一种紫外（ＵＶ）固化室，能够对布置在衬底上的介质材料进行固化并对其进行原位清洁。串列处理室设有两个单独并相邻的处理区域，这些处理区域由盖子所覆盖的主体限定，盖子分别位于各个处理区域上方并具有对准的窗口。每个由耦合到盖子的壳体所覆盖的处理...

一种用于溅射涂敷设备（１）的磁控管溅射源，包括至少一个阴极（３）以及设置在该阴极上或形成为该阴极的至少一个靶材（４）。靶材为衬底的涂敷和／或处理提供涂敷和／或处理材料。该磁控管溅射源还具有产生涂敷等离子体的装置及用于产生磁场的至少一个磁...

本发明涉及用于制造衬底上的ＳｉＮ：Ｈ层的方法，该ＳｉＮ：Ｈ层将光转换成电压，其中对包括硅的靶进行溅射，并且至少一个反应气体引入到靶和衬底之间的空间中，其特征在于：靶以管状靶的形式实现，并由Ａｌ的含量为２至５０ｗｔ．％的Ｓｉ基合金组成。

本发明涉及一种用于支持等离子体增强涂敷处理的装置（８），所述装置可布置在等离子体和／或待涂敷的衬底和／或为产生等离子体而提供的电极附近，其中设有框架，框架至少部分地围绕或限制了等离子体区域或平面的边或面，衬底或承载衬底的承载元件可以布置...

本发明涉及一种用于玻璃的银低Ｅ涂层，该涂层是可回火的并且可以通过溅射工艺涂覆在玻璃上。该涂层的各层是低成本的标准材料。本发明的一种实施方式组成如下：玻璃基材；玻璃上的厚度约为１５ｎｍ的Ｓｉ↓［３］Ｎ↓［４］层；Ｓｉ↓［３］Ｎ↓［４］层上...

一种涂覆设备包括处理室和气体管路系统，其用于将气体供应到涂覆设备的处理室中。气体管路系统具有用于将气体供应到气体管路系统中的供应开口和用于将气体排出气体管路系统的排出开口。管路被形成为使得在供应开口与排出开口之间的管路的流动阻力基本相等...

本发明描述了一种蒸发坩埚。所述蒸发坩埚包括：导电腔管（１２０），其具有形成封闭空间的壁，所述腔管具有管轴线（２）；第一电连接（１６２；１８２）；第二电连接（１６２；１８２），其中所述第一电连接和所述第二电连接适用于提供基本平行于所述管轴...

本发明描述了一种蒸发坩锅。所述蒸发坩锅（１００；３００；４００；５００）包括：导电主体（１２０）和盖（１５０；５００）；所述主体具有用于施加通过所述主体的加热电流的第一电连接（１６２）和第二电连接（１６４），所述主体包括提供熔融蒸发区域...

本发明涉及用于涂覆设备的灌流室，利用该灌流室能够实现更短的灌流时间，和更短的时钟循环。在其中利用了两个灌流装置，衬底对称设置在两个灌流装置之间。灌流装置将气体喷射导向到衬底。由此衬底固定在灌流装置之间。

本发明涉及一种用于在真空室内移动托架的结构。此托架形成为板形并被支撑为其狭窄侧边缘位于由驱动系统驱动的辊上。优选地利用磁性耦合作为间接驱动器，其部分位于真空室内并部分位于真空室外。在沿着竖直方向作用的力的帮助下，磁性耦合的两个部件可以相...

本发明公开了处理室、串列式涂覆设备和用于处理衬底的方法。用于等离子体增强化学汽相沉积的处理室包括集成在牢固连接于容器的接触框架中的电极。在处理室中可移动的载具承载至少一个衬底。借助于被驱动的辊定位器将载具沿着由移动界定的传送路径传送到处...

一种利用高密度等离子氧化（ＨＤＰＯ）制造工艺以在ＭＯＳ　ＴＦＴ组件中形成高质量栅极介电层的方法与设备。在实施例中，ＨＤＰＯ层形成在通道、源极与漏极区域上以形成介电界面，以及一层或多层介电层被沉积在ＨＤＰＯ层上以形成高质量栅极介电层。ＨＤ...

本发明涉及一种用于真空下持续涂覆带状基底的设备，特别适用于在基底上制备涂覆样品，具有印染辊和支承辊，将基底导向在两者之间，其中，印染辊和支承辊在可通过伺服单元调整的工作位置运转着相互连接，通过这种方式将涂层剂或隔离剂借助印染辊传递到基底...

本发明提供一种轴对称和均匀热分布的真空吸附加热器。在一些实施例中，一种真空吸盘包括：主体，具有用于在其上支撑衬底的支撑表面；多个轴对称布置的沟槽，形成于所述支撑表面中，所述沟槽中的至少一些相交；以及穿过所述主体并在所述沟槽内形成的多个吸...

本发明涉及一种在衬底上沉积层的溅射涂覆装置以及方法。溅射涂覆装置包括真空涂覆室、以及布置在涂覆室内的衬底。此外，溅射涂覆装置包括具有围绕中心轴Ａ转动的可转动靶的圆柱形中空阴极、以及布置在中空阴极内并被布置使得在可转动靶的表面上方的区域中...

本发明公开了一种用于制造半导体设备的洁净铝合金，其中该洁净铝合金的至少一部分表面通过阳极化镀层进行保护，所述洁净铝合金包含一些杂质微粒，其中至少８５％的所述杂质微粒尺寸小于５μｍ，少于１５％的所述杂质微粒的尺寸在５μｍ到２０μｍ之间，少...

本发明提供了衬底支撑组件和用于控制处理室内的衬底温度的方法。该衬底支撑组件包括导热主体，其包含不锈钢材料；衬底支撑表面，其在导热主体的表面上并适用于在其上支撑大面积衬底；一个或多个加热元件，其嵌入在导热主体内；冷却板，其定位在导热主体之...

一种分离磁体环（７０），特别有利于磁控管等离子体反应器（１０），所述反应器用于将钽、钛、钨或其他阻挡金属溅射沉积到过孔中以及从过孔底部将所沉积的材料二次溅射刻蚀到过孔侧壁上。该磁体环包括两个环形磁体环（７２、７４），所述环形磁体环具有相...

本实用新型提供了一种净化室运输封装，对运输具有许多有不同形状的舱元件的工艺舱套件是有用的。所述封装包括具有第一壁架和从第一壁架向外延伸的多个第一槽的第一刚性盘，第一壁架具有第一边，第一刚性盘可拆卸地装配到第二刚性盘，第二盘具有从第二壁架...

在本发明的第一方面中，提供了一种用于在平板显示器制造中减少墨水聚集物的设备。所述设备包括（１）适合于在喷墨打印中将墨水分配在衬底上的喷墨头；（２）适合于储存用于喷墨打印的墨水并供应墨水至所述喷墨头的墨水存储器；和（３）适合于在墨水到达所...