本文描述的实施方式一般涉及用于在沉积工艺中支撑基座的基座支撑件

方法及设备利用介电阻挡物放电

本文提供了用于处理基板的方法及设备

本文提供用于在基板处理腔室中使用的升降设备的实施方式

一种化学机械抛光组件，包括化学机械抛光系统、流体源和流体递送导管，所述流体递送导管用于将流体从所述流体源输送到所述化学机械抛光系统中。所述抛光系统具有支撑抛光垫的压板、支撑基板并使所述基板与所述抛光垫接触的载体头、和引起压板与所述载体头...

此处所述的实施方式提供形成具有连续增加或减少的占空比的光学器件结构的方法

本文提供了烘烤腔室的实施方式

本文提供了用于烘烤基板的烘烤腔室及使用其的方法的实施方式

一种电子装置制造系统，所述电子装置制造系统被配置为由处理器接收反映与基板的制造工艺相关的特征的输入数据。所述制造系统被进一步配置为生成定义至少两个制造参数之间的关系的特性序列，并且确定与所述特征相关的一个或多个变量与所述特性序列之间的关...

提供了一种在用于显示器制造的基板上

一种用于化学机械抛光的载体头包括壳体、基板安装表面和保持环组件。所述保持环组件包括包围所述基板安装表面并具有用以将所述基板保持在所述基板安装表面下方的内表面的内环、用以调整在所述内环上的竖直载荷的第一致动器、包围所述内环的外环和定位在所...

描述了一种用于在真空腔室中运输物体

描述了一种用于在基板

一种抛光方法包含：用承载头将基板保持抵靠在抛光垫的抛光表面上；产生基板与抛光垫之间的相对运动；向基板的第一区域施加由第一调制函数调制的第一压力；向基板的第二区域施加由第二调制函数调制的第二压力，第二调制函数与第一调制函数正交；在基板的抛...

描述了用于在千兆像素全切片图像上将信息可视化的方法和系统

示例沉积方法可包括将氢引入到处理腔室中，粉末设置在处理腔室的处理区域内

本文描述的实施方式大体涉及低熔融温度金属或合金金属的沉积和处理

本公开的实施例涉及制品、被涂覆的制品以及用含稀土金属的氟化物涂层来涂覆这类制品的方法。所述涂层可至少包含已经被共沉积至所述制品的表面上的第一金属(例如，稀土金属、钽、锆等)和第二金属。所述涂层可包括第一金属和第二金属的均匀混合物，且不包...

本文所公开的实施方式总体涉及处理腔室中膜生长的原位监测。在一些实例中，用于处理腔室的传感器组件包括传感器管及传感器窗，此传感器管包括碳化硅且在具有在此传感器管中的光学路径，且此传感器窗包括结晶碳化硅且具有耦接到此传感器管的远端的近侧。此...

本公开内容大体而言涉及用于形成具有渐变折射率的基板的方法及装置。一种形成波导结构的方法包括从具有头部的施加器朝向在基板上形成的多个光栅结构排出等离子体。等离子体在大气压力下形成于头部中。该方法进一步包括通过从多个光栅结构移除光栅材料来用...