本发明提供一种电子枪以及带电粒子束装置。减少由设于电子枪中的引出电极的光阑所产生的二次电子的量来抑制闪光的产生。若对电子枪中的最接近于电子源(1)的引出电极(5)的光阑(7A)涂敷碳等二次电子发射率小的薄膜，则能够减少二次电子的产生量。...

本发明提供一种具备高灵敏度化了的等离子体发光检测单元的等离子体处理装置以及使用了高灵敏度化了的等离子体发光检测单元的等离子体处理方法。本发明提供一种等离子体处理装置，具备：处理室，进行等离子体处理；气体供给单元，对所述处理室供给工艺气体...

本发明提供一种带电粒子线装置，其通过使用于分离大气压空间与减压空间的薄膜周边部的结构最适化，能在大气环境或气体环境中观察试样（6）。该带电粒子线装置具备：真空排气泵（4），其对第一机箱（7）进行排气；检测器（3），其在第一机箱（7）内检...

本发明涉及等离子蚀刻方法，其与现有技术相比，能够进一步提高相对于与被蚀刻膜不同的膜的被蚀刻膜的蚀刻选择比。本发明的等离子蚀刻方法，其相对于与被蚀刻膜不同的膜选择地蚀刻所述被蚀刻膜，其特征在于，使用能够生成含有与所述膜的成分同样成分的堆积...

本发明提供一种真空处理装置(100)，其能够抑制处理的吞吐量的下降，为此，真空处理装置具备：多个真空搬运室(41，42)，其配置在大气搬运室(21)的后方，搬运被处理晶片，在真空搬运室的周围连结真空处理室(61，62，63)，真空处理室...

为了提供一种能容易地取得对带电粒子束装置的象差进行修正的象差修正器的表格数据的多极测定装置，在具备光学系统(10)、被插入象差修正器(6)的空间、和位置检测器(7)的多极测定装置中，对于在多个点进行的一次带电粒子束向象差修正器(6)的入...

为了延长场致发射型电子源的寿命，当增加扩散补偿源(1)即氧化锆的容积或重量时，存在容易对扩散补偿源(1)自身或钨针(2)带来损伤这样的课题。作为进一步的课题，还考虑为了避免上述课题而通过薄膜来形成扩散补偿源(1)的情况，但难以稳定得到超...

本发明提供一种自动分析装置，其能与反应容器、试样喷嘴的个体差无关地控制试样喷嘴的前端与反应容器的底之间的间隔，能抑制试样附着在试样喷嘴上。计算试样分注机构的试样喷嘴（11a）的前端与坐标测定用台接触后直到停止位置检测器（44）检测停止位...

用自动分析装置制作校正曲线时，难以确认制作校正曲线所需的标准液的设置错误、请求错误。并且，不能容易地掌握距离每个目标测定项目校正曲线制作结束的时间。控制部将距离每个目标测定项目的校正曲线制作结束的时间等的测定状况输出至显示部等。通过对每...

在对同一试样执行多次吸引动作的自动分析装置中，其特征在于，具备：试样分注单元（9）；液面传感器，其检测试样容器（8）内的试样的液面；运算部（5），其根据连续的二次的吸引动作中的第一吸引动作开始时检测到的液面高度（h0）及试样吸引量（V1...

本申请发明的目的在于，提供一种用于在自动分析装置上通过散射光测定法高灵敏度地测定胶乳免疫反应的装置、以及试剂方面的合适条件。因此，作为本申请发明的一个方式，使用波长0.65～0.75μm的范围的照射光，在反应容器（8）的旋转移动中，以相...

本发明高效地决定需要进行高灵敏度检查、高精度测量的部分区域。区域决定装置具备：计算部，其根据包含拍摄检查试样而得到的试样上的缺陷位置、或被预测为在试样上有可能产生缺陷的缺陷位置所得的图像在内的缺陷数据的至少多种缺陷属性信息，计算缺陷的产...

本发明提供一种即使反复顶点部分的再生处理，引出电压的变化也微小的离子源发射器。在与本发明有关的发射器中，顶端为以单原子为顶点的三角锥形形状，并且从顶点侧观察顶端的形状为近似六角形。

本发明提供自动分析装置，在将紧急检测体投入到自动分析装置的情况下，无需进行架的替换，迅速且高效地向分析装置搬运，并能够着手于紧急检测体的分析。该自动分析装置的特征在于，在是否将用户投入到自动分析装置内的架向分析部输送的判断中，识别存在于...

实现一种自动分析装置，其不需要大量的基准数据而能够高精度地检测由于各种原因造成的分注的异常，能够进行可靠性高的分析。在样品探针（15）的前端浸在试样内的状态下使柱塞（66）下降预定量后将试样吸引到探针内。用压力传感器（26）检测吸引动作...