应用材料公司专利技术

应用材料公司共有6594项专利

  • 本发明公开以先进缓冲层技术生长III族氮化物半导体化合物的方法。在实施例中,本发明的方法包括于氢化物气相外延处理系统的处理腔室中提供合适的衬底。所述方法包括通过下列步骤形成AlN缓冲层:将氨气流入处理腔室的生长区内,将含卤化铝前驱物流至...
  • 本发明公开以先进多重缓冲层技术生长高结晶质量III族氮化物外延层的方法。在实施例中,本发明的方法包括在氢化物气相外延处理系统的处理腔室中的合适衬底上形成含铝III族氮化物缓冲层。在缓冲层沉积期间,将卤化氢或卤素气体流入生长区内,以抑制均...
  • 用于预处理III族氮化物沉积的方法
    本公开内容的实施方式涉及用于预处理基板和III族氮化物层以制造诸如发光二极管(LED)、激光二极管(LD)或功率电子器件之类的器件的方法。本公开内容的一个实施方式提供一种方法,包括以下步骤:提供一个或更多个具有含铝表面的基板至处理腔室中...
  • 一种计算机实施的方法包括:用实地光学监测系统获得至少一个当前光谱,将所述当前光谱与多个不同的参考光谱进行比较,和基于所述比较来确定对于具有经受抛光的最外层的基板来说是否已到达抛光终点。所述当前光谱是从基板反射的光的光谱,所述基板具有经受...
  • 本发明的实施例一般提供在太阳能电池制造中利用激光的材料移除方法与设备。在一个实施例中,提供的设备准确地依照所欲图案移除沉积于太阳能电池基材上的介电层的部分并沉积导电层于图案化的介电层上。在一个实施例中,设备还依所欲图案移除导电层的部分。...
  • 本发明的实施例提供用于使用电容式传感器将基板放置于处理腔室中的设备和方法。本发明的一个实施例提供用于处理基板的设备。设备包括设置在内空间中的第一电容式传感器和第二电容式传感器。第一电容式传感器放置为在第一角位置处检测基板的边缘的位置。第...
  • 用于原子层沉积的设备
    本发明的实施例提供了用于例如等离子体增强ALD(PE-ALD)的原子层沉积(ALD)的设备。在一个实施例中,提供了莲喷头组件,其包括莲喷头板,该莲喷头板具有上表面、下表面、从莲喷头板的中心向外边缘延伸的半径,与上表面和下表面流体相通的第...
  • 本发明提供了形成电池活性材料的组合物和方法。可将电池活性金属阳离子和反应阴离子的溶液与燃料混合以产生前驱物混合物,所述前驱物混合物可用于合成沉积到基板上的电池活性材料。电池活性金属阳离子包括锂、锰、钴、镍、铁、钒等等。反应阴离子包括硝酸...
  • 本文揭示了用于气体输送的方法和设备。在一些实施例中,气体输送系统包括:安瓿,该安瓿用于储存固态或液态前驱物;第一导管,该第一导管耦接至该安瓿且该第一导管具有耦接至第一气源第一末端,以将前驱物的蒸气从安瓿中抽取到第一导管中;第二导管,该第...
  • 在此提供一种用于从半导体晶片的含铜与介电质的结构移除氧化铜的方法。所述含铜与介电质的结构可通过化学机械平坦化处理(CMP)平坦化,并且通过所述方法处理所述结构而移除氧化铜与CMP残余物。在氢气(H2)与紫外线(UV)环境中的退火移除氧化...
  • 本发明公开的化学输送系统的实施例可包括:外壳;设置在外壳内的第一隔室,且第一隔室具有运送第一组化学物种的多个第一导管,第一隔室进一步具有帮助净化气体流经该第一隔室的第一吸气开口和第一排气开口;和设置在外壳内的第二隔室,且第二隔室具有运送...
  • 用于在涂覆工艺中钝化柔性基板的装置和方法
    一种用于钝化柔性基板的涂层的装置包括涂敷腔室、腔室分隔元件、涂敷滚筒和进气口,所述涂敷腔室用于涂敷柔性基板,所述腔室分隔元件设置用于分隔所述涂敷腔室与另一腔室,所述涂敷滚筒和所述腔室分隔元件形成一缝隙,所述进气口设置在所述腔室分隔元件内...
  • 反应沉积工艺的气体系统
    本发明描述了被配置成用于具有多个间隔开的坩埚120的反应沉积工艺的气体喷枪单元,其中在所述坩埚之间提供间隔。气体喷枪单元包括气体导管130和冷凝液导向元件140,所述气体导管130具有用于为反应沉积工艺提供气体4的一个或多个出口30,所...
  • 一种用于蚀刻腔室部件的填充聚合物组成。本发明揭示了一种具有改良抗等离子体性的填充聚合物组成。该组成包括分散于聚合物基质的粒子填充料。该粒子填充料可为五氧化二铌(Nb2O3)、三氟化钇(YF3)、氮化铝(AlN)、碳化硅(SiC)或四氮化...
  • 本发明提供用于原子层沉积设备的气体分配板,该等气体分配板包括热线或热线单元,该热线或热线单元可经加热以在处理基板时激发气体物种。本发明亦描述使用热线激发气体前体物种来处理基板的方法。
  • 利用间隔物掩模的频率加倍
    本发明利用间隔物掩模的频率加倍。本发明描述了一种用于制造半导体掩模的方法。首先提供具有牺牲掩模和间隔物掩模的半导体叠层。所述牺牲掩模由一系列线构成,并且所述间隔物掩模包括与所述一系列线的侧壁邻接的间隔物线。接着,修剪所述间隔物掩模。最后...
  • 本发明的实施例大体上系关于用于光电模块的具有多层的导电箔及形成该些导电箔的方法。导电箔通常包括具有一或更多金属层的铝箔层,其中安置在该铝箔层上的接触电阻减少。耐蚀材料及介电材料通常安置于金属层的上表面上。导电箔可在建构光电模块之前形成于...
  • 本发明提供一种用以沉积电活性材料在挠性导电基板上的喷涂模块。该喷涂模块包含:第一受热滚筒,该第一受热滚筒用以加热且传送该挠性导电基板;第二受热滚筒,该第二受热滚筒用以加热且传送该挠性导电基板;第一喷涂分散器,该第一喷涂分散器定位成邻近该...
  • 本发明一般涉及一种刷新的静电夹盘与一种用于刷新已使用的静电夹盘的方法。一开始,从已使用的静电夹盘移除预定量的电介质材料,以留下基部表面。接着,粗糙化所述基部表面,以提高新的电介质材料对基部表面的粘着性。接着,在粗糙化表面上喷洒新的电介质...
  • 本发明提供用于确定处理腔室清洁工艺的终点的方法及设备。在一些实施方式中,具有终点检测系统的处理系统可包括:处理腔室,所述处理腔室具有内表面,所述内表面由于在处理腔室中执行的工艺而需要定期清洁;及终点检测系统,所述终点检测系统包括光检测器...