中，穿过网孔的等离子体可以使一些材料中的一部分从网孔被沉积到基板上。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于使用常压等离子体进行沉积的方法和装置
本公开整体涉及制造设备，具体地，涉及将材料沉积到基板中。
技术介绍
在使数层材料沉积以形成薄膜和/或涂层来制备耐用和多功能层时，作为工艺的一部分，一层材料可沉积到基板上。薄膜沉积可与设备的制造有关。例如，这些设备可包括但不限于，半导体电路和计算机显示器。这些薄膜可以是设备的电子操作功能中的一部分或者可以用作抗侵蚀和/或磨损的保护层。在使光学涂层形成在光学器件上时也可使一层材料被沉积。例如，这些光学涂层可提供但不限于，抗反射和/或防冻性能。可以多种不同方式使材料沉积到基板上。例如，可使用物理气相沉积、化学气相沉积、电化学沉积、分子束外延以及其他类型沉积使材料沉积。某些形式的沉积可使用等离子体。例如，使用等离子体可实施化学气相沉积。该类型沉积可被称为等离子体增强化学气相沉积、等离子体气相沉积、大气等离子体沉积和/或开放空气等离子体沉积。当使用等离子体使材料层沉积时，在真空和/或大气条件下可使材料沉积到基板上。例如，基板可被涂敷有各种材料，但不限于诸如，氧化物、金属、聚合物以及其他合适类型的材料。通常，使用真空条件开发出等离子体沉积系统。然而，使用真空条件下的等离子体沉积可能要求另外的大容量昂贵设备和复杂度来获得用于使材料沉积到基板上的适当真空条件。大气沉积系统的益处可依赖于该类型沉积技术的成本效益和通用性。这些系统可被设计成移动模块化结构以用于实验室或者工厂之外的相关领域应用。大气沉积系统还可被称为开放空气沉积系统。在大气条件下，可避免用大容量、高成本的真空泵以及用于提供真空环境的其他设备。然而，这些类型的沉积系统仍然不能提供用于对基板进行处理时所需的大吞吐量。此外，这些系统在使材料沉积到基板上时不能提供根据需要进行控制。因此，采用将上述问题中至少某些以及其他可能问题考虑在内的方法和装置将是有利的。
技术实现思路
在一种有利实施方式中，一种装置可包括等离子体沉积单元、移动系统以及网孔系统。等离子体沉积单元可被配置为产生等离子体。移动系统可被配置为移动等离子体沉积单元下方的基板。网孔系统可位于等离子体沉积单元与基板之间，其中，网孔可包括用于沉积到基板上的一些材料，并且其中，穿过网孔的等离子体可以使一些材料中的一部分从网孔被沉积到基板上。在另一有利实施方式中，可提供一种使材料沉积的方法。可从等离子体沉积单元引导等离子体通过位于等离子体沉积单元与基板之间的网孔系统，其中，网孔可以由一些材料组成。等离子体可以使一些材料中的一部分从网孔被沉积到基板上。可相对于等离子体移动基板。一些材料可被沉积到基板上。在又一有利实施方式中，一种大气等离子体沉积系统可包括等离子体沉积单元、移动系统、网孔系统以及控制器。等离子体沉积单元可具有被配置为产生等离子体的一些喷嘴。移动系统可被配置为移动等离子体沉积单元下方的基板，其中，基板可选自于柔性材料和半导体基板中的一种。网孔系统可具有位于等离子体沉积单元与基板之间的一些网孔，其中，一些网孔中的某个网孔可与一些喷嘴相关联。一些网孔可包括用于沉积到基板上的一些材料。穿过网孔的等离子体可以使一些材料中的一部分从网孔被沉积到基板上。可使用选自于扇区和梯度的配置使一些材料沉积，其中，一些材料中沉积的某种材料的量以该梯度来变化。一些材料可选自于下列各项中的至少一种：导电聚合物、非导电聚合物、半导体聚合物、金属、金属合金、电介质、碳、石墨、氧化物、铝、氧化铝、氧化锌、铝铜、掺铝氧化锌、掺镓氧化锌、涂料以及高定向热解石墨。控制器可被配置为控制用于使一些材料沉积到基板上的等离子体沉积单元、移动系统以及一些参数的操作。一些参数可包括一些材料的量、用于一些材料的材料类型、一些材料的图案以及使一些材料可沉积到基板表面上的区域中的至少一种。在再一有利实施方式中，可提供一种使材料等离子体沉积在基板上的方法。基于沉积到基板上的一些材料所需的配置，可选择用于等离子体沉积单元中的一些喷嘴的网孔系统的一些网孔，其中，一些材料可选自于下列各项中的至少一种：导电聚合物、非导电聚合物、半导体聚合物、金属、金属合金、电介质、碳、石墨、氧化物、铝、氧化铝、氧化锌、铝铜、掺铝氧化锌、掺镓氧化锌、涂料以及高定向热解石墨。基板可选自于柔性材料和非柔性材料中的一种。可从等离子体沉积单元中的一些喷嘴引导等离子体通过网孔系统中的一些网孔，其中，一些网孔可位于等离子体沉积单元与基板之间，其中，网孔可以由一些材料组成，并且等离子体可以使一些材料中的一部分从网孔被沉积到基板上。可相对于等离子体移动基板，同时一些材料被沉积到基板上。总之，根据本专利技术的一方面，提供了一种装置，包括：等离子体沉积单元(110)，被配置为产生等离子体(122)；移动系统(112)，被配置为移动所述等离子体沉积单元(110)下方的基板(108)；以及网孔系统(124)，位于所述等离子体沉积单元(110)与所述基板(108)之间，其中，网孔包括用于沉积到所述基板(108)上的一些材料(104)，并且其中，穿过所述网孔的所述等离子体(122)使所述一些材料(104)中的一部分从所述网孔被沉积到所述基板(108)上。有利地，该装置进一步包括控制器(116)，被配置为控制所述等离子体沉积单元(110)和所述移动系统(112)的操作。有利地，在该装置中，所述一些材料(104)包括多种材料(151)，其中，所述多种材料中的每一种均沉积到所述基板上多个区域(153)中的一些区域上。有利地，在该装置中，所述网孔系统(124)被配置为使用选自于梯度(162)和扇区(区间，173)中的一种的配置(168)来使所述一些材料(104)沉积到所述基板(108)上，其中，所述一些材料(104)中的沉积的材料的量(191)以所述梯度(162)来变化。有利地，在该装置中，所述等离子体沉积单元(110)包括一些喷嘴(128)，并且所述网孔系统(124)包括与所述一些喷嘴(128)相关联的一些网孔(138)。有利地，在该装置中，所述一些网孔(138)由多种网孔(148)组成，其中，所述多种网孔(148)中的网孔类型选自于网孔图案(150)和材料类型(152)中的至少一种。有利地，该装置进一步包括选择为提供第二数量的材料的源(127)。有利地，在该装置中，第二数量的材料选自于液体、气体以及粉末中的至少一种。有利地，该装置进一步包括定位系统(473)，被配置为将所述等离子体沉积单元(110)围绕一些轴移动。有利地，在该装置中，一些材料(104)选自于下列各项中的至少一种：导电聚合物、非导电聚合物、半导体聚合物、金属、金属合金、电介质、碳、石墨、氧化物、铝、氧化铝、氧化锌、铝铜、掺铝氧化锌、掺镓氧化锌以及高定向热解石墨。有利地，在该装置中，等离子体沉积单元(110)选自于真空等离子体沉积单元和大气等离子体沉积单元中的一种。有利地，在该装置中，基板(108)包括柔性基板(134)。有利地，在该装置中，基板(108)包括非柔性基板(136)。有利地，在该装置中，所述控制器(116)被配置为控制作为部分工艺的所述一些材料(104)到所述基板(108)的沉积，以便形成选自于下列各项中的一种的设备：有机发光二极管显示器、集成电路、处理器、显示设备、传感器、太阳能电池、窗、挡风本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种装置，包括：等离子体沉积单元(110)，被配置为产生等离子体(122)；移动系统(112)，被配置为移动所述等离子体沉积单元(110)下方的基板(108)；以及网孔系统(124)，位于所述等离子体沉积单元(110)与所述基板(108)之间，其中，网孔包括用于沉积到所述基板(108)上的一些材料(104)，并且其中，穿过所述网孔的所述等离子体(122)使所述一些材料(104)中的一部分从所述网孔被沉积到所述基板(108)上。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2011.11.01 US 13/286,9571.一种用于使材料沉积的装置，包括：大气等离子体沉积单元(110)，被配置为产生等离子体(122)；卷带式移动系统(112)，被配置为移动所述大气等离子体沉积单元(110)下方的基板(108)；以及网孔系统(124)，位于所述大气等离子体沉积单元(110)与所述基板(108)之间，其中，网孔包括用于沉积到所述基板(108)上的一些材料(104)，并且其中，穿过所述网孔的所述等离子体(122)使所述一些材料(104)中的一部分从所述网孔释放而被沉积到所述基板(108)上，其中，所述大气等离子体沉积单元(110)包括一些喷嘴(128)，并且所述网孔系统(124)包括与所述一些喷嘴(128)相关联的一些网孔(138)，其中，所述一些网孔(138)由多种网孔(148)组成，其中，所述多种网孔(148)中的一种网孔根据网孔图案(150)和材料类型(152)中的至少一个来选择。2.根据权利要求1所述的装置，进一步包括：控制器(116)，被配置为控制所述大气等离子体沉积单元(110)和所述移动系统(112)的操作。3.根据权利要求1或者权利要求2所述的装置，其中，所述一些材料(104)包括多种材料(151)，其中，所述多种材料中的每一种均沉积到所述基板上多个区域(153)中的一些区域上。4.根据权利要求1或2所述的装置，其中，所述网孔系统(124)被配置为使用选自于梯度(162)和扇区(173)中的一种的配置(168)来使所述一些材料(104)沉积到所述基板(108)上，其中，所述一些材料(104)中的沉积的材料的量(191)以所述梯度(162)来变化。5.根据权利要求1或2所述的装置，进...
【专利技术属性】
技术研发人员：马尔维·A·马托斯，利亚姆·S·平格里，
申请(专利权)人：波音公司，
类型：发明
国别省市：美国;US
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