The present invention provides a substrate support assembly and a method for controlling the substrate temperature in a process chamber. The substrate support assembly includes a thermally conductive body, comprising a stainless steel material; a substrate support surface, the surface of the heat conductive body and adapted to support the large area substrate thereon; one or a plurality of heating elements, it is embedded in the heat conducting body; the cooling plate, its position in the heat conductor under the substrate support structure; it contains stainless steel material, positioned in the cooling plate and is suitable for supporting the heat conductor in the structure; and one or more cooling channel, which is suitable for the substrate support structure supporting and locating between the cooling plate and the substrate support structure. A treatment chamber including a substrate support assembly of the present invention is also provided.
【技术实现步骤摘要】
本专利技术的实施例一般地提供了一种在平板衬底处理中使用的衬底支撑。
技术介绍
液晶显示器或平板显示器(FPD)通常用于诸如计算机和电视监视器、个人数字助理(PDA)、蜂窝电话、以及太阳能电池等的有源阵列显示器。通常，平板显示器包括将一层液晶材料夹在其间的两个玻璃板。玻璃板中的至少一个包括布置于其上的至少一个导电膜，该导电膜耦合到电源。从电源供应到导电膜的电能改变液晶材料的取向，而在平板显示器上产生诸如文字或图像之类的图案。通常，用于平板制造的衬底在尺寸上较大，通常超过550mm×650mm，并预计在表面积上会达到并超过4平方米。因此，用于处理大面积衬底的衬底支撑成比例地较大以容纳大表面积的衬底。经常用于制造平板显示器的制造工艺包括化学气相沉积(CVD)和物理气相沉积(PVD)。其中，用于将薄膜沉积在衬底上的等离子体增强化学气相沉积(PECVD)通常通过将前驱气体引入到真空处理室以被激励(例如，激发)成为等离子体来实现。图1是处理室2的示意性剖视图，该处理室2具有布置在其中的温度受控衬底支撑或基座22以支撑衬底。通过处理室2的顶部附近的气体入口14、挡流板44和...
【技术保护点】
一种衬底支撑组件，其适用于支撑处理室内的大面积衬底，所述衬底支撑组件包括： 导热主体，其包含不锈钢材料； 衬底支撑表面，其在所述导热主体的表面上并适用于在其上支撑所述大面积衬底； 一个或多个加热元件，其嵌入在所述导热主体内； 冷却板，其定位在所述导热主体之下； 基体支撑结构，其包含不锈钢材料，定位在所述冷却板之下并适用于在结构上支撑所述导热主体；和 一个或多个冷却通道，其适用于由所述基体支撑结构支撑并定位在所述冷却板与所述基体支撑结构之间。
【技术特征摘要】
...
【专利技术属性】
技术研发人员：稻川真，细川明广，
申请(专利权)人：应用材料公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]
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