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用于使用常压等离子体进行沉积的方法和装置制造方法及图纸
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下载用于使用常压等离子体进行沉积的方法和装置的技术资料
文档序号:10182451
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一种装置可包括等离子体沉积单元、移动系统以及网孔系统。等离子体沉积单元可被配置为产生等离子体。移动系统可被配置为移动等离子体沉积单元下方的基板。网孔系统可位于等离子体沉积单元与基板之间,其中,网孔可包括用于沉积到基板上的一些材料,并且其中,...
该专利属于波音公司所有,仅供学习研究参考,未经过波音公司授权不得商用。
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