【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于在真空腔室中运输物体的载体、制造载体的方法、载体运输系统和真空处理设备
[0001]本公开内容的实施方式涉及用于运输载体
、
特别是用于承载大面积基板的载体的设备和方法
。
更特定地,本公开内容的实施方式涉及用于运输载体的设备和方法,该设备和方法可采用在用于竖直基板处理
(
例如,在大面积基板上沉积材料来进行显示器生产
)
的处理设备中
。
特别地,本公开内容的实施方式涉及载体运输系统
、
真空处理设备和在真空腔室中运输载体的方法
。
技术介绍
[0002]为了处理基板,可使用直列处理模块布置
。
直列处理系统包括多个相继的处理模块
(
诸如沉积模块
)
,以及任选地另外的处理模块
(
诸如清洁模块和
/
或蚀刻模块
)
,其中处理方面在处理模块中相继进行,使得可在直列处理系统中连续地或准连续地处理多个基板
。
[0003]基板典型地由载体
(
即,用于承载基板的承载装置
)
承载
。
典型地使用载体运输系统将载体运输通过真空系统
。
载体运输系统可被配置用于沿一个或多个运输路径运输承载基板的载体
。
[0004]为了获得高质量装置,需要解决关于基板的处理的技术挑战
。
特别地,将载体准确地且平滑地运输通过 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.
一种用于在真空腔室中运输物体
(10)
的载体
(100)
,包括:
‑
第一被动磁单元
(110)
,所述第一被动磁单元设置在所述载体
(100)
的顶部
(101)
处;以及
‑
第二被动磁单元
(120)
,所述第二被动磁单元设置在所述载体
(100)
的底部
(102)
或侧向侧处,所述第一被动磁单元
(110)
和所述第二被动磁单元
(120)
中的至少一者包括:
‑
磁体保持器
(121)
,所述磁体保持器具有多个凹陷部
(122)
,所述多个凹陷部布置在相对于所述磁体保持器
(10)
的纵向延度
(L)
的横向方向上,
‑
多个永磁体
(123)
,所述多个永磁体布置在所述多个凹陷部
(122)
中,以及
‑
保持片
(124)
,所述保持片覆盖所述多个永磁体
(123)。2.
根据权利要求1所述的载体
(100)
,其中所述多个凹陷部
(122)
提供多个突出部
(125)
,从而防止所述多个永磁体
(123)
在所述载体的运输方向
(T)
上或与所述运输方向相反地移位
。3.
根据权利要求1或2所述的载体
(100)
,其中所述保持片
(124)
稳固所述多个永磁体
(123)
的竖直位置
。4.
根据权利要求1至3中任一项所述的载体
(100)
,其中所述保持片
(124)
固定到所述磁体保持器
(121)。5.
根据权利要求1至4中任一项所述的载体
(100)
,其中所述磁体保持器
(121)
由铁磁材料
、
特别是铁磁不锈钢制成
。6.
根据权利要求1至5中任一项所述的载体
(100)
,其中所述磁体保持器
(121)
是单件结构,并且特别地其中所述多个突出部
(125)
被机加工于所述单件结构中
。7.
根据权利要求1至6中任一项所述的载体
(100)
,其中所述多个凹陷部
(122)
提供多个突出部
(125)
,所述多个突出部具有突出部高度
H
P
,其中所述突出部高度
H
P
是
H
P
≤0.2
×
H
M
,其中
H
M
是所述永磁体
(123)
的高度,特别地
H
P
≤0.15
×
H
M
,更特别地
H
P
≤0.10
×
H
M
。8.
根据权利要求1至7中任一项所述的载体
(100)
,其中所述多个凹陷部
(122)
设置在所述磁体保持器
(121)
的第一侧
(121A)、
特别是所述磁体保持器的底侧上,并且其中所述磁体保持器
(121)
的与所述第一侧
(121A)
相对的第二侧
(121B)
包括多个接收部
(126)
以用于接收所述保持片
(124)
的翼片来将所述保持片
(124)
固定到所述磁体保持器
。9.
根据权利要求1至8中任一项所述的载体
(100)
,其中所述保持片
(124)
由非铁磁材料
、
特别是非铁磁不锈钢制成
。10.
根据权利要求1至9中任一项所述的载体
(100)
,其中所述磁体保持器
(121)
附接到所述载体
(10)
的主体
(103)
的底部
(10...
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