涂敷装置和涂敷方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种可容易地确定狭缝喷嘴的平行基准及高度基准、并可准确地进行涂敷时基板表面与狭缝喷嘴下端之间距离的微调的涂敷装置。该涂敷装置，在基板放置部（３）的涂敷开始位置侧的侧面的宽度方向的两端，分别安装有用于确定狭缝喷嘴（５）的水平基准及高度基准的基准夹具（６、６）。该基准夹具（６）具有可升降的测长触头（８），该测长触头（８）利用弹簧等向上方施力，将其下止点设为测长触头（８）的上表面与基板放置部（３）的上表面齐平的位置，并以该位置作为高度方向的基准点。

Coating apparatus and coating method

The invention provides a coating device capable of easily determining parallel reference and height reference of slit nozzle and precisely adjusting distance between substrate surface and lower end of slit nozzle when coating. The coating device placed in the substrate (3) at both ends of the coating starting width side side, are respectively provided with a slit nozzle (5) is used to determine the level of reference fixture reference and height datum (6, 6). The reference fixture (6) with long contact measuring lifting (8), the length measuring contact (8) using spring force to the top, the next stop point for measuring contact (8) and the upper surface of the substrate placing part (3) on the surface level and position. In this position as a reference point to the high side.

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种对玻璃基板、半导体晶片等基板涂敷显影液、清洗液、SOG溶液及抗蚀剂等的。
技术介绍
在液晶(LCD)、PDP(等离子体显示器)、半导体元件等的制造过程中，为了在基板上形成各种覆层，或者为了涂敷清洗液或显影液，而使用具有狭缝喷嘴的涂敷装置。近来，伴随基板尺寸的大型化倾向，增加了一种边使宽幅的狭缝喷嘴相对于基板在一个方向相对地移动边进行涂敷的涂敷装置来取代边使基板旋转边进行涂敷的以往的旋转涂敷。具有这样的狭缝喷嘴的涂敷装置，其优点在于，即使是大型基板也可在其表面形成均匀的厚膜。但是，也具有一些其它的问题。例如，难以适当调整涂敷时基板表面与狭缝喷嘴下端的距离、即涂敷间隙，就是问题之一。其原因在于，必须对宽幅的狭缝喷嘴的整个宽度设定相同的涂敷间隙，并且，狭缝喷嘴受到将涂敷液排出到基板时的反作用而上下移动，从而使涂敷间隙变得不稳定，导致涂膜产生起伏等。以往，在狭缝喷嘴的移动部设置基准夹具，将狭缝喷嘴放置在该基准夹具上，由此确定狭缝喷嘴的水平，之后，使用塞尺(厚度计)用肉眼对狭缝喷嘴与基板放置平台之间的空隙，即、涂敷间隙进行微调。因此，存在因人为因素而引起的误差较大，且欠缺本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种涂敷装置，从可与基板非接触地相对移动的狭缝喷嘴向放置于基板放置部上的基板排出涂敷液，在上述基板上形成涂膜，该涂敷装置的特征在于，在上述基板放置部的涂敷开始侧的宽度方向的两端部，设置有用于确定上述狭缝喷嘴的水平基准及高度基准的基准 夹具，上述基准夹具具有可升降的测长触头，该测长触头被控制为其上表面停在与上述基板放置部表面具有相同的表面高度的位置。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：高濑真治，楫间淳生，
申请(专利权)人：东京应化工业株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]