本发明公开了一种用于将气体分配到处理室的装置和方法。在一个实施例中，该装置包括具有多个贯通设置的孔的气体分配板和具有多个贯通设置的孔和多个设置在其中的馈通通道的阻滞板。第一气体路径将第一气体输送通过在阻滞板中的多个孔和气体分配板。旁路气...

本发明的第一方面提供了第一方法。第一方法包括步骤：（１）用高强度等离子体将处理室预处理；（２）将衬底装入所述处理室；和（３）在所述处理室内对所述衬底进行等离子体氮化。预处理所述处理室使用的等离子体功率比所述衬底的等离子体氮化过程中使用的...

本发明公开了一种在线电子束测试系统。描述了一种用于测试衬底上的电子器件的方法和装置。在一个实施例中，该装置在至少一个室中沿一个线性轴对衬底进行测试，其中该室比被测衬底的尺寸稍宽。由于该系统较小的尺寸和体积，洁净室空间和处理时间可以被最小化。

本实用新型提供在衬底处理过程中掩模大面积衬底的多个部分。提供了一种包括屏蔽框架以及一个或多个掩模面板的屏蔽框架组件。该屏蔽框架组件形成多个处理窗孔，该处理窗孔在大面积衬底上限定多个处理区域。

本发明公开了一种适于光掩模制造中的工艺集成的方法和设备。在一个实施例中，适于光掩模制造中的工艺集成的组合工具包括真空转移室，该真空转移室具有耦合到其上的至少一个硬掩模沉积室和至少一个配置来刻蚀铬的等离子体室。在另一个实施例中，用于光掩模...

我们已经减小了光罩制造的临界尺寸偏差。向光罩衬底辐射阻挡层的图案转移基本依赖于从硬掩模的转移而不是从光刻胶的转移。在向硬掩模的图案转移过程中发生的光刻胶缩进被最小化。此外，当硬掩模材料具有与辐射阻挡层的反射特性相匹配的抗反射性能时，能够...

本发明提供了一种使用碳硬掩膜蚀刻铬并形成光掩膜的方法。在一个实施例中，蚀刻铬层的方法包括在处理室中设置衬底，所述衬底具有通过图案化的碳硬掩膜层暴露的铬层；提供含氯处理气体和一氧化碳至所述蚀刻室中；以及，保持所述处理气体的等离子体并通过所...

本发明公开了一种特别适用于基于氢化的氧碳化硅的低介电常数材料的无氧的氢等离子体灰化工艺。主要的灰化步骤包括将事先被刻蚀的电介质层暴露于从氢气（５０）、可选的氮气（５４）、大量的水蒸汽（６０）、和大量的氩气（８０）或氦气形成的等离子体（４...

本发明提供一种对光刻胶具有高选择比的无卤素无定形碳掩膜蚀刻方法。在本发明一个实施例中，使用无卤素等离子体蚀刻工艺在包含无定形碳层的多层堆叠掩膜中定义特征。在特定实施例中，应用氧气（Ｏ↓［２］）、氮气（Ｎ↓［２］）和一氧化碳（ＣＯ）蚀刻无...

一种用于扫描系统中的多光束发生器，其中所述发生器包括：声光偏转器（ＡＯＤ），所述声光偏转器在使用期间接收激光束并产生偏转光束，所述偏转光束的偏转由ＡＯＤ控制信号确定；衍射元件，所述衍射元件从所述偏转光束产生输入光束阵列；以及控制电路，所...

一种制造光检测器的方法，所述方法包括：提供衬底，所述衬底包括形成在其中的光波导并具有用于在其上制造微电子电路的表面，所述制造步骤涉及多个相继的工艺阶段；在多个相继的工艺阶段中选定的一个已经发生之后，并在多个工艺阶段中选定的一个之后的下一...

一方面，本发明提供了用于在大面积基片上形成光学器件的方法和装置。最好，大面积基片由石英、硅石或石英玻璃制成。大面积基片可以使更大的光学器件形成在单个模片上。另一方面，本发明提供了用于在大面积基片如石英基片、硅石基片和石英玻璃基片上形成集...

本发明公开了用于显示器的蓝墨水。在一个方面，蓝墨水包括一种或多种蓝色有机颜料、一种或多种单体、一种或多种聚合分散剂以及一种或多种有机溶剂。在另一个方面，蓝墨水包括一种或多种蓝色有机颜料、一种或多种紫色颜料、一种或多种单体、一种或多种聚合...

本发明提供了一种用于显示器的红色油墨。在一个方面中，所述红色油墨包含一种或多种红色有机颜料、一种或多种单体、一种或多种聚合物分散剂、以及一种或多种有机溶剂。在另一个方面中，所述红色油墨包含一种或多种红色有机颜料。一种或多种黄色颜料、一种...

本发明提供了一种用于显示器的绿色油墨。在一个方面中，所述绿色油墨包含一种或多种绿色有机颜料、一种或多种单体、一种或多种聚合物分散剂、以及一种或多种有机溶剂。在另一个方面中，所述绿色油墨包含一种或多种绿色有机颜料。一种或多种黄色颜料、一种...

一种设备，包括：　　　　至少一个打印头，其适于将墨水沉积在衬底的顶表面上，其中所述衬底相对于所述打印头运动；　　　　至少一个传感器，其适于检测从所述衬底的所述顶表面到所述至少一个传感器的间距；及　　　　控制器，其适于基于从所述传感器到所...

本发明公开一种在化学机械抛光期间减去非电介质（例如，铜）对衬底光谱的贡献的方法。尤其公开一种在抛光衬底时通过使用表面的宽带反射光谱而光学判定衬底上包括非电介质材料的区域的量以及判定覆盖在衬底的表面上金属（诸如铜）溶度的方法。该方法涉及当...

描述了监控正经历抛光的衬底的摩擦系数的系统方法和设备。抛光垫组件包括具有抛光表面的抛光层和柔性耦合到抛光层的衬底接触构件，衬底接触构件具有接触衬底的暴露表面的顶表面。顶表面的至少一部分与抛光表面基本共面。设置传感器易测量衬底接触构件的横...

本发明提供一种电化学电镀系统，包括：一个或多个用于储存电镀溶液的电镀池液池和与所述一个或多个电镀池液池流体连通的化学分析器。所述化学分析器配置来测量所述电镀溶液的化学浓度。该电镀系统还包括管道系统，所述管道系统配置来提供所述一个或多个电...

本发明公开了一种对无电沉积处理进行控制的装置和方法，所述控制是通过如下方式进行的：将电磁辐射导向衬底表面并检测衬底表面的构件上反射离开的一个或多个波长处的电磁辐射强度改变。在一种实施例中，在衬底相对于检测机构运动的同时对检测到的无电沉积...